JPS605040B2 - パタ−ン処理装置 - Google Patents
パタ−ン処理装置Info
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- JPS605040B2 JPS605040B2 JP53107117A JP10711778A JPS605040B2 JP S605040 B2 JPS605040 B2 JP S605040B2 JP 53107117 A JP53107117 A JP 53107117A JP 10711778 A JP10711778 A JP 10711778A JP S605040 B2 JPS605040 B2 JP S605040B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は２次元パターンデータから所定のパターンを
抽出あるいは、パターン処理方式に関するものである。
抽出あるいは、パターン処理方式に関するものである。
従来のこの種のパターン処理の処理手順を第１図に沿っ
て説明する。ここでは第１図Ａに示すように２値化され
た原パターンに論理い１″ あるいはい０″の小領域ノ
イズが重畳されている場合においてこのノイズパターン
を除去する手順について述べる。先ず、第１図Ｂに示す
走査マスクｄを第１図Ａの原パターンのパターン上を走
査させる。すなわち、原パターンにおいて処理対象とな
る画素に隣接する３×３ビット（画素）の正方形格子の
各画素データａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ．ｈ，ｉ、の
間にて論理積演算をほどこし、この演算結果をあらため
てｉの画素データとする。この３×３ビットの論理積演
算をほどこす走査「マスクｄをパターン全体にわたって
順次走査させると、第１図Ｂの如く論理“１″の部分が
拡大され、論理い０″の部分か縮少されことによって、
白パターン、、１″の中の黒ノイズい０″が除去される
。
て説明する。ここでは第１図Ａに示すように２値化され
た原パターンに論理い１″ あるいはい０″の小領域ノ
イズが重畳されている場合においてこのノイズパターン
を除去する手順について述べる。先ず、第１図Ｂに示す
走査マスクｄを第１図Ａの原パターンのパターン上を走
査させる。すなわち、原パターンにおいて処理対象とな
る画素に隣接する３×３ビット（画素）の正方形格子の
各画素データａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ．ｈ，ｉ、の
間にて論理積演算をほどこし、この演算結果をあらため
てｉの画素データとする。この３×３ビットの論理積演
算をほどこす走査「マスクｄをパターン全体にわたって
順次走査させると、第１図Ｂの如く論理“１″の部分が
拡大され、論理い０″の部分か縮少されことによって、
白パターン、、１″の中の黒ノイズい０″が除去される
。
次に、第１図Ｃの走査マスク３を第１図Ｂのパターンに
対し画面全体にわたって順次走査させる。すなわち、３
×３のビットの正方形に隣接する画素間の論理和をあが
ためてｉの画素データとする。以上の処理によって第１
図Ｃの如く論理い１″の部分が縦少され、論理−へ０″
の部分が拡大され、第１図Ａのパターンのサイズにもど
る。しかし、以上の手順の処理では、まだ、黒パターン
（”０″）の中の白ノイズ（い１″）は残されたままで
ある。これを除去するには、再び、第１図Ｃのパターン
に走査マスク８をかけ、次に走査マスクＱをかける手順
が必要である。この発明はこれらの欠点を解するために
なされたもので、多種類の特定パターンの抽出・除去等
が１回の処理で、しかも高速にできるパターン処理装置
を提供するものである。以下第２図に示すこの発明によ
る処理装置の一実施例について説明する。なお第３図は
第２図の主要部を詳細化したものである。第２図中、２
０１は転送クロックに同期して入力される原パターンの
画素データを３ライン分蓄えると共にそれを順次シフト
させる３ラインシフトレジスタで、この中に蓄わえられ
る画素ｉの周辺画素データｉ，ｋ，１，ｍ，ｎ，ｐ，ｑ
，ｓは、第１図の走査マスク／ぐターンａ，ｂ，ｃ，ｄ
，ｅ，ｆ，ｇ，ｈの各画素位置にそれぞげ対応している
。２０２は処理される画素データｊに隣接する８ビット
の周辺画素データｊ，ｋ，１，ｍ，ｎ，ｐ，ｑ，ｓ、と
照合するためのマスクパターンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，
ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、をセットする照合用パターンレジス夕
、２０３は３ラインシフトレジスタ２０１の周辺画素デ
ータｉ，ｋ，１，ｍ’ｎ’ｐ，ｑ，ｓ、と照合用パター
ンレジスタ２０２にあらかじめ設定されたマスクパター
ンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、とを各画素
毎に照合し、一致した個数を計数して得られた計数値（
相関度）と外部から設定した相関度閥値を比較し、その
比較結果を２値の論理出力にて出力する相関回路、２０
４は相関回路２０３の出力と原パターンの画素データｉ
との論理和および論理積の論理演算をほどこし、そのい
づれを抽出するかを判定する判定回路である。
対し画面全体にわたって順次走査させる。すなわち、３
×３のビットの正方形に隣接する画素間の論理和をあが
ためてｉの画素データとする。以上の処理によって第１
図Ｃの如く論理い１″の部分が縦少され、論理−へ０″
の部分が拡大され、第１図Ａのパターンのサイズにもど
る。しかし、以上の手順の処理では、まだ、黒パターン
（”０″）の中の白ノイズ（い１″）は残されたままで
ある。これを除去するには、再び、第１図Ｃのパターン
に走査マスク８をかけ、次に走査マスクＱをかける手順
が必要である。この発明はこれらの欠点を解するために
なされたもので、多種類の特定パターンの抽出・除去等
が１回の処理で、しかも高速にできるパターン処理装置
を提供するものである。以下第２図に示すこの発明によ
る処理装置の一実施例について説明する。なお第３図は
第２図の主要部を詳細化したものである。第２図中、２
０１は転送クロックに同期して入力される原パターンの
画素データを３ライン分蓄えると共にそれを順次シフト
させる３ラインシフトレジスタで、この中に蓄わえられ
る画素ｉの周辺画素データｉ，ｋ，１，ｍ，ｎ，ｐ，ｑ
，ｓは、第１図の走査マスク／ぐターンａ，ｂ，ｃ，ｄ
，ｅ，ｆ，ｇ，ｈの各画素位置にそれぞげ対応している
。２０２は処理される画素データｊに隣接する８ビット
の周辺画素データｊ，ｋ，１，ｍ，ｎ，ｐ，ｑ，ｓ、と
照合するためのマスクパターンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，
ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、をセットする照合用パターンレジス夕
、２０３は３ラインシフトレジスタ２０１の周辺画素デ
ータｉ，ｋ，１，ｍ’ｎ’ｐ，ｑ，ｓ、と照合用パター
ンレジスタ２０２にあらかじめ設定されたマスクパター
ンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、とを各画素
毎に照合し、一致した個数を計数して得られた計数値（
相関度）と外部から設定した相関度閥値を比較し、その
比較結果を２値の論理出力にて出力する相関回路、２０
４は相関回路２０３の出力と原パターンの画素データｉ
との論理和および論理積の論理演算をほどこし、そのい
づれを抽出するかを判定する判定回路である。
第３図は第２図の相関回路２０３および判定回路２０４
の構成を詳細に示したものである。第３図中、３０１は
原パターンの画素データｉの周辺画素データｊ，ｋ，１
，ｍ，ｎ’Ｐ’ｑ’ｓ、と照合用マスクパターンデータ
ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、とをそれぞれ対応す
る画素毎に照合し、一致した場合、論理、、１″の信号
を出力する並列８ビットの照合回路、３０２は照合回路
３０１の各画素毎の一致信号個数を計数し、その計数値
すなわち８ビットの周辺パターンの相関度を出力する相
関度抽出回路、３０３は相関度抽出回路３０２の相関度
出力計数値と、設定した相関度閥値Ｎとの大、小、等号
関係を比較し、その比較結果に応じた２値の論理出力を
出力する比較回路３０４および３０５は比較回路３０３
の論理出力と画素データｉそのものとの論理積および論
理和を求めるＡＮＤ回路およびＯＲ回路、３０６は、Ａ
ＮＤ回路３０４又はＯＲ回路３０５のいづれかの出力を
選択し、それを出力する選択回路である。
の構成を詳細に示したものである。第３図中、３０１は
原パターンの画素データｉの周辺画素データｊ，ｋ，１
，ｍ，ｎ’Ｐ’ｑ’ｓ、と照合用マスクパターンデータ
ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、とをそれぞれ対応す
る画素毎に照合し、一致した場合、論理、、１″の信号
を出力する並列８ビットの照合回路、３０２は照合回路
３０１の各画素毎の一致信号個数を計数し、その計数値
すなわち８ビットの周辺パターンの相関度を出力する相
関度抽出回路、３０３は相関度抽出回路３０２の相関度
出力計数値と、設定した相関度閥値Ｎとの大、小、等号
関係を比較し、その比較結果に応じた２値の論理出力を
出力する比較回路３０４および３０５は比較回路３０３
の論理出力と画素データｉそのものとの論理積および論
理和を求めるＡＮＤ回路およびＯＲ回路、３０６は、Ａ
ＮＤ回路３０４又はＯＲ回路３０５のいづれかの出力を
選択し、それを出力する選択回路である。
次に動作について説明する。
今、原パターンの画素データが順次３ラインシフトレジ
スタ２０１に入力され、画素データ転送クロツクに同期
して順次シフトされているものとする。
スタ２０１に入力され、画素データ転送クロツクに同期
して順次シフトされているものとする。
この際３ラインシフトレジスタ２０１に２次元配列され
る原パターンの所定領域すなわち第２図に示す３×３ビ
ットの正方形格子をなす画素データｉの周辺画素データ
ｉ，ｋ，１，ｍ’ｎ’ｐ，ｑ，ｓ、を３ラインシフトレ
ジスタ２０１から転送１クロック毎に引出し、パターン
抽出あるいは除去したいパターンに合せてあらかじめ照
合用パターンレジスタ２０２にセットされた照合用マス
ク／ぐターンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、
とを各画素毎にそれぞげ照合回路３０１にて論理積をと
る。すなわち、照合したい位置の画素データのみマスク
によって抽出する。この照合回路３０１の出力は、原パ
ターンの周辺画素データのマスキングデータである。相
関度抽出回路３０２は画素データｉの周辺画素データか
らマスキング抽出されたものの個数（すなわち論理”１
″の個数）を計数し、計数値を相関度として出力する。
この相関度とパターン抽出したいパターンに合せてあら
かじめ設定しておいた相関度闇値とを比較回路３０３に
て比較して、この闇値より大きい、小さい、あるいは等
しいのいづれかの場合に論理値い１″ を出力するかを
ＭＯＤＥＩにて指定する。この比較後の出力（画素ｉの
周辺分布状況データ）と画素データｉとの論理積および
論理和をとり、この世力のいづれかを選択回路３０６に
て選択しこれを新たな処理後の画素データｉとして出力
する。以上の動作を原パターン全体すなわち入力される
画素データすべてについてほどこす。このように照合用
マスクパターンデー夕、相関度閥値、ＭＯＤＥ１（比較
出力セレクト）、ＭＯＤＥ２（演算モードセレクト）を
所用パターンに応じて設定あるいは指定すれば、原パタ
ーンから所定のパターンを抽出あるいは除去することが
できる。次に例としてこのパタ−ン処理装置をノイズ処
理に用いた場合を第４図に紹介する。
る原パターンの所定領域すなわち第２図に示す３×３ビ
ットの正方形格子をなす画素データｉの周辺画素データ
ｉ，ｋ，１，ｍ’ｎ’ｐ，ｑ，ｓ、を３ラインシフトレ
ジスタ２０１から転送１クロック毎に引出し、パターン
抽出あるいは除去したいパターンに合せてあらかじめ照
合用パターンレジスタ２０２にセットされた照合用マス
ク／ぐターンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ、
とを各画素毎にそれぞげ照合回路３０１にて論理積をと
る。すなわち、照合したい位置の画素データのみマスク
によって抽出する。この照合回路３０１の出力は、原パ
ターンの周辺画素データのマスキングデータである。相
関度抽出回路３０２は画素データｉの周辺画素データか
らマスキング抽出されたものの個数（すなわち論理”１
″の個数）を計数し、計数値を相関度として出力する。
この相関度とパターン抽出したいパターンに合せてあら
かじめ設定しておいた相関度闇値とを比較回路３０３に
て比較して、この闇値より大きい、小さい、あるいは等
しいのいづれかの場合に論理値い１″ を出力するかを
ＭＯＤＥＩにて指定する。この比較後の出力（画素ｉの
周辺分布状況データ）と画素データｉとの論理積および
論理和をとり、この世力のいづれかを選択回路３０６に
て選択しこれを新たな処理後の画素データｉとして出力
する。以上の動作を原パターン全体すなわち入力される
画素データすべてについてほどこす。このように照合用
マスクパターンデー夕、相関度閥値、ＭＯＤＥ１（比較
出力セレクト）、ＭＯＤＥ２（演算モードセレクト）を
所用パターンに応じて設定あるいは指定すれば、原パタ
ーンから所定のパターンを抽出あるいは除去することが
できる。次に例としてこのパタ−ン処理装置をノイズ処
理に用いた場合を第４図に紹介する。
今、照合用マスクパターンデータａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，
ｆ，ｇ，ｈ＝（０，１，０，１，０，１，０，１）とし
て、画素データｉの左右上下の画素データ（ｂ，ｄ，ｆ
，ｈ）のみ抽出し、この画素の論理、、１″の個数を計
数する。
ｆ，ｇ，ｈ＝（０，１，０，１，０，１，０，１）とし
て、画素データｉの左右上下の画素データ（ｂ，ｄ，ｆ
，ｈ）のみ抽出し、この画素の論理、、１″の個数を計
数する。
この計数値（相関度）をＭとする。相関度閥値Ｎとし、
Ｍ＞Ｎならば、比較回路３０３の論理出力ｔ＝い１″，
ＭミＮならばｔ＝ 、、０″ とするようにＭＯＤＥＩ
を指定する。この画素データｉの上下左右の周辺分布状
況によって決定された論理出力ｔと画素データｉについ
て、画素データｉ＝ぃ０″のときはｔとｉの論理和をま
たｉ＝い１″のときはｔとｉの論理積を判定回路３０６
によって選択し（この場合ＭＯＤＥ２の指定にｉの論理
を用いている）これを新たな処理後の画素データｉの論
理データとして採用する。以上の処理を第４図Ａのパタ
ーンにわたってほどこすと、白パターン中の黒ノイズお
よび黒パ夕−ン中の白ノイズが１回の処理で除去される
（第４図Ｂ）。以上の如く、照合マスクパターンに方向
性マスク抽出機能を持たせると共に相関度を抽出するこ
とにより、各画素の周辺分布状況を把握し、これによっ
て各画素の取るべき正しい論理値を決定することにより
、任意の隔適性に富んだパターン処理が１回の処理にて
可能となる。なお、第４図では、ノイズ処理（これは面
の抽出でもある）について述べたが、設定する各パラメ
ータを適当にえらべば線分又は曲線の抽出等の機能も実
現できる。それ故、第２図に示す２次元パターン処理部
を演算子として画像処理用計算機に挿入することができ
る。以上は、３×３ビットの領域の処理について述べた
がＭ×Ｍ（Ｍは整数）の領域について同様なパターン処
理がほどこせるのは勿論であるＭが大きくなると、角、
曲面および端点等の検出も可能である。以上のようにこ
の発明に係るパターン処理装置によれば、任意に設定し
た照合マスクパターンと相関度にて、各画素位置の周辺
分布状況を求め、このデータと各画素のデータと論理演
算にて、真の画素データの論理値を決定しているので、
原パターンの中から所定のパターンを１回の処理で、し
かも高速で抽出あるいは除去できる効果を有する。
Ｍ＞Ｎならば、比較回路３０３の論理出力ｔ＝い１″，
ＭミＮならばｔ＝ 、、０″ とするようにＭＯＤＥＩ
を指定する。この画素データｉの上下左右の周辺分布状
況によって決定された論理出力ｔと画素データｉについ
て、画素データｉ＝ぃ０″のときはｔとｉの論理和をま
たｉ＝い１″のときはｔとｉの論理積を判定回路３０６
によって選択し（この場合ＭＯＤＥ２の指定にｉの論理
を用いている）これを新たな処理後の画素データｉの論
理データとして採用する。以上の処理を第４図Ａのパタ
ーンにわたってほどこすと、白パターン中の黒ノイズお
よび黒パ夕−ン中の白ノイズが１回の処理で除去される
（第４図Ｂ）。以上の如く、照合マスクパターンに方向
性マスク抽出機能を持たせると共に相関度を抽出するこ
とにより、各画素の周辺分布状況を把握し、これによっ
て各画素の取るべき正しい論理値を決定することにより
、任意の隔適性に富んだパターン処理が１回の処理にて
可能となる。なお、第４図では、ノイズ処理（これは面
の抽出でもある）について述べたが、設定する各パラメ
ータを適当にえらべば線分又は曲線の抽出等の機能も実
現できる。それ故、第２図に示す２次元パターン処理部
を演算子として画像処理用計算機に挿入することができ
る。以上は、３×３ビットの領域の処理について述べた
がＭ×Ｍ（Ｍは整数）の領域について同様なパターン処
理がほどこせるのは勿論であるＭが大きくなると、角、
曲面および端点等の検出も可能である。以上のようにこ
の発明に係るパターン処理装置によれば、任意に設定し
た照合マスクパターンと相関度にて、各画素位置の周辺
分布状況を求め、このデータと各画素のデータと論理演
算にて、真の画素データの論理値を決定しているので、
原パターンの中から所定のパターンを１回の処理で、し
かも高速で抽出あるいは除去できる効果を有する。
第１図は従来のパターン処理方式の手順を説明する説明
図、第２図は本発明の一実施例を示す回路構成図、第３
図は第２図の主要部を示す要部回路構成図、第４図は第
２図および第３図の動作を説明するための動作説明図で
ある。 図中２０１は３ラインデータシフトレジスタ、２０２は
照合パターンレジスタ、２０３は相関回路、２０４は判
定回路、３０１は照合回路、３０２は相関度抽出回路、
３０３は比較回路、３０４はＡＮＤ回路、３０５はＯＲ
回路「 ３０６は選択回路である。 なお図中、同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示してある。第２図 第１図 第３図 第４図
図、第２図は本発明の一実施例を示す回路構成図、第３
図は第２図の主要部を示す要部回路構成図、第４図は第
２図および第３図の動作を説明するための動作説明図で
ある。 図中２０１は３ラインデータシフトレジスタ、２０２は
照合パターンレジスタ、２０３は相関回路、２０４は判
定回路、３０１は照合回路、３０２は相関度抽出回路、
３０３は比較回路、３０４はＡＮＤ回路、３０５はＯＲ
回路「 ３０６は選択回路である。 なお図中、同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示してある。第２図 第１図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ２値化された画素が２次元配列されたパターンデー
タを処理するものにおいて、処理される画素の周辺画素
データとこの周辺画素に対応してあらかじめそのデータ
値が設定された照合用マスクパターンデータを対応画素
毎に照合し、その照合結果に応じてそれぞれ一致信号を
出力する照合部、この照合部の一致信号数を計数し、そ
の計数値（相関度）を出力する相関計数部、この相関計
数部の計数値とあらかじめ設定された相関度閾値を比較
し、その比較結果に応じた論理信号を出力する比較部、
この比較部の論理信号と上記処理される画素データを所
定モードで論理演算し、この演算出力を処理画素データ
として出力する演算部を備えたことを特徴とするパター
ン処理装置。 ２ 演算部の論理演算モードを処理される画素データの
データ値に応じてモード指定（選択）するようにしたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のパターン処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53107117A JPS605040B2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | パタ−ン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53107117A JPS605040B2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | パタ−ン処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5534723A JPS5534723A (en) | 1980-03-11 |
| JPS605040B2 true JPS605040B2 (ja) | 1985-02-07 |
Family
ID=14450900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53107117A Expired JPS605040B2 (ja) | 1978-08-31 | 1978-08-31 | パタ−ン処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605040B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2683008B2 (ja) * | 1988-02-16 | 1997-11-26 | 株式会社リコー | 矩形図形内部塗りつぶし方法 |
| JPH01296385A (ja) * | 1988-05-25 | 1989-11-29 | Okuma Mach Works Ltd | ２値画像データの画質改善方法 |
-
1978
- 1978-08-31 JP JP53107117A patent/JPS605040B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5534723A (en) | 1980-03-11 |
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