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JPS6037613B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents
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JPS6037613B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents

Manufacturing method of solid electrolytic capacitor

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JPS6037613B2
JPS6037613B2 JP8817380A JP8817380A JPS6037613B2 JP S6037613 B2 JPS6037613 B2 JP S6037613B2 JP 8817380 A JP8817380 A JP 8817380A JP 8817380 A JP8817380 A JP 8817380A JP S6037613 B2 JPS6037613 B2 JP S6037613B2
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JP
Japan
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capacitor element
reconversion
capacitor
liquid
solid electrolytic
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裕司 川嶋
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NEC Home Electronics Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は固体電解コンデンサの製造方法に関し、特に半
導体層形成工程後に行われるコンデンサェレメントの再
化成処理に原因して発生する不良を低減させることを目
的とするものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, and particularly aims at reducing defects caused by reconversion treatment of a capacitor element performed after a semiconductor layer forming process. be.

一般に固体電解コンデンサは例えば第1図に示すように
、タンタル、ニオブ、アルミニウムなどのように弁作用
を有する金属粉末を円柱状に加圧成形し焼結してなるコ
ンデンサェレメントAに予め弁作用を有する金属線を陽
極リードBとして楯立し、この陽極リードBの突出部分
に第1の外部リード部材Cを溶接すると共に、第2の外
部リード部材DをコンデンサェレメントAの周面に酸化
層E、半導体層Fを介して形成された電極引出し層Gに
半田付けし、然る後、コンデンサェレメントAの全周面
を樹脂材刊こて被覆して構成されている。
、ところで、このコンデンサェレメン
トAの表面には化成処理による誘電体としての酸化層E
が形成され、さらにその上に二酸化マンガンなどの半導
体層Fが形成されているのであるが、特に半導体層形成
工程において、200〜40000の加熱処理が行われ
ることもあって、酸化層が劣化し漏洩電流特性などが損
なわれる傾向にある。
In general, solid electrolytic capacitors are made by press-molding metal powder such as tantalum, niobium, aluminum, etc., which has a valve action, into a cylindrical shape and sintering the capacitor element A, as shown in Figure 1. A metal wire having the following properties is stood up as an anode lead B, a first external lead member C is welded to the protruding part of this anode lead B, and a second external lead member D is oxidized to the circumferential surface of the capacitor element A. The capacitor element A is soldered to the electrode lead layer G formed through the layer E and the semiconductor layer F, and then the entire circumferential surface of the capacitor element A is coated with a resin material.
By the way, on the surface of this capacitor element A, there is an oxide layer E as a dielectric material formed by chemical conversion treatment.
is formed, and a semiconductor layer F such as manganese dioxide is formed thereon. However, in the semiconductor layer formation process in particular, a heat treatment of 200 to 40,000 degrees Celsius is sometimes performed, so the oxide layer deteriorates. Leakage current characteristics etc. tend to be impaired.

従って、従来においては例えば第2図に示すように、コ
ンデンサヱレメントAを再化成液に浸潰し、コンデンサ
ェレメントA及び再化液に、コンデンサェレメントAが
プラス、再化成液がマイナスとなるように直流電圧を印
加することによって再化成処理が行われている。
Therefore, in the past, for example, as shown in Fig. 2, capacitor element A is immersed in reconversion liquid, and capacitor element A and reconversion liquid have a positive value and a negative value of the reconversion liquid. Reconversion treatment is performed by applying a direct current voltage.

この処理によって大部分のコンデンサェレメントAにお
ける酸化層Eは修復され、品位の高いコンデンサを得る
ことができるものである。しかし乍ら、半導体層形成工
程などにおいて、酸化層Eの劣化が甚しいコンデンサェ
レメントAにあっては酸化層Eが修復されることなく、
再化成電圧の印加によって逆に酸化層Eが一層破壊され
てしまい、過大な電流が集中的に流れるようになる。
This treatment repairs most of the oxide layer E in the capacitor element A, making it possible to obtain a high quality capacitor. However, in the capacitor element A where the oxide layer E is severely degraded during the semiconductor layer forming process, the oxide layer E is not repaired.
On the contrary, the application of the reformation voltage further destroys the oxide layer E, causing an excessive amount of current to flow intensively.

このようなコンデンサエレメントAはコンデンサとして
の機能が全く消失し不良となるのであるが、その周辺に
位置するコンデンサェレメントAも製品後において耐電
圧特性の劣化などによって不良となり、酸化層形成時の
電圧に対する再化成電圧の割合が高くなればなる程、そ
の不良発生率は増加するようになる。この原因について
は明らかではないが、過大な電流が流れたコンデンサェ
レメントAの周面に位遣するコンデンサェレメントAの
外表面が黒褐色などに変色していることから、半導体層
Fとして用いている二酸化マンガンなどよりマンガンイ
オンなどが遊離して付着することによって特性劣化させ
ているように考えられる。
Capacitor element A like this completely loses its function as a capacitor and becomes defective, but capacitor element A located around it also becomes defective due to deterioration of withstand voltage characteristics after production, and due to the formation of an oxide layer. The higher the ratio of the reforming voltage to the voltage, the higher the defect occurrence rate will be. The cause of this is not clear, but since the outer surface of capacitor element A, which is placed around the circumference of capacitor element A through which an excessive current has flowed, is discolored to blackish brown, it is difficult to use it as semiconductor layer F. It is thought that the properties are deteriorated due to the adhesion of manganese ions, etc., which are released from manganese dioxide.

通常、再化成電圧は酸化層Eの工程劣化に関連して化成
電圧より低く設定しなければならないのであるが、化成
電圧に近似させることができればできるほど、良品とし
て残存するコンデンサェレメントAの特性グレードは高
くなり、好ましいものである。
Normally, the re-formation voltage must be set lower than the formation voltage due to process deterioration of the oxide layer E, but the closer it can be to the formation voltage, the better the characteristics of the capacitor element A that will remain as a good product. The grade is higher, which is preferable.

しかし乍ら、上述のように多くのコンデンサェレメント
Aの中には再化成処理中に不良になるものがあり、これ
に原因してさらに多くの不良が発生することもあって、
やむなく再化成電圧はそのような不良発生を極力抑制し
うるような低い電圧に設定されているために、特性グレ
ードの高いコンデンサを得ることが難しいという問題が
ある。
However, as mentioned above, some of the capacitor elements A become defective during the reconstitution process, and this may cause even more defects to occur.
Since the re-formation voltage is unavoidably set to a low voltage that can suppress the occurrence of such defects as much as possible, there is a problem that it is difficult to obtain a capacitor with a high characteristic grade.

本発明はこのような点に鑑み、再化成処理時に特定のコ
ンデンサェレメントが不良になっても、その周辺のコン
デンサェレメントに対する悪影響を極力軽減させうる固
体電解コンデンサの製造方法を提供するもので、以下に
その一製造方法について第3図〜第4図を参照して説明
する。まず、第3図に示すように、弁作用を有する金属
粉末を円柱状に加圧成形し焼結してなるコンデンサェレ
メントーに予め弁作用を有する金属線を陽極リード2と
して楯立する。
In view of these points, the present invention provides a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor that can minimize the adverse effects on surrounding capacitor elements even if a specific capacitor element becomes defective during reconversion treatment. , one manufacturing method will be explained below with reference to FIGS. 3 and 4. First, as shown in Fig. 3, a metal wire having a valve action is placed in advance as an anode lead 2 on a capacitor element formed by press-molding metal powder having a valve action into a cylindrical shape and sintering it. .

そして、このコンデンサェレメント1を帯状の金属板よ
りなるホルダー3に、陽極リード2の上端部分を一定の
ピッチ間隔にて固定することによって吊設し、帯状部品
4を形成する。そして、コンデンサェレメント1の表面
に通常の方法によって酸化層5、半導体層6を順次形成
する。次に、第4図に示すように、この帯状部品4を容
器7に一定のピッチ間隔となるように整列して載遣する
。尚、この容器7の一方の壁面7aには容器7に再化成
液8を供給するパイプ9が、他方の壁面7bには再化成
液8を排出するパイプ10がそれぞれ適宜の部所に設け
られている。又、容器7の底部には電極板11が、再化
成液8の上面に相当する部分にはコンデンサェレメント
1の底面に対応する部分に孔12を有する隔壁部13が
それぞれ配談されている。この状態において、パイプ9
より容器7に再化成液8を圧送すると、再化成液8は隔
壁部13の孔12から噴き上り、コンデンサェレメント
1の底面、側周面に薮触し、一部はコンデンサェレメン
ト1に含浸される。そして、再化成液8がコンデンサェ
レメント1に充分に含浸された状態において、ホルダー
3、電極板11に、ホルダー3がプラス、電極板11が
マイナスとなるように直流電圧を印加すると、それぞれ
のコンデンサェレメント1‘ま再化成される。そして、
コンデンサェレメント1に接触して隔壁部13上に流下
した再化成液8はパイプ10を通して強制的に排出され
る。尚、この状態において、特定のコンデンサェレメン
トーの酸化層5が破壊され過大な電流が流れた場合、半
導体層6として二酸化マンガンを用いていると、多量の
マンガンイオンが遊離されるのであるが、再化成液8の
接触によって洗い流される関係で、周辺のコンデンサヱ
レメント1に付着することはない。以下、通常の方法に
よって固体電解コンデンサを得る。このようにコンデン
サェレメント1の再化成処理に際し、それぞれのコンデ
ンサェレメント1には再化成液8が例えば独立して接触
しているために、仮に特定のコンデンサェレメントーの
不良に起因して多量のマンガンイオンが遊離しても直ち
に洗い流されてしまう。
Then, this capacitor element 1 is suspended from a holder 3 made of a band-shaped metal plate by fixing the upper end portions of the anode leads 2 at a constant pitch interval, thereby forming a band-shaped component 4. Then, an oxide layer 5 and a semiconductor layer 6 are sequentially formed on the surface of the capacitor element 1 by a conventional method. Next, as shown in FIG. 4, the band-shaped parts 4 are arranged and placed in a container 7 at a constant pitch. Incidentally, a pipe 9 for supplying the reconversion liquid 8 to the container 7 is provided on one wall surface 7a of the container 7, and a pipe 10 for discharging the reconversion liquid 8 is provided at appropriate locations on the other wall surface 7b. ing. Further, an electrode plate 11 is provided at the bottom of the container 7, and a partition wall 13 having a hole 12 is provided at a portion corresponding to the top surface of the reconversion liquid 8 and a portion corresponding to the bottom surface of the capacitor element 1. . In this state, pipe 9
When the reconstituted liquid 8 is pumped into the container 7, the reconstituted liquid 8 squirts up from the hole 12 of the partition wall 13, contacts the bottom and side surfaces of the condenser element 1, and a part of the reconstituted liquid 8 flows into the condenser element 1. Impregnated. Then, when the reconversion liquid 8 is sufficiently impregnated into the capacitor element 1, a DC voltage is applied to the holder 3 and the electrode plate 11 so that the holder 3 becomes positive and the electrode plate 11 becomes negative. The capacitor element 1' is then reconstituted. and,
The reconversion liquid 8 that has come into contact with the condenser element 1 and flowed down onto the partition wall 13 is forcibly discharged through the pipe 10. In this state, if the oxide layer 5 of a particular capacitor element is destroyed and an excessive current flows, a large amount of manganese ions will be liberated if manganese dioxide is used as the semiconductor layer 6. However, it does not adhere to the surrounding capacitor element 1 because it is washed away by contact with the reconversion liquid 8. Hereinafter, a solid electrolytic capacitor is obtained by a conventional method. In this way, during the reconversion treatment of the capacitor elements 1, each condenser element 1 is contacted with the reconversion liquid 8 independently, so that even if a defect in a particular capacitor element is caused, Even if a large amount of manganese ions are released, they are immediately washed away.

このために、マンガンイオンの周辺のコンデンサェレメ
ント1への付着を防止でき、特性劣化も防止できる。尚
、接触後の再化成液8が噴き上げるべき再化成液8に少
々混入されても特性面への影響は無視できる。
For this reason, adhesion of manganese ions to the surrounding capacitor element 1 can be prevented, and characteristic deterioration can also be prevented. Note that even if a small amount of the recycled liquid 8 after contact is mixed into the recycled liquid 8 to be spouted, the effect on the characteristics can be ignored.

又、コンデンサェレメント1に対する再化成液8の噴き
上げは独立して行わなくても、絶えず噴き上げた再化成
液8がコンデンサェレメント1に接触し流下するように
構成すれば、上述のようにコンデンサェレメント1の不
良によって多量のマンガンイオンが遊離しても周辺のコ
ンデンサェレメントーへの付着を防止できる。
Furthermore, even if the reconversion liquid 8 is not spouted up to the capacitor element 1 independently, if the reconversion liquid 8 that is constantly spouted up comes into contact with the condenser element 1 and flows down, the condenser element 1 can be sprayed as described above. Even if a large amount of manganese ions are released due to a defect in element 1, it is possible to prevent them from adhering to surrounding capacitor elements.

特に再化成電圧を通常より高すれば、再化成処理時にい
くつかのコンデンサェレメント1は不良になるものの、
それの周辺のコンデンサエレメント1に対する悪影響を
防止できることもあって、再化成処理に耐え抜いたコン
デンサェレメント1の特性グレードは大中に改善できる
In particular, if the re-forming voltage is higher than normal, some capacitor elements 1 will become defective during the re-forming process;
Partly because it is possible to prevent an adverse effect on the surrounding capacitor element 1, the characteristic grade of the capacitor element 1 that has survived the reconversion treatment can be significantly improved.

しかも、これによって特性グレ−ドを従来と同等程度に
設定すれば、その分だけコンデンサェレメント1を構成
する金属部材の使用量を節減でき、有効にコストを低減
できる。
Moreover, by setting the characteristic grade to the same level as the conventional one, the amount of metal members used to form the capacitor element 1 can be reduced by that much, and costs can be effectively reduced.

次に具体的実施例について説明する。Next, specific examples will be described.

タンタル粉末を用いて3.5少×4.仇吻の円柱状に加
圧成形し焼結してなる3VIOO仏F用のコンデンサェ
レメントの表面に燐酸水溶液を化成液として酸化層(T
a205)を形成する。このコンデンサェレメントを硝
酸マンガン溶液に浸潰し、充分に含浸させた後、引上げ
て加熱処理することによって酸化層上に二酸化マンガン
層(半導体層)を形成する。このコンデンサェレメント
を2つのグループに分割し、一方のグループは再化成電
圧を化成電圧の50%に、多方のグル〜プは70%に設
定すると共に、コンデンサェレメントの底面及び側周面
に再化成液が噴流式の噴き上げによて接触するようにし
て再化成処理する。以下通常の方法にて固体タンタル電
解コンデンサを製作する。このコンデンサの再化成工程
における不良発生率を調査した処、下表に示す結果が得
られた。
Using tantalum powder, 3.5 x 4. An oxidized layer (T
a205) is formed. This capacitor element is immersed in a manganese nitrate solution, sufficiently impregnated, and then pulled up and heat treated to form a manganese dioxide layer (semiconductor layer) on the oxide layer. This capacitor element is divided into two groups, one group sets the re-formation voltage to 50% of the formation voltage, and the other group sets it to 70%, and the bottom and side circumferential surfaces of the capacitor element are Reconversion treatment is carried out by bringing the reconversion liquid into contact with the product by blowing up the reconversion liquid. A solid tantalum electrolytic capacitor is manufactured using the following conventional method. We investigated the failure rate during the re-forming process of this capacitor, and the results shown in the table below were obtained.

上表より明らかなように、本発明品は従来品に比し、再
化成電圧が高くても低くても不良発生率が著しく小さく
なっている。これは再化成処理時に発生した不良による
周辺への悪影響が殆んどないことに原因している。尚、
本発明は何ら上記実施例にのみ制約されることなく、例
えばコンデンサェレメントは金属粉末を所望形状に加圧
成形する他、板材、線材などにて構成することもできる
As is clear from the table above, the product of the present invention has a significantly lower failure rate than the conventional product, regardless of whether the reconstitution voltage is high or low. This is due to the fact that there is almost no negative impact on the surrounding area due to defects that occur during the reconversion process. still,
The present invention is not limited to the above-described embodiments; for example, the capacitor element may be formed by pressure-molding metal powder into a desired shape, or may be formed from a plate material, a wire material, or the like.

又、再化成液の噴き上げは噴流方式による他、圧送など
によって行うこともできるし、その噴き上げ部所もコン
デンサェレメントの底面に対向する部分にのみ制約され
ない。以上のように本発明によれば、再化成処理時に特
定のコンデンサェレメントが不良になっても、その周辺
に位置するコンデンサェレメントに対する悪影響を効果
的に軽減でき、コンデンサとしての品位を高めることが
できる。
In addition, the re-forming liquid can be spouted up not only by a jet method but also by pressure feeding, and the spouting location is not limited to the portion facing the bottom of the condenser element. As described above, according to the present invention, even if a specific capacitor element becomes defective during reconstitution treatment, the adverse effect on capacitor elements located around it can be effectively reduced, and the quality of the capacitor can be improved. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の固体電解コンデンサの側断面図、第2図
は再化成方法を説明するための側断面図、第3図〜第4
図は本発明方法の説明図であって、第3図はコンデンサ
ェレメントをホルダーに吊設した状態を示す要部破断側
面図、第4図は再化成方法を説明するための側断面図で
ある。 第1図第2図 第3図 第4図
Figure 1 is a side sectional view of a conventional solid electrolytic capacitor, Figure 2 is a side sectional view for explaining the reconstitution method, and Figures 3 to 4.
The figures are explanatory diagrams of the method of the present invention, and Fig. 3 is a cutaway side view of the main part showing a state in which the capacitor element is suspended in a holder, and Fig. 4 is a side sectional view for explaining the reconversion method. be. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 弁作用を有する金属部材にて構成され、かつその表
面に酸化層、半導体層の形成された複数のコンデンサエ
レメントを同時に再化成処理するに際し、コンデンサエ
レメントを再化成液に、それの噴き上げによつて接触さ
せると共に、接触後の再化成液を噴き上げるべき再化成
液に極力混入しないように排出することを特徴とする固
体電解コンデンサの製造方法。
1. When simultaneously reconforming multiple capacitor elements that are made of a metal member with valve action and have an oxide layer and a semiconductor layer formed on their surfaces, the capacitor elements are treated with a reconversion liquid by spraying it out. 1. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, comprising the steps of: contacting the solid electrolytic capacitor; and discharging the recycled liquid after contact so as to prevent it from mixing with the recycled liquid to be spouted as much as possible.
JP8817380A 1980-06-27 1980-06-27 Manufacturing method of solid electrolytic capacitor Expired JPS6037613B2 (en)

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