JPS6023762B2 - 感光性樹脂の製造方法 - Google Patents
感光性樹脂の製造方法Info
- Publication number
- JPS6023762B2 JPS6023762B2 JP16896679A JP16896679A JPS6023762B2 JP S6023762 B2 JPS6023762 B2 JP S6023762B2 JP 16896679 A JP16896679 A JP 16896679A JP 16896679 A JP16896679 A JP 16896679A JP S6023762 B2 JPS6023762 B2 JP S6023762B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- reaction
- nitro
- ester group
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Epoxy Resins (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は側鎖に芳香族アジド基を有する感光性重合体を
製造する方法に関するものである。
製造する方法に関するものである。
従来より側鎖にアジド基を有する高分子はよく知られて
おり、感光性樹脂として使われている。芳香族アジド基
を高分子に導入するには、これまで、芳香族ジアゾニウ
ム塩とアジ化ナトリウムの反応を利用する方法が行われ
ていたが、この様な反応では、反応の際多量の窒素を発
生するので生成物の量に比べて大きな反応器が必要であ
り特に、高分子のジアゾニウム塩を溶液中でアジド化す
る場合は高粘度のため発泡によって液量が膨張する為、
大きい反応器を用いるか又は、アジドの分割添加が必要
であった。又、アジド安息香酸やアジドベンズアルデヒ
ドなどで変性したフェニルアジド基を有する高分子は、
光吸収波長が短いので通常、１−ェトロピレン、１，８
ージニトロピレンなどの芳香族ニトロ化合物が増感剤と
して添加されているが、これらの中には発ガン性をもつ
ものもあり、使用上好ましくないものであった。
おり、感光性樹脂として使われている。芳香族アジド基
を高分子に導入するには、これまで、芳香族ジアゾニウ
ム塩とアジ化ナトリウムの反応を利用する方法が行われ
ていたが、この様な反応では、反応の際多量の窒素を発
生するので生成物の量に比べて大きな反応器が必要であ
り特に、高分子のジアゾニウム塩を溶液中でアジド化す
る場合は高粘度のため発泡によって液量が膨張する為、
大きい反応器を用いるか又は、アジドの分割添加が必要
であった。又、アジド安息香酸やアジドベンズアルデヒ
ドなどで変性したフェニルアジド基を有する高分子は、
光吸収波長が短いので通常、１−ェトロピレン、１，８
ージニトロピレンなどの芳香族ニトロ化合物が増感剤と
して添加されているが、これらの中には発ガン性をもつ
ものもあり、使用上好ましくないものであった。
又、最近においてポリビニルアルコールを２−クロロー
５−ニトロ（又は３−ニトロ−４−クロロ）安息香酸塩
化物によってェステル化したのち、これをァジ化ナトリ
ウムと反応させて２−アジドー５−ニトロ（又は３−ニ
トロ−４−アジド）安息香酸ェステル基を含むポリビニ
ルアルコール譲導体を合成し感光性樹脂を製造する方法
も提案されているが、この方法ではポリビニルアルコー
ルを落籍させるために特殊な溶媒が必要になり、又、不
安定で毒性も強い上記酸塩化物を用いる必要があるなど
の不利な点がある。
５−ニトロ（又は３−ニトロ−４−クロロ）安息香酸塩
化物によってェステル化したのち、これをァジ化ナトリ
ウムと反応させて２−アジドー５−ニトロ（又は３−ニ
トロ−４−アジド）安息香酸ェステル基を含むポリビニ
ルアルコール譲導体を合成し感光性樹脂を製造する方法
も提案されているが、この方法ではポリビニルアルコー
ルを落籍させるために特殊な溶媒が必要になり、又、不
安定で毒性も強い上記酸塩化物を用いる必要があるなど
の不利な点がある。
本発明は上述の如き現状にかんがみ、特に大きい反応器
やアジド基を有する物質を分割添加する必要がなく簡単
に製造出来、又、溶媒も特殊なものに限られることなく
広い範囲から選択することが出釆、さらに毒性の強い物
質を用いずともよい感光性樹脂の製造方法を提供するこ
とを目的としてなされたものであり、その要旨は２−ク
ロロ−５−ニトロ安息香酸又は３ーニトロ−４−クロロ
安息香酸をェポキシ基を含む高分子と反応させたのち、
アジ化ナトリウムと反応させることによって、側鎖に２
−アジド−５−ニトロ安息香酸ェステル基又は３−ニト
ロ−４ーアジド安息香酸ヱステル基を含む高分子を生成
せしめることを特徴とする感光性樹脂の製造方法に存す
る。
やアジド基を有する物質を分割添加する必要がなく簡単
に製造出来、又、溶媒も特殊なものに限られることなく
広い範囲から選択することが出釆、さらに毒性の強い物
質を用いずともよい感光性樹脂の製造方法を提供するこ
とを目的としてなされたものであり、その要旨は２−ク
ロロ−５−ニトロ安息香酸又は３ーニトロ−４−クロロ
安息香酸をェポキシ基を含む高分子と反応させたのち、
アジ化ナトリウムと反応させることによって、側鎖に２
−アジド−５−ニトロ安息香酸ェステル基又は３−ニト
ロ−４ーアジド安息香酸ヱステル基を含む高分子を生成
せしめることを特徴とする感光性樹脂の製造方法に存す
る。
本発明に用いられるェポキシ基を含む高分子はその種類
は特に限定されることはないが、好適な例としてグＩＪ
シジル（メタ）アクリレート系重合体、ビスフェノール
型ェポキシ樹脂、ノポラック型樹脂のェポキシ化物等が
挙げられる。
は特に限定されることはないが、好適な例としてグＩＪ
シジル（メタ）アクリレート系重合体、ビスフェノール
型ェポキシ樹脂、ノポラック型樹脂のェポキシ化物等が
挙げられる。
本発明方法にもとすいて感光性樹脂を製造するには、ま
ず上記ェポキシ基を含む高分子を２−クロロー５ーニト
ロ安息香酸又は３−ニトロ−４ークロロ安息香酸と反応
させる。この反応は通常上記高分子が溶かされた溶液に
上記安息香酸を加えて櫨梓下に加熱することにより行わ
れるが、その際塩基性触媒例えば第４級アンモニウム塩
などの適宜な触媒を用いるのが好ましい。次に上記反応
による生成物を反応液から、沈澱生成−炉過等の手法に
より取り出し、該生成物をァジ化ナトリウムと反応させ
る。この反応は上記生成物を適宜な溶剤例えばジメチル
ホルムアミドに溶かした溶液にアジ化ナトリウムを加え
て蝉拝することによって行うことが出来、必要ならば常
温以下に冷却してもよい。この場合、所定量のアジ化ナ
トリウムを分割することなく一括して加えることが出来
、又、特に大きい反応器を使用する必要はなく、簡単に
反応させることが出来る。上記反応によって生成する反
応生成物は側鎖に２ーアジドー５−ニトロ安息香酸ヱス
テル基又は３−ニトロ−４−アジド安息香酸ェステル基
を含む高分子であり、この反応生成物は反応液より沈澱
法等により簡単に取り出されることが出来る。
ず上記ェポキシ基を含む高分子を２−クロロー５ーニト
ロ安息香酸又は３−ニトロ−４ークロロ安息香酸と反応
させる。この反応は通常上記高分子が溶かされた溶液に
上記安息香酸を加えて櫨梓下に加熱することにより行わ
れるが、その際塩基性触媒例えば第４級アンモニウム塩
などの適宜な触媒を用いるのが好ましい。次に上記反応
による生成物を反応液から、沈澱生成−炉過等の手法に
より取り出し、該生成物をァジ化ナトリウムと反応させ
る。この反応は上記生成物を適宜な溶剤例えばジメチル
ホルムアミドに溶かした溶液にアジ化ナトリウムを加え
て蝉拝することによって行うことが出来、必要ならば常
温以下に冷却してもよい。この場合、所定量のアジ化ナ
トリウムを分割することなく一括して加えることが出来
、又、特に大きい反応器を使用する必要はなく、簡単に
反応させることが出来る。上記反応によって生成する反
応生成物は側鎖に２ーアジドー５−ニトロ安息香酸ヱス
テル基又は３−ニトロ−４−アジド安息香酸ェステル基
を含む高分子であり、この反応生成物は反応液より沈澱
法等により簡単に取り出されることが出来る。
かくして得られた上記高分子はその側鎖に含まれる上記
ェステル基の作用によって紫外線に感光する性質を示す
ので、感光性樹脂として各種エッチング材や感光膜の用
途に用いられる。本発明は上述の通りの方法であるので
、感光性樹脂を、特に大きい反応器を用いたり、材料を
分割添加したり、毒性の強い化合物を用いたり又、使用
する溶媒を特殊なものに制限されたりすることなく簡単
に製造することが出来るのである。
ェステル基の作用によって紫外線に感光する性質を示す
ので、感光性樹脂として各種エッチング材や感光膜の用
途に用いられる。本発明は上述の通りの方法であるので
、感光性樹脂を、特に大きい反応器を用いたり、材料を
分割添加したり、毒性の強い化合物を用いたり又、使用
する溶媒を特殊なものに制限されたりすることなく簡単
に製造することが出来るのである。
以下本発明の実施例について説明する。実施例
グリシジルメタクリレート４夕、ジメチルホルムアミド
１６夕、アゾビスイソブチロニトリル０．０２夕の混合
物を７５ｏｏで５時間かきまぜた後、メタノールで沈で
んごせて取り出し乾燥させた。
１６夕、アゾビスイソブチロニトリル０．０２夕の混合
物を７５ｏｏで５時間かきまぜた後、メタノールで沈で
んごせて取り出し乾燥させた。
上記で得た乾燥ポリマー３夕を、ジメチルホルムアミド
２０夕にとかし、２−クロロ−５ーニトロ安息香酸４．
３夕、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド０．０
５夕を加え、１１０ｏｏで２時間かきまぜて反応させた
。
２０夕にとかし、２−クロロ−５ーニトロ安息香酸４．
３夕、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド０．０
５夕を加え、１１０ｏｏで２時間かきまぜて反応させた
。
反応混合物をメタノール中で沈でんさせて取り出し、乾
燥させ、粉末６．６夕を得た。これをジメチルホルムア
ミド６０の‘にとかし、アジ化ナトリウム１．２５夕を
加え、５℃で２加持間かきまぜて反応させた。
燥させ、粉末６．６夕を得た。これをジメチルホルムア
ミド６０の‘にとかし、アジ化ナトリウム１．２５夕を
加え、５℃で２加持間かきまぜて反応させた。
反応混合物をメタノール中で次でんごせて取り出し乾燥
させた。
させた。
赤外吸収スペクトル及び元素分析値から、この物質の構
造は、ポリグリシジルメタクリレートに、２−アジドー
ニトロ安息香酸が付加したものであることが判明した。
この樹脂を、ジメチルホルムアミドの１０％溶液となし
、アルミニウム板に塗布し、厚さ２．５ミクロンの塗膜
を得た。
造は、ポリグリシジルメタクリレートに、２−アジドー
ニトロ安息香酸が付加したものであることが判明した。
この樹脂を、ジメチルホルムアミドの１０％溶液となし
、アルミニウム板に塗布し、厚さ２．５ミクロンの塗膜
を得た。
この塗膜上に感度測定用標準外マスク（商品名コダツタ
ステツプタブレツトＮｏ．２）を重ね４００Ｗ高圧水銀
灯を１５弧の距離から３硯砂間照射し、ジメチルホルム
アミド中に１分間浸潰して感光の程度を調べたところ７
段目まで感光していた。
ステツプタブレツトＮｏ．２）を重ね４００Ｗ高圧水銀
灯を１５弧の距離から３硯砂間照射し、ジメチルホルム
アミド中に１分間浸潰して感光の程度を調べたところ７
段目まで感光していた。
Claims (1)
- １ ２−クロロ−５−ニトロ安息香酸又は３−ニトロ−
４−クロロ安息香酸をエポキシ基を含む高分子と反応さ
せたのち、アジ化ナトリウムと反応させることによつて
、側鎖に２−アジド−５−ニトロ安息香酸エステル基又
は３−ニトロ−４−アジド安息香酸エステル基を含む高
分子を生成せしめることを特徴とする感光性樹脂の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16896679A JPS6023762B2 (ja) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | 感光性樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16896679A JPS6023762B2 (ja) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | 感光性樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5690805A JPS5690805A (en) | 1981-07-23 |
| JPS6023762B2 true JPS6023762B2 (ja) | 1985-06-10 |
Family
ID=15877861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16896679A Expired JPS6023762B2 (ja) | 1979-12-24 | 1979-12-24 | 感光性樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023762B2 (ja) |
-
1979
- 1979-12-24 JP JP16896679A patent/JPS6023762B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5690805A (en) | 1981-07-23 |
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