JPS6048832B2 - magnetic bubble element - Google Patents
magnetic bubble elementInfo
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- JPS6048832B2 JPS6048832B2 JP10598278A JP10598278A JPS6048832B2 JP S6048832 B2 JPS6048832 B2 JP S6048832B2 JP 10598278 A JP10598278 A JP 10598278A JP 10598278 A JP10598278 A JP 10598278A JP S6048832 B2 JPS6048832 B2 JP S6048832B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気バブル素子、特にそのパターン構成に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic bubble element, and in particular to its pattern configuration.
磁気バブル素子においては、磁気バブル(以下「バブ
ル」と呼ふ)の転送や磁気抵抗効果による検出に必要な
パーマロイパターンと、バブル発生器や分割器、消滅器
、ゲート等のように主としてバブルの制御に必要な導体
パターンとが必要であるが、一般にこのパーマロイパタ
ーンと導体パターンは別々のマスクでパターニングされ
るので、マスク合わせが2回必要である。In magnetic bubble elements, permalloy patterns are required for the transfer of magnetic bubbles (hereinafter referred to as "bubbles") and detection by magnetoresistive effect, and bubble generators, dividers, extinguishers, gates, etc. A conductor pattern necessary for control is required, but since the permalloy pattern and the conductor pattern are generally patterned using separate masks, mask alignment is required twice.
このために作業性が悪く、製品歩留りも低下している。
そこで、第1図や第2図のように、これらのパターン
を1目のマスク合わせで作成することが試みられている
。This results in poor workability and low product yield.
Therefore, attempts have been made to create these patterns by first mask alignment, as shown in FIGS. 1 and 2.
第1図はマスクトランスファ法と いわれるもので、ま
ずイ図のように、バブル材1上にSiO2等のスペーサ
層2を介して被着されたパーマロイ(NiFe)等の磁
性薄膜3上に、フォ トレジストを塗布して露光現像す
ることにより、 レジストパターン4を形成する。次口
図のように、チタン(Ti)等のマスク材料5を被着し
てから、フォトレジスト4を溶剤で除去し、リフトオフ
によつてマスク材料5の不要部を除去する。このように
して形成された金属マスク5’を利用して、パーマロイ
層3の不要部をエッチングし、一因のようなパーマロイ
のパターン3’を得る。ところが、このような磁性材の
パターンでは、磁気抵抗効果を利用して磁性材パターン
3’をバブル検出器として使用するときは、マスク用金
属5’が磁性材パターン3’をショートして検出機能を
妨げるので、金属マスク5’を除去しなければならない
。しかも、磁性材パターン3’を、ゲート部等における
コンダクタにする場合は、比抵抗が大きいために、満足
なものとはいえない。な)お、8はバブル材料の基板で
ある。 これに対して第2図のシングルマスクパターン
形成法により、比抵抗の小さい金属のパターンも同時に
積層作成すれば、充分コンダクタとして機能しうる。Fig. 1 shows what is called the mask transfer method. First, as shown in Fig. 1, a magnetic thin film 3 made of permalloy (NiFe) etc. is deposited on a bubble material 1 via a spacer layer 2 made of SiO2 etc. A resist pattern 4 is formed by applying photoresist and exposing and developing it. As shown in the next figure, after a mask material 5 such as titanium (Ti) is deposited, the photoresist 4 is removed using a solvent, and unnecessary portions of the mask material 5 are removed by lift-off. Using the metal mask 5' thus formed, unnecessary parts of the permalloy layer 3 are etched to obtain a permalloy pattern 3' which is a factor. However, in such a pattern of magnetic material, when the magnetic material pattern 3' is used as a bubble detector by utilizing the magnetoresistive effect, the masking metal 5' short-circuits the magnetic material pattern 3' and the detection function is interrupted. Therefore, the metal mask 5' must be removed. Furthermore, when the magnetic material pattern 3' is used as a conductor in a gate portion or the like, it is not satisfactory because of its large specific resistance. Note that 8 is a substrate made of bubble material. On the other hand, if a metal pattern with a low resistivity is also laminated at the same time using the single mask pattern forming method shown in FIG. 2, the pattern can sufficiently function as a conductor.
即ちイ図のように、予め大難ぱな位置合わせによつて、
コンダクタを設けるべき位置にのみ比抵抗の小さい金属
の層6を被着形成した後、口図のように全面にパーマロ
イ層7を被着させ、これをシングルマスクでパターニン
グしてハ図のようなパターンを得る。この場合は、比抵
抗の小さい金属のパターン6’側をコンダクタとし、パ
ーマロイパターン7″側を磁気抵抗効果による検出器と
することにより、第1図の場合の欠点は解消される。し
かしながら、初めに金属層6を選択的に被着するために
、大雑ぱでよいとはいえ一応のマスク合わせを要するの
で、厳密な意味ではシングルマスクパターン形成方法と
はいえず、それだけマスキング工程が増える。そこで本
発明は、第1図や第2図の場合のような従来の問題を一
挙に解決できる磁気バブル素子を提供するものである。In other words, as shown in Figure A, by carefully aligning the
After forming a metal layer 6 with low resistivity only in the position where the conductor is to be provided, a permalloy layer 7 is applied over the entire surface as shown in the figure, and this is patterned with a single mask to form a layer as shown in figure C. Get the pattern. In this case, by using the metal pattern 6' side with low resistivity as a conductor and the permalloy pattern 7'' side as a detector based on the magnetoresistive effect, the drawbacks of the case shown in Fig. 1 can be overcome. In order to selectively deposit the metal layer 6 on the metal layer 6, some mask alignment is required, although it may be rough, so in the strict sense it cannot be called a single mask pattern forming method, and the masking process increases accordingly. The present invention provides a magnetic bubble element that can solve the conventional problems such as those shown in FIGS. 1 and 2 all at once.
この技術的課題を解決するために本発明による技術的手
段は、磁気バブル材料上で、絶縁層を挾んで設けられた
導体層と磁性薄膜の層が、シングルマスク法などによつ
て同一形状にパターニングされた層構成とすると共に、
任意の層に端子接続可能としている。すなわち前記導体
層および磁性薄膜を選択的にあるいは双方共に端子接続
可能なように、前記導体層のパターン面と磁性薄膜のパ
ターン面が端子部において共に露出され、端子接続面と
なつている。次に本発明による磁気バブル素子が実際上
どのように具体化されるかを実施例で説明する。第3図
は本発明による磁気バブル素子の製造方法を示す断面図
、第4図は本発明磁気バブル素子の端子部を拡大した平
面図である。本発明の場合.’は、まず第3図イのよう
に、バブル材料1上の第1絶縁層2の上に、Al−Cu
等のような比抵抗の小さい金属の層9、第2絶縁層10
、パーマロイ等のような磁性膜の層11,,第3絶縁層
12の順に、蒸着やスパッタリング等によつて被着し、
素?子全体を同じ層構成にしてある。そして第3絶縁層
12上に、マスクパターン13を形成してある。これは
、TiやCr等の金属を第1図に示したようなリフトオ
フ法でパターニングした金属マスクであつてもよいが、
フォトレジストマスクでも4差支えない。マスクパター
ン13を形成した後、化学エッチングまたはドライエッ
チングで導体層9まで一度にパターニングして、口図の
構成を得る。このように、1回のパターニングで最下層
の導体層9までエッチングするので、絶縁層10,12
は、このようなエッチングを妨げない厚さにする。絶縁
層の材料は、SiO。がSiO等が好ましい。このよう
に形成された多層パターンを、コンダクタとして使用す
る場合は、比抵抗の小さい導体パターン9を利用して通
電し、さらに必要なら磁性膜パターン11や金属マスク
パターン13にも並列接続して通電してもよい。検出器
や転送路とフして使用するときは、中間の磁性膜パター
ン11だけを利用する。図においては、左側の多層パタ
ーンをコンダクタとし、右側の磁性膜パターン11’を
検出器または転送路パターンとする。このように同じ層
構成のパターンを、用途に応iじて自由に選択使用でき
るようにするために、本発明はさらに次のような端子処
理を行つている。第4図は、便宜上端子部だけを拡大し
て示した素子の平面図であり、破線14で示す領域内に
、第3図のシングルマスク法で磁気バブルメモリが形’
成されている。9t,11tは、夫々メモリ部14中の
ゲート等のコンダクタパターン9,11と接続している
端子部であり、磁性膜パターン11もコングクタとして
利用する場合を考え、磁性膜パターン11も端子部で1
1tのように露出させてある。In order to solve this technical problem, the technical means of the present invention is such that a conductor layer and a magnetic thin film layer, which are provided on a magnetic bubble material with an insulating layer in between, are formed into the same shape by a single mask method or the like. In addition to having a patterned layer structure,
Terminals can be connected to any layer. That is, the patterned surface of the conductive layer and the patterned surface of the magnetic thin film are both exposed at the terminal portion and serve as terminal connection surfaces so that the conductive layer and the magnetic thin film can be selectively or both terminally connected. Next, examples will be used to explain how the magnetic bubble element according to the present invention is actually implemented. FIG. 3 is a sectional view showing a method of manufacturing a magnetic bubble element according to the present invention, and FIG. 4 is an enlarged plan view of a terminal portion of the magnetic bubble element according to the present invention. In the case of the present invention. First, as shown in FIG. 3A, Al-Cu
A metal layer 9 with low resistivity, such as a second insulating layer 10
, a layer 11 of a magnetic film such as permalloy, and a third insulating layer 12 are deposited in this order by vapor deposition, sputtering, etc.
Plain? The entire child has the same layer structure. A mask pattern 13 is then formed on the third insulating layer 12. This may be a metal mask in which a metal such as Ti or Cr is patterned using a lift-off method as shown in FIG.
Even a photoresist mask makes no difference. After forming the mask pattern 13, the conductor layer 9 is patterned all at once by chemical etching or dry etching to obtain the structure of the opening. In this way, since the lowermost conductor layer 9 is etched in one patterning, the insulating layers 10, 12
The thickness should be such that it does not interfere with such etching. The material of the insulating layer is SiO. However, SiO or the like is preferable. When the multilayer pattern formed in this way is used as a conductor, the conductor pattern 9 with low resistivity is used to conduct electricity, and if necessary, the magnetic film pattern 11 and the metal mask pattern 13 are also connected in parallel to conduct electricity. You may. When used as a detector or transfer path, only the intermediate magnetic film pattern 11 is used. In the figure, the multilayer pattern on the left side is used as a conductor, and the magnetic film pattern 11' on the right side is used as a detector or transfer path pattern. In order to be able to freely select and use patterns with the same layer structure depending on the application, the present invention further performs the following terminal processing. FIG. 4 is a plan view of the device in which only the terminal portion is shown enlarged for convenience, and a magnetic bubble memory is formed in the area indicated by the broken line 14 using the single mask method of FIG.
has been completed. 9t and 11t are terminal portions connected to conductor patterns 9 and 11 such as gates in the memory section 14, respectively. Considering the case where the magnetic film pattern 11 is also used as a conductor, the magnetic film pattern 11 is also a terminal portion. 1
It is exposed like 1t.
この端子出しは、ラフなマスク合わせとエッチングによ
つて、端子の一部は第2絶縁層10までエッチング除去
して、最下層の導体パターンを9tのように露出させ、
他の一部は第3絶縁層12までエッチング除去して、磁
性膜パターンを11tのように露出させる。そして、導
体パターン9だけに通電するときは、その端子9tをワ
イヤボンディングで搭載プレーンと接続し、磁性膜パタ
ーンにも通電するときは、その端子11tにもワイヤボ
ンディングする。金属マスクパターン13もコンダクタ
として利用する場合は、最上層にあるためそのまま端子
として利用でき、エッチングによる端子出しを要しない
。11’tは、メモリ部14中における検出器の磁性膜
パターン11′の接続端子部である。This terminal is brought out by rough mask alignment and etching, and a part of the terminal is removed by etching down to the second insulating layer 10, exposing the bottom layer conductor pattern like 9t.
The other part is removed by etching up to the third insulating layer 12 to expose the magnetic film pattern as shown in 11t. When only the conductor pattern 9 is energized, its terminal 9t is connected to the mounting plane by wire bonding, and when the magnetic film pattern is also energized, its terminal 11t is also wire-bonded. When the metal mask pattern 13 is also used as a conductor, it can be used as a terminal as it is because it is on the top layer, and there is no need to expose the terminal by etching. 11't is a connection terminal portion of the magnetic film pattern 11' of the detector in the memory section 14.
磁性膜パターンを検出器として使用する場合は、磁性膜
パターン11′だけを端子出しすれは足りるから、コン
ダクタ側とは違つて、端子部すべてにおいて第3絶縁層
12までエッチング除去し、磁性膜の端子11’tだけ
を露出形成して、ワイヤボンデイング端子とする。この
ように本発明によれば、磁気バブル材料上て、絶縁層を
挾んで設けられた導体層と磁性薄膜の層が、シングルマ
スク法などによつて同一形状にパターニングされた層構
成の磁気バブル素子において、前記導体層のパターン面
と磁性薄膜のパターン面が端子部において共に露出され
、端子接続面となつている。When using the magnetic film pattern as a detector, it is sufficient to expose only the magnetic film pattern 11' as a terminal. Only the terminal 11't is formed to be exposed and used as a wire bonding terminal. As described above, according to the present invention, a magnetic bubble has a layered structure in which a conductive layer and a magnetic thin film layer, which are provided on a magnetic bubble material with an insulating layer in between, are patterned into the same shape by a single mask method or the like. In the element, both the patterned surface of the conductor layer and the patterned surface of the magnetic thin film are exposed at the terminal portion and serve as a terminal connection surface.
そのため前記導体層および磁性薄膜を選択的にあるいは
双方共に端子接続することで、各パターンを独立してあ
るいは必要に応じて併用することができ、従来の問題点
が一掃される。即ち、ゲート等のコングクタ部において
は、比抵抗の小さい金属のパターン9を独立してあるい
は磁性膜パターン11や金属マスクパターン13と併用
してコンダクタとすることにより、電流容量を任意に選
択できる。また、各パターン間に絶縁スペーサが介在し
ているので、磁性膜パターンを導体パターンから絶縁し
検出特性を維持するために、第2図のようにラフで済む
とはいえ、マスク合わせ工程を増やす必要は無く、また
第1図のようにわざわざ金属マスクを除去する必要が無
いばかりか、積極的にコンダクタとして活用することも
できる。Therefore, by terminally connecting the conductive layer and the magnetic thin film selectively or both together, each pattern can be used independently or in combination as necessary, and the problems of the conventional method can be eliminated. That is, in a conductor portion such as a gate, the current capacity can be arbitrarily selected by using the metal pattern 9 having a low resistivity as a conductor independently or in combination with the magnetic film pattern 11 or the metal mask pattern 13. In addition, since an insulating spacer is interposed between each pattern, in order to insulate the magnetic film pattern from the conductor pattern and maintain detection characteristics, the mask alignment process is increased, although it is only rough as shown in Figure 2. Not only is it unnecessary, and there is no need to take the trouble to remove the metal mask as shown in FIG. 1, it can also be actively used as a conductor.
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のマスクトランスファ法による磁気バブル
素子のパターニング工程を順次示す図、第2図は従来の
シングルマスクパターン法による・磁気バブル素子のパ
ターニング工程を示す図、第3図は本発明による磁気バ
ブル素子の構成と製造方法を示す断面図、第4図は本発
明の磁気バブル素子の引出し端子部を示す平面図である
。
図において、1はバブル材料、2,10,127は絶縁
スペーサ層、9は導体パターン、11,11’は磁性膜
パターン、13は金属マスク、9t,11t,11’t
は引出し端子、14はメモリ部である。[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] Fig. 1 is a diagram sequentially showing the patterning process of a magnetic bubble element by the conventional mask transfer method, Fig. 2 is a diagram showing the patterning process of the magnetic bubble element by the conventional single mask pattern method, FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure and manufacturing method of the magnetic bubble element according to the present invention, and FIG. 4 is a plan view showing the lead-out terminal portion of the magnetic bubble element according to the present invention. In the figure, 1 is a bubble material, 2, 10, 127 are insulating spacer layers, 9 is a conductor pattern, 11, 11' are magnetic film patterns, 13 is a metal mask, 9t, 11t, 11't
1 is a lead terminal, and 14 is a memory section.
Claims (1)
体層と磁性薄膜の層が、同一形状にパターニングされた
磁気バブル素子において、前記導体層および磁性薄膜を
選択的にあるいは双方共に端子接続可能なように、前記
導体層のパターン面と磁性薄膜のパターン面が端子部に
おいて共に露出され、端子接続面となつている部分を有
することを特徴とする磁気バブル素子。1. In a magnetic bubble element in which a conductor layer and a magnetic thin film layer provided with an insulating layer sandwiched between them are patterned in the same shape on a magnetic bubble material, the conductor layer and the magnetic thin film are selectively or both connected to terminals. A magnetic bubble element characterized in that the patterned surface of the conductor layer and the patterned surface of the magnetic thin film are both exposed at the terminal portion, and have a portion serving as a terminal connection surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10598278A JPS6048832B2 (en) | 1978-08-30 | 1978-08-30 | magnetic bubble element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10598278A JPS6048832B2 (en) | 1978-08-30 | 1978-08-30 | magnetic bubble element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5532292A JPS5532292A (en) | 1980-03-06 |
| JPS6048832B2 true JPS6048832B2 (en) | 1985-10-29 |
Family
ID=14421943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10598278A Expired JPS6048832B2 (en) | 1978-08-30 | 1978-08-30 | magnetic bubble element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048832B2 (en) |
-
1978
- 1978-08-30 JP JP10598278A patent/JPS6048832B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5532292A (en) | 1980-03-06 |
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