JPS604241B2 - 表面被覆材用金属成型体 - Google Patents
表面被覆材用金属成型体Info
- Publication number
- JPS604241B2 JPS604241B2 JP52029250A JP2925077A JPS604241B2 JP S604241 B2 JPS604241 B2 JP S604241B2 JP 52029250 A JP52029250 A JP 52029250A JP 2925077 A JP2925077 A JP 2925077A JP S604241 B2 JPS604241 B2 JP S604241B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chromium
- metal
- surface coating
- solution
- molded
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面被覆材に用いる金属の成型体に関する。
更に詳しくは乾式メッキで表面被覆材に用いる高純度金
属成型体及びその製造法に関する。
属成型体及びその製造法に関する。
近年、環境汚染の面から特に六価クロムなどを用いる湿
式メッキ法に代替するメッキ法として、電子ビームを用
いる真空蒸着法又はイオンプレーティング法、更にスパ
ッタリング法などの物理的な手段による表面被覆法、い
わゆる乾式メッキ法が注目されている。この様な乾式メ
ッキ法は、被メッキ物表面に付着させる金属を粉末状の
ま〉、又は棒状、板状に成型したもの（以下これらをタ
ーゲットと称す）に熱的又は電気的なエネルギーを加え
て、金属をイオン化し、又は原子状で飛散させて被メッ
キ物表面に付着させる方法で、近時工業機械、装飾物、
電子工業部品、更にプラスチックなどの表面被覆に利用
されつつある。
式メッキ法に代替するメッキ法として、電子ビームを用
いる真空蒸着法又はイオンプレーティング法、更にスパ
ッタリング法などの物理的な手段による表面被覆法、い
わゆる乾式メッキ法が注目されている。この様な乾式メ
ッキ法は、被メッキ物表面に付着させる金属を粉末状の
ま〉、又は棒状、板状に成型したもの（以下これらをタ
ーゲットと称す）に熱的又は電気的なエネルギーを加え
て、金属をイオン化し、又は原子状で飛散させて被メッ
キ物表面に付着させる方法で、近時工業機械、装飾物、
電子工業部品、更にプラスチックなどの表面被覆に利用
されつつある。
本発明者らは、乾式メッキ、特にスパッタリング法で用
いられるターゲットの成型について従来から研究を続け
ているが、成型する金属の粉末をある条件下に加圧する
ことによりターゲットとして用いる上で極めて良好な金
属成型体を得ることを見出．した。
いられるターゲットの成型について従来から研究を続け
ているが、成型する金属の粉末をある条件下に加圧する
ことによりターゲットとして用いる上で極めて良好な金
属成型体を得ることを見出．した。
乾式メッキにおいてメッキ膜の形成に用いられる金属は
、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔを始め、Ｚｎ，Ｃｄ，Ｗ，Ｔｉ，Ｃ
ｕ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒなどであるが、これらの内Ｃｒは
、これを被覆した表面の耐摩耗性又は化学的抵抗力が極
めて優れているので、工業機械部品及び電子工業部品の
メッキに多用されている。
、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔを始め、Ｚｎ，Ｃｄ，Ｗ，Ｔｉ，Ｃ
ｕ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｃｒなどであるが、これらの内Ｃｒは
、これを被覆した表面の耐摩耗性又は化学的抵抗力が極
めて優れているので、工業機械部品及び電子工業部品の
メッキに多用されている。
特に電子工業部品のメッキに用いられるものは、高純度
の金属が必要とされる。高純度金属例えば高純度金属ク
ロムを得るには、クロム塩溶液の電気的分解、いわゆる
電解で得る方法、クロム塩溶液をある種の有機溶媒を用
いて抽出精製し、精製クロム塩溶液を、又はこの溶液か
ら得たクロム塩を酸化し、次いで環元して金属クロムを
得る方法、更にクロム酸又は無水クロム酸を焔焼し、次
いで環元して得る方法などがある。
の金属が必要とされる。高純度金属例えば高純度金属ク
ロムを得るには、クロム塩溶液の電気的分解、いわゆる
電解で得る方法、クロム塩溶液をある種の有機溶媒を用
いて抽出精製し、精製クロム塩溶液を、又はこの溶液か
ら得たクロム塩を酸化し、次いで環元して金属クロムを
得る方法、更にクロム酸又は無水クロム酸を焔焼し、次
いで環元して得る方法などがある。
．本発明では、上記したいず
れの金属も、又いずれの方法で得たものも用いることが
出来る。
れの金属も、又いずれの方法で得たものも用いることが
出来る。
本発明では、前記した有機溶媒を用いて抽出精製して得
た金属クロムが特に好ましい。溶媒抽出に用いる溶媒は
、抽出の対象となる金属の種類によって、適宜さめる。
た金属クロムが特に好ましい。溶媒抽出に用いる溶媒は
、抽出の対象となる金属の種類によって、適宜さめる。
例えば、鉄、モリブデン等は、トリオクチルフオスフエ
ート、トリブチルフオスフエート、ジー２−エチルヘキ
シルリン酸等のリン化合物、コバルト等は、トリノルマ
ルオクチルアミン、トリィソオクチルアミントルカプリ
ルアミン等のアミン類を用いる。
ート、トリブチルフオスフエート、ジー２−エチルヘキ
シルリン酸等のリン化合物、コバルト等は、トリノルマ
ルオクチルアミン、トリィソオクチルアミントルカプリ
ルアミン等のアミン類を用いる。
この様な溶媒を用いてクロムと共存する金属類を除去す
ることにより極めて高純度のクロムを含む溶液が得られ
る。従って、この溶液を用いて酸化、環元処理により金
属化したクロム粉末は純度が高く良好なターゲットとな
る。
ることにより極めて高純度のクロムを含む溶液が得られ
る。従って、この溶液を用いて酸化、環元処理により金
属化したクロム粉末は純度が高く良好なターゲットとな
る。
特に金属クロムターゲットを得る場合、金属クロムは硬
く且つ脆いので、インゴツトを切削して所望の成形体を
得ることは極めて困難である。又、電解で金属クロムを
得る際電極板から剥離した金属クロムは一応成型体状を
保っているが、必要な厚さ及び大きさのものを常時得る
ことが出来ない。本発明は金属粉末を加圧して成型する
ことが特徴である。金属粉末の加圧成型は、｛１ー熱加
圧、いわゆるホットプレス、■筒状物に金属粉末を充填
し、上下、あるいは左右からピストンで圧縮する機械的
な加圧、更に【３｝ゴムの袋状物に金属粉末を封入して
、耐圧容器に満した水中に入れ、容器に水を圧入して加
圧するいわゆるラバープレスなどの方法で行うことが出
来る。
く且つ脆いので、インゴツトを切削して所望の成形体を
得ることは極めて困難である。又、電解で金属クロムを
得る際電極板から剥離した金属クロムは一応成型体状を
保っているが、必要な厚さ及び大きさのものを常時得る
ことが出来ない。本発明は金属粉末を加圧して成型する
ことが特徴である。金属粉末の加圧成型は、｛１ー熱加
圧、いわゆるホットプレス、■筒状物に金属粉末を充填
し、上下、あるいは左右からピストンで圧縮する機械的
な加圧、更に【３｝ゴムの袋状物に金属粉末を封入して
、耐圧容器に満した水中に入れ、容器に水を圧入して加
圧するいわゆるラバープレスなどの方法で行うことが出
来る。
しかし｛１）の方法で得たものは必然的に高価なものと
なり、又‘２｝の方法は厚さが大きい成型体を得る際、
成型体にラミネーションが生じたり、得られた成型体を
加熱した際ひび割れが生じたりするので好ましい方法で
はない。
なり、又‘２｝の方法は厚さが大きい成型体を得る際、
成型体にラミネーションが生じたり、得られた成型体を
加熱した際ひび割れが生じたりするので好ましい方法で
はない。
本発明では【３｝の加圧方法が好ましい。
‘３丁の方法では、金属粉末を封入するゴムなどの袋状
物の型状を適宜選ぶことにより所望の型状の成型体が得
られ又、成形体全体に均氏がかかるので極めて密な又、
熱的にも安定した成型体が得られる。
物の型状を適宜選ぶことにより所望の型状の成型体が得
られ又、成形体全体に均氏がかかるので極めて密な又、
熱的にも安定した成型体が得られる。
又、成型の際高純度金属を用いると高純度金属の持つ延
性の為に極めて成型性が好い。
性の為に極めて成型性が好い。
前記した｛３’の加圧方法、すなわちラバープレス法の
加圧圧力は、加圧成型する金属の種類によっても異なる
が、５００〜５５００ｋ９／めである。
加圧圧力は、加圧成型する金属の種類によっても異なる
が、５００〜５５００ｋ９／めである。
又、加圧時間は、特に制限されないが、５〜１２０分行
えば充分である。又、特にスパッタリングに用いるター
ゲットは、これに酸素が混在すると、これを用いてメッ
キを行う際、被メッキ物の被覆表面の酸化が起り、好ま
しい表面が得られない。
えば充分である。又、特にスパッタリングに用いるター
ゲットは、これに酸素が混在すると、これを用いてメッ
キを行う際、被メッキ物の被覆表面の酸化が起り、好ま
しい表面が得られない。
従って、ターゲットを成型する際、必要に応じて脱ガス
した金属粉末を用いることが好ましい。
した金属粉末を用いることが好ましい。
金属の脱ガスは、環元雰囲気中で金属を加熱するなどの
通常の方法で行なう。勿論成型後、金属成型体を前記し
たような操作で脱ガスすることも出釆る。
通常の方法で行なう。勿論成型後、金属成型体を前記し
たような操作で脱ガスすることも出釆る。
加圧成型して得た成型体は、暁結、研磨などの後処理を
して製品とする。
して製品とする。
本発明は、高純度で、且つ堅固な乾式メッキ用のターゲ
ットを得ることが出来る、又得られたターゲットは特に
スパッタリング用として極めて好ましいものである。
ットを得ることが出来る、又得られたターゲットは特に
スパッタリング用として極めて好ましいものである。
次に実施例で本発明を詳述する。
実施例 １
６１．６％のＣｒを含むフェロクロムを塩素化して得た
塩化クロム、塩化鉄溶液に塩素ガスを通じて鉄イオンを
三価の鉄イオンとし次いで回転円板式向流抽出装置（４
段）を用いてトルオクチルフオースクェートーケロシン
溶液と向流接触させて塩化鉄を除去し、精製塩化クロム
溶液を得た。
塩化クロム、塩化鉄溶液に塩素ガスを通じて鉄イオンを
三価の鉄イオンとし次いで回転円板式向流抽出装置（４
段）を用いてトルオクチルフオースクェートーケロシン
溶液と向流接触させて塩化鉄を除去し、精製塩化クロム
溶液を得た。
次いで該塩化クロム溶液を更にミキサーセトラー向流抽
出装置（２段）を用いトリノルマルオクチルアミンーキ
シレン溶液と接触させて精製し、該溶液を水素を燃焼さ
せた炉内に滴下し贋霧時擬して酸化クロムを得、更にこ
れを炭素を用いて約１４００ｑｏで真空還元して更に水
素気流中約１５００℃で還元し純度９９．９７％（ＣＯ
．０１％，Ｆｅｏ．０１％その他０．０１％）の金属ク
ロム粉末（２０メッシュ以下）を得た。この金属．クロ
ム粉末を概ね厚さ１０の／肌、直径２００仇／肌の型状
のゴム袋に充填し、水を封入した約０．５あの耐圧容器
に入れ、水を容器に圧入して４０００ｋ９／地とし５分
間置いた。加圧後ゴム袋から取出した成型体は見掛密度
６．２夕／塊であった。
出装置（２段）を用いトリノルマルオクチルアミンーキ
シレン溶液と接触させて精製し、該溶液を水素を燃焼さ
せた炉内に滴下し贋霧時擬して酸化クロムを得、更にこ
れを炭素を用いて約１４００ｑｏで真空還元して更に水
素気流中約１５００℃で還元し純度９９．９７％（ＣＯ
．０１％，Ｆｅｏ．０１％その他０．０１％）の金属ク
ロム粉末（２０メッシュ以下）を得た。この金属．クロ
ム粉末を概ね厚さ１０の／肌、直径２００仇／肌の型状
のゴム袋に充填し、水を封入した約０．５あの耐圧容器
に入れ、水を容器に圧入して４０００ｋ９／地とし５分
間置いた。加圧後ゴム袋から取出した成型体は見掛密度
６．２夕／塊であった。
この成型体を水素気流中１６００ｑｏで２時間暁緒を行
なったが、“われ”は生ぜず、堅固なものであつた。
なったが、“われ”は生ぜず、堅固なものであつた。
実施例１で得た成型体は、旋盤で表面を切削研摩し、真
鈴表面のスパッタリングによる表面被覆用のターゲット
として用いたところ、美麗な被覆表面を得た。
鈴表面のスパッタリングによる表面被覆用のターゲット
として用いたところ、美麗な被覆表面を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ クロム塩を含む溶液を有機溶媒にて抽出精製し得ら
れたクロム塩溶液又は該溶液から得たクロム塩を酸化し
、得たクロム酸化物を環元して得た高純度金属クロムを
加圧成型した、スパツタリング蒸着、イオン蒸着又は電
子蒸着による表面被覆用クロム成型体。 ２ 脱ガス処理した金属クロムを成型した特許請求の範
囲第１項記載の成型体。 ３ ラバープレス法で成型した特許請求の範囲第１又は
２項記載の成型体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52029250A JPS604241B2 (ja) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | 表面被覆材用金属成型体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52029250A JPS604241B2 (ja) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | 表面被覆材用金属成型体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53114739A JPS53114739A (en) | 1978-10-06 |
| JPS604241B2 true JPS604241B2 (ja) | 1985-02-02 |
Family
ID=12271010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52029250A Expired JPS604241B2 (ja) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | 表面被覆材用金属成型体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604241B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61221361A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-10-01 | Mitsubishi Metal Corp | スパツタリング用クロムタ−ゲツト |
| JPS62260056A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Hitachi Metals Ltd | クロムタ−ゲツト部材 |
| JP2667309B2 (ja) * | 1991-06-28 | 1997-10-27 | 株式会社リケン | Ｈｃｄイオンプレーティングによる耐摩耗性被膜形成法 |
| JP2604940B2 (ja) * | 1992-05-19 | 1997-04-30 | 株式会社リケン | イオンプレーティング用蒸発材 |
-
1977
- 1977-03-18 JP JP52029250A patent/JPS604241B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53114739A (en) | 1978-10-06 |
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