JPS6011710B2 - ジベンゾピラン−６−酢酸類及びジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法 - Google Patents
ジベンゾピラン−６−酢酸類及びジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法Info
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- JPS6011710B2 JPS6011710B2 JP753276A JP753276A JPS6011710B2 JP S6011710 B2 JPS6011710 B2 JP S6011710B2 JP 753276 A JP753276 A JP 753276A JP 753276 A JP753276 A JP 753276A JP S6011710 B2 JPS6011710 B2 JP S6011710B2
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- dibenzopyran
- acetic acids
- alkyl group
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
（式中、Ｒ，は低級アルキル基を表し、Ｒ２は水素原子
および低級アルキル基を表す）で示されるジベンゾピラ
ン−６−酢酸類及びその製造法に関するものである。
および低級アルキル基を表す）で示されるジベンゾピラ
ン−６−酢酸類及びその製造法に関するものである。
その製造法の要旨は次の式によって示される。
（式中、Ｒ，及びＲ２は前記と同意義を表す）本発明の
ジベンゾピランー６一酢酸類は、２一（３ーヒドロキシ
フエニル）シクロヘキサノール（０）とケト酸類（ｍ）
とを無触媒、あるいは塩酸、パラトルヱンスルホン酸、
トリクロル酢酸等の触媒の存在下、無溶媒あるいは適当
な溶媒中反応せしめることによって製造される。この際
の溶媒としては、反応に関与しないものならなんでもよ
く、例えばメタノール、エタノール、プロピルアルコー
ル類、ブチルアルコール類、アミルアルコール類等の低
級アルコール類、ベンゼン、トルェン、キシレン等の炭
化水素類が用いられる。また、一般式（ｍ）のケトカル
ボン酸類をそのまま溶媒とすることも出来る。反応温度
は常温から２００ｏｏ程度が好ましい。反応時間は１時
間から３加持間程度である。次に使用するケトカルボン
酸としては、例えばァセト酢酸、プロピオニル酢酸、プ
チリル酢酸およびそのェステル類等であるが、これら上
記化合物に限定されるものではない。また、ジベンゾピ
ラン−６−酢酸ェステル類（Ｗ）をアルカリまたは酸触
媒の存在下加水分解してジベンゾピランー６一酢酸類（
Ｖ）を製造することが出来る。
ジベンゾピランー６一酢酸類は、２一（３ーヒドロキシ
フエニル）シクロヘキサノール（０）とケト酸類（ｍ）
とを無触媒、あるいは塩酸、パラトルヱンスルホン酸、
トリクロル酢酸等の触媒の存在下、無溶媒あるいは適当
な溶媒中反応せしめることによって製造される。この際
の溶媒としては、反応に関与しないものならなんでもよ
く、例えばメタノール、エタノール、プロピルアルコー
ル類、ブチルアルコール類、アミルアルコール類等の低
級アルコール類、ベンゼン、トルェン、キシレン等の炭
化水素類が用いられる。また、一般式（ｍ）のケトカル
ボン酸類をそのまま溶媒とすることも出来る。反応温度
は常温から２００ｏｏ程度が好ましい。反応時間は１時
間から３加持間程度である。次に使用するケトカルボン
酸としては、例えばァセト酢酸、プロピオニル酢酸、プ
チリル酢酸およびそのェステル類等であるが、これら上
記化合物に限定されるものではない。また、ジベンゾピ
ラン−６−酢酸ェステル類（Ｗ）をアルカリまたは酸触
媒の存在下加水分解してジベンゾピランー６一酢酸類（
Ｖ）を製造することが出来る。
ェステルの加水分解の触媒としては、アルカリ類として
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等があり、水あるし、は含水アルコール等
の溶媒中加水分解する。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等があり、水あるし、は含水アルコール等
の溶媒中加水分解する。
また酸触媒としては、塩酸、臭化水素酸および硫酸等が
ある。原料である２一（３ーヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサノール（ロ）はシス体およびトランス体が存在
するが、それぞれケトカルボン酸類と反応して、ジベン
ゾピランー６一酢酸類を製造することが出来る。
ある。原料である２一（３ーヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサノール（ロ）はシス体およびトランス体が存在
するが、それぞれケトカルボン酸類と反応して、ジベン
ゾピランー６一酢酸類を製造することが出来る。
当該化合物のある種のものは、抗炎症作用及び鎮痛解熱
作用を有し、従って当該化合物は医療上の価値を有する
。
作用を有し、従って当該化合物は医療上の価値を有する
。
例えば１１２・３・４・傘・ｌｏｂーヘキサハイドロー
６ーハイドロキシカルボニルメチルー６ーメチル−母日
一ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９ーオールはラツトにお
けるカラゲニン浮腫抑制スクリーニングにおいてフェニ
ルブタゾンの１／２程度の抗炎症作用が認められた。次
に実施例にて本発明を説明するが、これらをもって本発
明は制限されるものではない。実施例 １ １・２・３・４・傘・ｌｏｂ−へキサハイドロー６ーハ
イドロキシカルボニルメチル−６ーメチル−母日一ジベ
ンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９−オールの製造法‘ａ’２−
（３−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサノール１夕、
アセト酢酸エチルェステル２夕、ｐートルヱンスルホン
酸０．３夕およびベンゼン１０の‘の混液を１期時間加
熱還流する。
６ーハイドロキシカルボニルメチルー６ーメチル−母日
一ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９ーオールはラツトにお
けるカラゲニン浮腫抑制スクリーニングにおいてフェニ
ルブタゾンの１／２程度の抗炎症作用が認められた。次
に実施例にて本発明を説明するが、これらをもって本発
明は制限されるものではない。実施例 １ １・２・３・４・傘・ｌｏｂ−へキサハイドロー６ーハ
イドロキシカルボニルメチル−６ーメチル−母日一ジベ
ンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９−オールの製造法‘ａ’２−
（３−ヒドロキシフエニル）シクロヘキサノール１夕、
アセト酢酸エチルェステル２夕、ｐートルヱンスルホン
酸０．３夕およびベンゼン１０の‘の混液を１期時間加
熱還流する。
溶媒留去後１０％ＮａＯＨ水溶液１ｏｗ‘を加えて、１
００ｑｏで１時間加熱する。袷後水層に１０％ＨＣＩ水
溶液を加え酸性とし、Ｅら○抽出する。Ｅｔ２０層を飽
和ＮａＨＣ０３水溶液で抽出し、水層をＥｔ２０にて洗
浄する。水層を１０％ＨＣＩ水溶液にて酸性とし、再び
Ｅｔぬ抽出する。Ｅｔの層をＮａ夕０４にて乾燥後、溶
媒留去し、残留物をベンゼンより再結晶してｍｐ１７２
〜１７５ｏの無色プリズム晶７００の９（４９％）を得
。元素分析値 Ｃ，幻２ｏ０４ 計算値：Ｃ、６９．５４：日、７．３０ 実験値：Ｃ、６９．７９；日、７．１６ 赤外線吸収スペクトル（ｋＢｒ） １７２０肌‐１（Ｃ＝０） 核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣ１３） １．６瓜血（犯、一重線、Ｃ−ＣＨ３） 紫外線吸収スペクトル〔ｎｍ（ｌｏｇご）〕２７８．５
（３．３８）｛ｂ｝ 実施例２で得られるジベンゾピラ
ン−６−酢酸メチルヱステル１夕を１０％ＮａＯＨ水溶
液１０の‘に溶解し、１０００で１時間加熱する。
００ｑｏで１時間加熱する。袷後水層に１０％ＨＣＩ水
溶液を加え酸性とし、Ｅら○抽出する。Ｅｔ２０層を飽
和ＮａＨＣ０３水溶液で抽出し、水層をＥｔ２０にて洗
浄する。水層を１０％ＨＣＩ水溶液にて酸性とし、再び
Ｅｔぬ抽出する。Ｅｔの層をＮａ夕０４にて乾燥後、溶
媒留去し、残留物をベンゼンより再結晶してｍｐ１７２
〜１７５ｏの無色プリズム晶７００の９（４９％）を得
。元素分析値 Ｃ，幻２ｏ０４ 計算値：Ｃ、６９．５４：日、７．３０ 実験値：Ｃ、６９．７９；日、７．１６ 赤外線吸収スペクトル（ｋＢｒ） １７２０肌‐１（Ｃ＝０） 核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣ１３） １．６瓜血（犯、一重線、Ｃ−ＣＨ３） 紫外線吸収スペクトル〔ｎｍ（ｌｏｇご）〕２７８．５
（３．３８）｛ｂ｝ 実施例２で得られるジベンゾピラ
ン−６−酢酸メチルヱステル１夕を１０％ＮａＯＨ水溶
液１０の‘に溶解し、１０００で１時間加熱する。
冷後１０％ＨＣＩ水溶液にて酸性としてＥｔ２０抽出す
る。Ｅｔ２０層をＮａ２Ｓ０４にて乾燥、溶媒留去して
、残留物をベンゼンより再結晶してｍｐ１７２〜１７５
０の無色プリズム晶０．５７夕（６０％）を得。本品は
ａで得られたものと機器分析データ一が一致した。実施
例 ２ １・２・３・４・傘・ｌｏｂーヘキサハイドロ−６ーメ
トキ．シカルボニルメチルー６ーメチルー母日一ジベン
ゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９−オールの製造法実施例１で得
られたジベンゾピラソー６−酢酸１夕をＭｅＯＨ２０奴
に溶解し、塩酸ガスを飽和して、２時間加熱還流する。
る。Ｅｔ２０層をＮａ２Ｓ０４にて乾燥、溶媒留去して
、残留物をベンゼンより再結晶してｍｐ１７２〜１７５
０の無色プリズム晶０．５７夕（６０％）を得。本品は
ａで得られたものと機器分析データ一が一致した。実施
例 ２ １・２・３・４・傘・ｌｏｂーヘキサハイドロ−６ーメ
トキ．シカルボニルメチルー６ーメチルー母日一ジベン
ゾ〔ｂ・ｄ〕ピランー９−オールの製造法実施例１で得
られたジベンゾピラソー６−酢酸１夕をＭｅＯＨ２０奴
に溶解し、塩酸ガスを飽和して、２時間加熱還流する。
反応後溶媒留去し、無色カラメル状物１．０夕（９５％
）を得。赤外線吸収スペクトル（ｋＢｒ） １７３０肌‐１（Ｃ＝０） ３４００肌‐１（〇Ｈ） 核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣ１３） １．５弦伽（細、一重線、Ｃ−Ｃ舷） ３．４劫四（紺、一重線、Ｃ−Ｃ広）
）を得。赤外線吸収スペクトル（ｋＢｒ） １７３０肌‐１（Ｃ＝０） ３４００肌‐１（〇Ｈ） 核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣ１３） １．５弦伽（細、一重線、Ｃ−Ｃ舷） ３．４劫四（紺、一重線、Ｃ−Ｃ広）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を表し、Ｒ＿２は水素
原子および低級アルキル基を表す）で示されるジベンゾ
ピラン−６−酢酸類。 ２ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ と一般式 Ｒ＿１ＣＯＣＨ＿２ＣＯＯＲ＿２（III） （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を表し、Ｒ＿２は水素
原子および低級アルキル基を表す）で示されるケト酸類
とを反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式
、表等があります▼（式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を
表し、Ｒ＿２は水素原子および低級アルキル基を表す）
で示されるジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法。 ３ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を表し、Ｒ＿３は低級
アルキル基を表す）を加水分解することを特徴とする一
般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は低級アルキル基を表す）で示されるジ
ベンゾピラン−６−酢酸類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP753276A JPS6011710B2 (ja) | 1976-01-28 | 1976-01-28 | ジベンゾピラン−６−酢酸類及びジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP753276A JPS6011710B2 (ja) | 1976-01-28 | 1976-01-28 | ジベンゾピラン−６−酢酸類及びジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52105174A JPS52105174A (en) | 1977-09-03 |
| JPS6011710B2 true JPS6011710B2 (ja) | 1985-03-27 |
Family
ID=11668382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP753276A Expired JPS6011710B2 (ja) | 1976-01-28 | 1976-01-28 | ジベンゾピラン−６−酢酸類及びジベンゾピラン−６−酢酸類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011710B2 (ja) |
-
1976
- 1976-01-28 JP JP753276A patent/JPS6011710B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52105174A (en) | 1977-09-03 |
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