JPS6020391B2 - ジベンゾピラン類の製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（ｍ） 〔ただし、式中Ｒ，およびＲ２はそれぞれ低級アルキル
基、アリール（ａひ１）基、カルポキシル基またはアル
コキシカルボニル基を表し、それらは同一であっても、
異なっていてもよい。

また、Ｒ，とＲ２は結合していてもよく、たとえばそれ
は炭素環状化合物で表わされる〕で示されるペンゾピラ
ン類の製造法に関するものである。本発明に関連する従
来技術としては、フェネチルアルコール類とホルムアル
デヒドまたはパラホルムアルデヒドとを反応させること
によって環化したペンゾピラン（インクロマン）類を得
る方法が知られている（フランス特許第２０８８斑６号
）。

しかしながら、このようなアルデヒドに代えて、ケトン
との反応については不明である。上記技術状況に鑑み、
本発明者らは新規ペンゾピラン類を得るべく、フェネチ
ルアルコール類とケトンとの反応を検討した結果、本発
明を完成させるに至った。

その要旨は次の式によって示される。

（ただし、式中Ｒ，およびＲ２は前記と同意義を表す）
本合成法によれば前記のジベンゾピラン類は２−（３−
ヒドロキシフエニル）シクロヘキサノール（１）とケト
ン（ロ）とを無触媒あるいは塩酸、パラトルェンスルホ
ン酸、トリクロル酢酸等の触媒の存在下、無溶媒あるい
は適当な溶媒中反応させることによって製造される。

この時の溶媒としては、反応に関与しないものならなん
でもよく、例えばメタノール、エタノール、プロピルア
ルコール類、ブチルアルコール類、アミルアルコール類
等の低級アルコール類であり、また一般式ロのカルボニ
ル化合物類をそのまま溶媒とすることも出来る。反応温
度は物質によって異なるが、常温から２００ｏｏ程度が
好ましい。

反応時間は１時間から３０時間程度である。次に使用す
るケトンとしては具体的にはシク。

へキサノン、アセトフェノン、ピルピン酸メチル等であ
るが、これら上記の化合物に限定されるものではなく、
一般式（ロ）で示されるケトンであれば大部分の化合物
が本発明に適用出来る。また、カルボン酸ェステル類（
Ｗ）をアルカリまたは酸触媒の存在下加水分解してカル
ボン酸類（Ｖ）を製造することが出釆る。〔ただし、式
中Ｒ３は低級アルキル基またはアリール（ａひ１）基を
表し、Ｒ４は低級アルキル基を表す〕ェステルの加水分
解の触媒としてはアルカリ類として水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等があ
り、水あるいは含水アルコール等の溶媒中で加水分解す
る。

また、酸触媒としては塩酸、臭化水素酸および硫酸等が
ある。本発明者らは先に３ーヒドロキシフェネチルアミ
ン類とカルボニル化合物との反応により、種々の１，１
ージ置換インキノリン類（特許第６１１８９４号及び特
許第６５７８９６号）およびフェナンススリジン類（特
開昭４７−２７９７９）を合成した。

今回はフヱネチルアミンの窒素を酸素におき換えてジベ
ンゾピランの合成に応用したのである。原料の２一（３
−ヒドロキシフヱニル）シクロヘキサノール１は２−（
３ーヒドロキシフエニル）シクロヘキサノンを還元する
ことによって得られるが、還元剤の種類によってトラン
ス体ｌａおよびシス体ｌｂの割合が変化する。たとえば
ラーデンブルグ環元することによりトランス体ｌａおよ
びｌｂを４：１の割合で得た。一方、水素化ホウ素ナト
リウムで還元するとトランス体ｌａおよびシス体ｌｂを
２：１の割合で得た。

また、パラジウム一炭素の存在下接触還元ではトランス
体ｌａおよびシス体比を１：２０の割合で得た。

トランス体およびシス体の構造の確認はそれぞれのアセ
チル体の核磁気共鳴スペクトルより決定した。これらト
ランス体ｌａおよびシス体ｌｂはそれぞれケトン（０）
と反応してジベンゾピラン類を製造することが出来る。

また、トランス体あるいはシス体とケトン（Ｒ，ＣＯＲ
２）とを反応させる際、Ｒ，とＲ２が異なる場合はジア
ステレオアィソマ−が存在する。当該化合物のある種の
ものは抗炎症作用等を有するものであり、従って当該化
合物は医療上の価値を有する。

次に実施例にて本発明を説明するが、これらをもって本
発明を制限されるものではない。

実施例 １ ２−（３−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサノールの
製法Ａ ２一（３ーヒドロキシフエニル）シクロヘキサ
ノン１．１夕をエタノール５０の‘に溶解し、金属ナト
リウム２．２夕を少しづつ加える。

さらに１時間加熱還流し溶媒蟹去する。水５０泌を加え
、エーテル洗浄後、塩酸酸性とし酢酸エチルで抽出する
。硫酸マグネシウム乾燥後溶媒留去し、淡黄色の残留物
を得。このものはトランス体ｌａおよびシス体比を４：
１の割合で含む。エタノールにて再結晶し無色プリズム
晶１．０夕（９０％）（ｌａ：ｌｂ＝６：１）を得。こ
のものをエーテル一石油エーテルの展開溶媒にて、シー
」カゲル薄層クロマトにて分離し、融点１４４一１４５
ｏのｌａ７５０の９（７８％）を得た。元素分析値 Ｃ
，２日，６０２ 計 算 値 Ｃ，７４．９７：日，８．３９実 験 値
Ｃ，７５．０８；日，８．６４８ ２一（３−ヒドロ
キシフエニル）シクロヘキサノン２夕をェタノル６０の
‘に溶解し、３０％パラジウム−炭素１夕を加えて接触
還元に付し、反応後エタノールを蟹去して残留物をベン
ゼンーェーテル（５：１）の展開溶媒にて、シリカゲル
カラムクロマトに付し、融点１１４ｏの無色プリズマ晶
としてｌｂ４０５の９（２０％）を得た。

元素分析値 Ｃ，２日，６０２計 算 値 Ｃ，７４．
９７：日，８．３９実 験 値 Ｃ，７５．０３：日，
８．６４さらに融点１５４一１５？の無色プリズム晶と
してｌａ２０雌（１％）を得。

このものはＡ）の方法で得られた試料ｌａと混融ならび
に機器データの比較により同一であることを確認した。
実施例 ２１−アセトキシ−２−（３ーアセトキシフエ
ニル）シクロヘキサンの製法Ａ １ａｌｏｏ被９を無水
酢酸２地に溶解し、１０ぴ０で３時間加熱する。

減圧下無水酢酸を蟹去して、ｌａのアセチル体を無色油
状物として、１３７の夕（９５％）を得。赤外吸収スペ
クトル（Ｍｕｉｄ）１７３０弧‐１１．９０（畑，一重
線，ＣＨ‐０‐ＣＯ−ＣＨ凶）２．１６（祖，一重線，
ｐｈ−０‐ＣＯＣＨ３）２．３０（ＩＨ，六重線，ｐｈ
−ＣＨ，Ｊ＝１．０８，１０．８および３．組Ｚ）４．
８０（ＩＨ，六重線，ＣＨ３ＣＯＯ−ＣＨ，Ｊ＝１０．
８，１０．８および４．２Ｈｚ）６．７２−７．２４（
４日，多重線，芳香核プロトン）Ｂ １ｂｌｏｏ帆を無
水酢酸２の‘に溶解し１００℃で３時間加熱する。

減圧下無水酢酸を蟹去して、ｌｂのアセチル体を無色油
状物として１３５のｏ（９４％）を得。赤外吸収スペク
トル（Ｍｕｉｄ） １７３０肌‐１ １７６山地‐１（Ｃ＝○）核磁気共鳴
スペクトル６（四塩化炭素）１．８４（乳日，一重線，
ＣＨ‐０‐ＣＯＣＨ地）２．１６（班，一重線，ｐｈ−
０‐ＣＯ−ＣＨ３）２．７２（ＩＨ，八重線，ｐｈ−Ｃ
Ｈ，Ｊ＝１０．８，４．０および２．４Ｈｚ）５．０２
（ＩＨ，一重線，Ｃ比ＣＯＯ−ＣＨ）６．７−７．２（
４日，多重線，芳香核プロトン）実施例 ３１，２，３
，傘，１血一へキサヒドロー６−スピロシクロヘキサノ
−母日一ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピランー９−オール（ｍａ
）の製法Ａ １ａｌｇ，エタノール２０Ｍ，シクロヘキ
サノン５地の混合物をオートクレープ中２００００で４
糊時間加熱する。

溶媒蟹去後、シリカゲルカラムクロマトでエーテルーベ
ンゼンを用いて分離し融点１７９一１８０ｏ の無色プ
リズム晶として３９仇ｏ（２８％）を得。核磁気共鳴ス
ペクトル（ムージメチルスルフオキサイド）３．２（Ｉ
Ｈ，一ＣＨＯＨ） ６．６５（ＩＨ，四垂線，芳香核プロトン，Ｊ＝２．３
および８．細Ｚ）６．７５（ＩＨ，二重線，芳香核プロ
トン，Ｊ＝２．３Ｈｚ）６．９５（ＩＨ，二重線，芳香
核プロトン，Ｊ＝８，細Ｚ）８．６１（ＩＨ，一重線，
ｐｈＯＨ） 元素分析値 Ｃ，８日２４０２ 計 算 値 Ｃ，７９．３７；日，８．８８実 験 値
Ｃ，７９．４６：日，８．鞠さらに原料４２０の９が
回収された。

Ｂ １ａｌｇ，エタノール５０叫，シクロヘキサノン５
の【および濃塩酸１私の混液を１曲時間加熱還流する。

溶液留去後、残留物をベンゼン−へキサンより再結晶し
て融点１７９−１８００の無色プリズム晶１．２夕（８
６％）を得。これはＡ）で得られたものと機器分析が一
致した。Ｃ １ａｌｇ，エタノール５０の【，シクロヘ
キサノン５の【およびパラトルェンスルホン酸２５０の
ｃの混液を１虫時間加熱還流する。

溶媒蟹去後残留物をベンゼン−へキサンより再結晶して
融点１７９一１８０ｏの無色プリズム晶１．１ｇ（７８
％）を得。これはＡ）で得られたものと一致した。実施
例 ４ １，２，３，４，傘，１帆一へキサヒドロー６ーメチル
ー６ーフエニルー母日一ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９
−オール（ｍｂ）の製法ｌａを，エタノール８０の【，
アセトフェノン１０の‘，および濃塩酸３私の混液を２
岬時間加熱還流する。

溶媒留去後、ベンゼン抽出し、水洗する。さらに１０％
水酸化ナトリウム水溶液で抽出し、水層を塩酸で酸性と
しベンゼン抽出する。ベンゼンを蟹去して残留物をベン
ゼンより再結晶する。融点１２８−１３０ｏの無色針状
晶２錐（７５％）を得。核磁気共鳴スペクトル（公一ジ
メチルスルホキサイド）３．３−３．８（ＩＨ，一ＯＣ
Ｈ） ６．８３（ＩＨ，四重線，芳香核プロトン，Ｊ＝２，３
および８．粕Ｚ）６．９３（ＩＨ，二重線，芳香核プロ
トン，Ｊ＝２．９ＨＺ）７．１５（ＩＨ，二重線，芳香
核プロトン，Ｊ＝８．９Ｈｚ）元素分析値 Ｃ２虹２２
０２ 計 算 値 Ｃ，８１．６０：日，７．５３．実 験
値 Ｃ，８１．８６：日，７．７２．実施例 ５１，２
，３，４，処，１肋−へキサヒドロー６ーカルボキシ−
６ーメチルー８日ージベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オ
ール（ｍｃ）の製法Ａ １ａ２．略，エタノール２０叫
，ピルビン酸メチル聡および濃塩酸１の‘の混液を水浴
上１０時間加熱還流する。

反応後溶媒を蟹去し、１０％水酸化ナトリウム水溶液２
０の‘を加え水浴上１時間加熱する。水溶液を１０％塩
酸水溶液で酸性としてェーナル抽出する。

エーテル層を飽和重そう溶液で抽出する。水層を１０％
塩酸水溶液で酸性として析出する結晶をエタノール−水
より再結晶し融点２００−２０２ｏの無色プリズム２．
槌（８５％）を得。赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）１７
００仇‐１（Ｃ〇〇Ｈ）核磁気共鳴スペクトル（キージ
メチルスルホキシド）１．６０（祖，一重線，ＣＨ３） 元素分析値 Ｃ，５日，８０４ 計 算 値 Ｃ，６８．６８；日，６．９２．実 験
値 Ｃ，６８．斑；日，６．７５Ｂ 実施例６で得られ
るｍｄｌｇと１０％水酸化ナトリウム水溶液１０机上の
混液を１００００１時間加熱し、冷後１０％塩酸水溶液
を加えて析出する結晶をエタノール−水より再結晶して
融点２００−２０２の無色プリズム晶０．７難（８３％
）を得。

このものはＡ）で得たものと機器分析が一致した。実施
例 ６１，２，３，４，傘，ｌｏｂーヘキサヒドロー６
ーメトキシカルボニル一６ーメチル−ｑＨージベンゾ〔
ｂ，ｄ〕ピランー９ーオール（ｍｄ）製法ｍｃｌｇを塩
酸ガス飽和のメタノール２０の‘に溶解し３時間加熱還
流する。

メタノール蟹去後ベンゼン−ｎーヘキサンより再結晶し
て融点１９６−１擬ｏの無色プリズム晶０．班段（８９
％）を得。赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）３３５ルス‐
１（ＯＨ） １７２０仇‐１（Ｃ。

）核磁気共鳴スペクトル （ムージメチルスルホキシド） １．６ （３日，一重線，ＣＨ３） ３．５５（斑，一重線，ＣＯＯＣＨ３） 実施例 ７ ６一置換−１，２，３，４，傘，１血−へキサヒドロ−
細‐ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン誘導体の製法実施例３−
ＢおよびＣ）と同様な反応条件下でｌａと種々のカルボ
ニル化合物とを溶媒中、酸融媒の存在下に加熱還流、反
応後処理し、表１に示すジベンゾピラン誘導体（ｍｅ，
囚ｆ，ｍｇ，ｍｈ，ｍｉ，ｍｊ，皿ｋ，ｍｌ，ｍｍ，ｍ
ｎ，ｍｏおよびｍｐ）を得た。

表２に実施例７で得られた化合物の元素分析値を示した
。

表 １ 注） 注）「触媒」において、Ｔはパラトルヱンスルホン酸を
、日は濃塩酸を表わし、また「溶媒」において、Ｅはエ
タノールを、Ｂはベンゼンを表わすものとする。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ２−（３−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサノー
   ル（I）▲数式、化学式、表等があります▼ と一般式（II） Ｒ＿１ＣＯＲ＿２ （II） 〔ただし、式中Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれ低級ア
   ルキル基、アリール（ａｒｙｌ）基、カルボキシル基ま
   たはアルコキシカルボニル基を表わし、それらは同一で
   あっても、異なつていてもよい。 また、Ｒ＿１とＲ＿２は結合していてもよく、たとえば
   それは炭素環状化合物で表わされる〕で示されるケトン
   とを反応させることを特徴とする一般式（III）▲数式
   、化学式、表等があります▼ 〔ただし、式中Ｒ＿１お
   よびＲ＿２はそれぞれ前記定義と同一とする〕で示され
   るジベンゾピラン類の製造法。