JPS6111474B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6111474B2 JPS6111474B2 JP55053238A JP5323880A JPS6111474B2 JP S6111474 B2 JPS6111474 B2 JP S6111474B2 JP 55053238 A JP55053238 A JP 55053238A JP 5323880 A JP5323880 A JP 5323880A JP S6111474 B2 JPS6111474 B2 JP S6111474B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- radiation
- rays
- semiconductor
- reverse bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/29—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to radiation having very short wavelengths, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation
- H10F30/295—Surface barrier or shallow PN junction radiation detectors, e.g. surface barrier alpha-particle detectors
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
本発明は放射線の種類を識別して検出する半導
体放射線検出器に関する。
半導体放射線検出器としては、シリコンまたは
ゲルマニウムを用いてpn接合あるいは表面障壁
を形成し、これらに逆バイアスを印加して生ずる
空乏層内に放射線が入射した場合に発生する電
子・正孔対を半導体板の両面の電極より電流パル
スとして取り出して検出するものが知られてい
る。例えば第1図に示すようにp形シリコン板1
の一方の面にアルミニウム電極層2、他方の面に
金電極層3が蒸着される。この場合シリコン板1
に対し電極層2は表面障壁を形成し、電極層3は
オーム接触を形成する。この表面障壁に対して逆
バイアスとなる電圧を電源4により両電極2,3
間に印加すると、シリコン板1の内部に空乏層5
が広がる。放射線6が電極2の側からこの空乏層
5に入射すると電子・正孔対が発生し、電極4に
よるバイアスにより正孔は電極3側へ、電子は電
極2側に運ばれてパルス電流となる。このパルス
電流を増幅器7を介して図示しない検出計により
計数し、入射放射線の強さを側定する。このよう
な検出器によりα線,β線などの放射線は検出で
きるが、X線やγ線のような透過性の強い放射線
に対しては計数効率を高めるため空乏層を厚くす
る必要があるので、p形シリコンまたはゲルマニ
ウムにリチウムを拡散し、不純物補償によつて真
性領域を形成して空乏層の広がりを大きくしたリ
チウムドリフト方式の検出器も用いられる。しか
しリチウムドリフト方式のものは常時冷却して保
管しなければならぬ不便があるので、最近は工業
的に入手可能になつた超高純度のシリコンを用い
た検出器がつくられている。しかもなお、これら
の従来の検出器の出力パルスからは、それがいか
なる放射線に基づくかを識別することができな
い。また電荷を持たない中性子線の検出のために
は、別に専用の検出器を準備しなければならな
い。
本発明は、このような不便を解消し、冒頭に述
べたように1個で複数の放射線の種類を識別して
検出できる半導体放射線検出器を提供することを
目的とする。
この目的は、本発明によれば半導体板の表面障
壁あるいはpn接合より遠い側の面が放射線の入
射面とされ、その入射面を覆うそれぞれ着脱可能
な水素原子を含んだプラスチツク板、ほう素原子
を含んだ板あるいは金属箔が備えられ、さらに両
電極が調整可能な大きさの逆バイアスを印加する
電源に接続されることによつて達せられる。
以下図面を引用して本発明の実施例について説
明する。第2図において、符号11は例えばp形
の1000Ωcm以上の超高比抵抗シリコン板を示し、
その一方の面にアルミニウム電極層2、他方の面
に金電極層3が蒸着されている。第1図の場合と
同様シリコン板1に対し電極層2は表面障壁を、
電極層3はオーム接触を形成する。両電極層には
シリコン板1と電極層2との間の表面障壁に逆バ
イアスを印加する電源14が接続されているが、
この電源14はその出力電圧が可変である。逆バ
イアスによつてシリコン板11には空乏層5が生
ずる。本発明による検出器においては、オーム接
触の電極層3の側が放射線の入射面とされる。こ
の入射面には、フイルタとしてそれを覆うポリエ
チレン板のような水素原子を含むプラスチツク板
あるいかボラル板のようなほう素原子を含む板8
ならびにアルミニウム箔のような金属箔9が何れ
も着脱可能に取付けることができる。
この着脱可能な取り付けのためには、ごく一般
的な方法が採用可能である。例えば板8、箔9の
周囲を囲む枠体(図示せず)に雄ねじを切つてシ
リコン板11を収容する容器の窓に設けた雌ねじ
(図示せず)にねじ込むようにしたり、気密リン
グを介在させながら前記窓部の開口に板8,箔9
を落し込み、上部から締め付け力を加えるように
したりすることができる。
このような検出器の電極層3側からα線、β線
のような荷電粒子6が空乏層5に入射すると、電
子と正孔の対を作りながらそのエネルギーを失
う。その際発生した多数の電子・正孔対が電源1
4により印加された電圧によつて両電極に向つて
掃引され、電流パルスとして外部回路に取り出さ
れ、増幅器7を経て図示しない検出計によつて計
数される。γ線やX線のような電磁放射線が空乏
層に入射したときは、光電効果、コンプトン散乱
および電子対生成の3種類の過程で半導体と相互
作用を行い、その際発生する二次電子によつて電
子・正孔対がつくられ、それが電流パルスとして
検出される。中性子線の場合は、電荷を持つてい
ないから、核反応以外には軌道電子や原子核のク
ーロン場にはなんらの作用も行わない。しかし入
射面をポリエチレン板のような水素原子を含むプ
ラスチツク板8で覆うと、速中性子線がポリエチ
レン板を通過する際ポリエチレン中の水素原子を
励起し、プロントが発生する。このプロントが空
乏層5に入射することにより上述のα線と同様な
過程で検出される。またポリエチレン板8の代り
にほう素原子を含むボラル板を置いたときは、熱
中性子線がボラル板を通過する際に、
10B+n→7Li+α
の反応でα線が発生して検出される。
次に本発明に基づく検出器により入射放射線の
種類を識別して検出する方法について説明する。
(1)α線の検出
例えば、5MeVのα線はシリコン中では約30μ
mの透過力を有しており、ポリエチレン板あるい
はボラル板8およびアルミニウム箔9を取り外し
たときは電極3における吸収を考慮してもシリコ
ン中で約25μmの深さの範囲内において吸収され
る。したがつて空乏層5がこの範囲まで広がつた
ときに始めて検出可能になる。今、厚さ490μ
m、比抵抗20KΩcmのp形シリコン板11を使用
して検出器を製作したとすると、空乏層5の巾
は
〓0.33√、ただしρ:シリコンの比抵
抗、v:逆バイアス電圧
で近似されるので、100Vの逆バイアス電圧を
印加するときにはは467μmとなる。従つて空
乏層5の端は電極層3側から490−467=23μmの
ところにあり、α線は空乏層5に達するため検出
される。しかしアルミニウム箔9またはポリエチ
レン板など8を取り付けると、α線はこれらに完
全に吸収され、検出されないのでα線と判定でき
る。
(2)β線の検出
例えば、1MeVのβ線はシリコン中では約1200
μmの透過力を有するので、上記のα線の場合と
同じ比抵抗と厚さのp形シリコンを使用した場合
は逆バイアスの高低にかかわらず検出される。そ
してβ線はアルミニウム箔9を取り付けた時には
吸収されないが、約3mmのポリエチレン板あるい
はボラル板8を取り付けた時には完全に吸収さ
れ、検出されないので、上述のα線あるいは後述
のγ線とは容易に識別できる。なお検出効率を高
めるためならびに低エネルギーのβ線を検出する
ため、逆バイアス電圧とこの例では約100V印加
し、空乏層をできるだけ広くすることが望まし
い。
(3)γ線、X線の検出
γ線またはX線は強い透過力を有し、ポリエチ
レン板またはボラル板8あるいはアルミニウム箔
9の有無および逆バイアス電圧の高低に関係なく
出力パルスが検出されるので容易に識別できる。
(4)中性子線の検出
中性子線は上述のように電荷を持つていないか
ら、ポリエチレン板またはボラル板8を取り付け
たときのみ検出し、速中性子線に対してはポリエ
チレン板中で発生したプロトンが検出され、熱中
性子線に対してはボラル板中で発生したα線が検
出される。逆バイアス電圧は、上記のα線の検出
の場合と同じ理由で、空乏層がオーミツク接触電
極側の近くまで達するほど高くしたときのみ検出
される。例えば2.5MeVの速中性子線を照射した
場合、ポリエチレン板中で発生したプロトンのシ
リコン中での飛程は約70μmである。従つてポリ
エチレン板8のみを取り付けたときは検出できる
が、数+μmのアルミニウム箔9をポリエチレン
板8とシリコン板の間に取り付けると検出されな
くなるので速中性子線を判定できる。同様に熱中
性子線の場合は、ボラル板8を取り付けた時に検
出され、アルミニウム箔9をさらに取り付けると
検出されなくなるので、熱中性子線であることが
確認できる。
これらを総括して第1表に示す。表中の〇印は
検出する場合、×印は検出しない場合を示す。ま
たnfは速中性子線、nthは熱中性子線を意味す
る。
The present invention relates to a semiconductor radiation detector that identifies and detects types of radiation. Semiconductor radiation detectors use silicon or germanium to form a pn junction or surface barrier, and apply a reverse bias to these to detect electron-hole pairs generated when radiation enters the depletion layer of the semiconductor. There is a known method that extracts and detects current pulses from electrodes on both sides of a plate. For example, as shown in FIG.
An aluminum electrode layer 2 is deposited on one side, and a gold electrode layer 3 is deposited on the other side. In this case, silicon plate 1
In contrast, electrode layer 2 forms a surface barrier and electrode layer 3 forms an ohmic contact. A voltage that becomes a reverse bias to this surface barrier is applied to both electrodes 2 and 3 by a power source 4.
When the voltage is applied between
spreads. When radiation 6 enters this depletion layer 5 from the electrode 2 side, electron-hole pairs are generated, and due to the bias from the electrode 4, the holes are carried to the electrode 3 side and the electrons are carried to the electrode 2 side, creating a pulse current. . This pulse current is passed through an amplifier 7 and counted by a detector (not shown) to determine the intensity of the incident radiation. Although such a detector can detect radiation such as α-rays and β-rays, it is necessary to thicken the depletion layer to increase counting efficiency for highly penetrating radiation such as X-rays and γ-rays. A lithium drift type detector is also used in which lithium is diffused into p-type silicon or germanium and an intrinsic region is formed by impurity compensation to widen the depletion layer. However, lithium drift type detectors have the inconvenience of having to be constantly cooled and stored, so detectors using ultra-high purity silicon, which has recently become commercially available, are being manufactured. Moreover, it is still not possible to discern from the output pulses of these conventional detectors what radiation they are based on. Furthermore, in order to detect neutron beams that do not have an electric charge, a dedicated detector must be prepared separately. An object of the present invention is to eliminate such inconveniences and provide a semiconductor radiation detector that can identify and detect multiple types of radiation with a single detector as described at the beginning. According to the present invention, the surface of the semiconductor board far from the surface barrier or the pn junction is the incident surface of the radiation, and a plastic plate containing removable hydrogen atoms, a plastic plate containing detachable hydrogen atoms, and a boron atom are used to cover the incident surface. This is achieved by providing a plate or metal foil containing a 1000 .ANG. Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 2, the reference numeral 11 indicates, for example, a p-type ultra-high resistivity silicon plate of 1000 Ωcm or more,
An aluminum electrode layer 2 is deposited on one side, and a gold electrode layer 3 is deposited on the other side. As in the case of FIG. 1, the electrode layer 2 forms a surface barrier for the silicon plate 1.
The electrode layer 3 forms an ohmic contact. A power source 14 that applies a reverse bias to the surface barrier between the silicon plate 1 and the electrode layer 2 is connected to both electrode layers.
This power supply 14 has a variable output voltage. A depletion layer 5 is created in the silicon plate 11 due to the reverse bias. In the detector according to the invention, the side of the electrode layer 3 in ohmic contact is the radiation incident surface. This incident surface is covered with a plastic plate containing hydrogen atoms such as a polyethylene plate or a plate containing boron atoms such as a Boral plate 8, which covers it as a filter.
Also, a metal foil 9 such as aluminum foil can be removably attached. A very common method can be used for this removable attachment. For example, a male thread may be cut into a frame body (not shown) surrounding the plate 8 and foil 9, and the male thread may be screwed into a female thread (not shown) provided in a window of a container housing the silicon plate 11, or an airtight ring may be provided. The plate 8 and the foil 9 are placed in the opening of the window while
It is also possible to lower the bolt and apply tightening force from the top. When charged particles 6 such as α rays and β rays enter the depletion layer 5 from the electrode layer 3 side of such a detector, they lose their energy while forming pairs of electrons and holes. A large number of electron-hole pairs generated at that time are
It is swept toward both electrodes by the voltage applied by 4, is taken out as a current pulse to an external circuit, passes through an amplifier 7, and is counted by a detector (not shown). When electromagnetic radiation such as gamma rays or As a result, electron-hole pairs are created, which are detected as current pulses. In the case of neutron beams, since they have no electric charge, they do not have any effect on the orbital electrons or the Coulomb field of the atomic nucleus other than nuclear reactions. However, if the incident surface is covered with a plastic plate 8 containing hydrogen atoms, such as a polyethylene plate, when the fast neutron beam passes through the polyethylene plate, it excites the hydrogen atoms in the polyethylene, generating pronto. When this pronto enters the depletion layer 5, it is detected in the same process as the above-mentioned α ray. Further, when a Boral plate containing boron atoms is placed in place of the polyethylene plate 8, when a thermal neutron beam passes through the Boral plate, α rays are generated by the reaction 10 B+n→ 7 Li+α and detected. Next, a method for identifying and detecting the type of incident radiation using the detector according to the present invention will be described. (1) Detection of α rays For example, 5 MeV α rays are approximately 30μ in silicon.
It has a penetrating power of m, and when the polyethylene plate or Boral plate 8 and aluminum foil 9 are removed, even taking into account the absorption at the electrode 3, it is absorbed within a depth range of about 25 μm in silicon. Therefore, detection becomes possible only when the depletion layer 5 extends to this range. Now the thickness is 490μ
If the detector is manufactured using a p-type silicon plate 11 with m and resistivity of 20KΩcm, the width of the depletion layer 5 is approximated by 〓0.33√, where ρ: resistivity of silicon, v: reverse bias voltage. Therefore, when applying a reverse bias voltage of 100V, it becomes 467μm. Therefore, the end of the depletion layer 5 is located at a distance of 490-467=23 μm from the electrode layer 3 side, and the α rays reach the depletion layer 5 and are therefore detected. However, if an aluminum foil 9 or a polyethylene plate 8 is attached, the alpha rays are completely absorbed by these and are not detected, so that they can be determined to be alpha rays. (2) Detection of β rays For example, 1 MeV β rays have approximately 1200
Since it has a penetrating power of μm, if p-type silicon having the same resistivity and thickness as in the case of α rays is used, it can be detected regardless of the level of reverse bias. Beta rays are not absorbed when the aluminum foil 9 is attached, but are completely absorbed and undetected when the approximately 3 mm polyethylene plate or Boral plate 8 is attached, so they can be easily distinguished from the above-mentioned alpha rays or the below-mentioned γ rays. Can be identified. Note that in order to increase detection efficiency and detect low-energy β-rays, it is desirable to apply a reverse bias voltage of about 100 V in this example to make the depletion layer as wide as possible. (3) Detection of γ-rays and X-rays γ-rays or X-rays have strong penetrating power, and output pulses are detected regardless of the presence or absence of the polyethylene plate, Boral plate 8 or aluminum foil 9, and the level of reverse bias voltage. so it can be easily identified. (4) Detection of neutron beams As mentioned above, neutron beams do not have an electric charge, so they are detected only when a polyethylene plate or Boral plate 8 is attached.For fast neutron beams, protons generated in the polyethylene plate are detected. For thermal neutron beams, alpha rays generated in the Boral plate are detected. The reverse bias voltage is detected only when the reverse bias voltage is set high enough to reach the depletion layer close to the ohmic contact electrode side, for the same reason as in the case of detecting the alpha rays described above. For example, when a fast neutron beam of 2.5 MeV is irradiated, the range of protons generated in a polyethylene plate in silicon is about 70 μm. Therefore, when only the polyethylene plate 8 is attached, it can be detected, but when an aluminum foil 9 of several micrometers is attached between the polyethylene plate 8 and the silicon plate, it is no longer detected, so that a fast neutron beam can be determined. Similarly, in the case of a thermal neutron beam, it is detected when the Boral plate 8 is attached, and is no longer detected when the aluminum foil 9 is further attached, so that it can be confirmed that it is a thermal neutron beam. These are summarized in Table 1. In the table, the ○ mark indicates the case of detection, and the x mark indicates the case of no detection. Also, nf means fast neutron beam, and nth means thermal neutron beam.
【表】【table】
【表】
上記の例では表面障壁を設けたシリコン板を用
いたが、pn接合を設けたシリコン板を全く同様
に用いることができる。表面障壁あるいはpn接
合は半導体板の一方の側ばかりでなく、両側に設
けてもよい。何故なら一方の側の表面障壁あるい
はpn接合に逆バイアスとなる電圧は他方の表面
障壁あるいはpn接合には順バイアスとなるた
め、検出器としての動作は全く同様に行なわれ
る。従つて電圧印加の方向と放射線入射の方向と
の関係を誤らないようにすれば、両面対称の素子
を利用することも可能である。半導体としてはシ
リコン以外にCdTe,GaAsのような化合物半導
体も同様に有効である。フイルタとしてアルミニ
ウム箔の代りに他の一般の金属箔、ポリエチレン
板の代りに他の一般のプラスチツク板も使用で
き、また検出すべき放射線が限られている場合に
は3種類のフイルタのすべてを準備しなくてもよ
いことは第1表より明らかである。
上述のように本発明によれば従来と同一の構造
の検出素子を用いて入射面を逆にし、印加逆バイ
アスを可調整にし、フイルタを準備することのみ
で入射放射線の種類を識別して検出できる半導体
放射線検出器を得ることができる。従つてすべて
の放射線の検出が1個の検出器で可能となるた
め、取扱いの面でも経済性の面でも極めて有効に
使用できる。[Table] In the above example, a silicon plate provided with a surface barrier was used, but a silicon plate provided with a pn junction can be used in exactly the same way. The surface barrier or pn junction may be provided not only on one side of the semiconductor board but also on both sides. This is because a voltage that causes a reverse bias to the surface barrier or pn junction on one side causes a forward bias to the surface barrier or pn junction on the other side, so that the detector operates in exactly the same way. Therefore, as long as the relationship between the direction of voltage application and the direction of radiation incidence is correct, it is also possible to use an element that is symmetrical on both sides. In addition to silicon, compound semiconductors such as CdTe and GaAs are also effective as semiconductors. As a filter, other general metal foils can be used instead of aluminum foil, and other general plastic plates can be used instead of polyethylene plates, and all three types of filters can be used when the amount of radiation to be detected is limited. It is clear from Table 1 that this is not necessary. As described above, according to the present invention, the type of incident radiation can be identified and detected simply by using a detection element with the same structure as the conventional one, inverting the incident surface, making the applied reverse bias adjustable, and preparing a filter. A semiconductor radiation detector can be obtained. Therefore, all radiation can be detected with one detector, making it extremely effective in terms of handling and economy.
第1図は従来の半導体放射線検出器の使用状態
を示す接続図、第2図は本発明の一実施例に係る
半導体放射線検出器の使用状態を示す接続図であ
る。
11……シリコン板、2……表面障壁接触電極
層、3……オーム接触電極層、5……空乏層、6
……入射放射線、8……ポリエチレン板あるいは
ボラル板、9……アルミニウム箔、14……電圧
可変電源。
FIG. 1 is a connection diagram showing how a conventional semiconductor radiation detector is used, and FIG. 2 is a connection diagram showing how a semiconductor radiation detector according to an embodiment of the present invention is used. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11...Silicon plate, 2...Surface barrier contact electrode layer, 3...Ohmic contact electrode layer, 5...Depletion layer, 6
... Incident radiation, 8 ... Polyethylene plate or Boral plate, 9 ... Aluminum foil, 14 ... Voltage variable power supply.
Claims (1)
し、これに逆バイアスを印加して生ずる空乏層内
に放射線の入射により発生する電子・正孔対を前
記半導体板の両面に設けられた電極より電流とし
て取り出すものにおいて、半導体板の表面障壁あ
るいはpn接合より遠い側の面が放射線の入射面
とされ、該入射面を覆うそれぞれ着脱可能な水素
原子を含んだプラスチツク板、ほう素原子を含ん
だ板あるいは金属箔が備えられ、さらに両電極が
調整可能な大きさの逆バイアスを印加する電源に
接続されたことを特徴とする半導体放射線検出
器。1 A surface barrier or a pn junction is formed on a semiconductor plate, and a reverse bias is applied to the formed depletion layer. Electron/hole pairs generated by the incidence of radiation are transferred to a current through electrodes provided on both sides of the semiconductor plate. In the semiconductor board, the surface of the semiconductor board far from the surface barrier or p-n junction is the incident surface of the radiation, and a plastic plate containing detachable hydrogen atoms and a plate containing boron atoms cover the incident plane. Alternatively, a semiconductor radiation detector characterized in that a metal foil is provided, and both electrodes are connected to a power source that applies a reverse bias of an adjustable magnitude.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323880A JPS56148873A (en) | 1980-04-22 | 1980-04-22 | Semiconductor radiation detector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323880A JPS56148873A (en) | 1980-04-22 | 1980-04-22 | Semiconductor radiation detector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56148873A JPS56148873A (en) | 1981-11-18 |
| JPS6111474B2 true JPS6111474B2 (en) | 1986-04-03 |
Family
ID=12937215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5323880A Granted JPS56148873A (en) | 1980-04-22 | 1980-04-22 | Semiconductor radiation detector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56148873A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62199573A (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-03 | Hino Motors Ltd | Four-wheel steering system used for vehicle |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1258922A (en) * | 1985-07-24 | 1989-08-29 | Philip C. East | Solid state dosimeter |
| JPH0542423U (en) * | 1991-11-13 | 1993-06-08 | ナシヨナル住宅産業株式会社 | Structure of sleeve wall of attached house |
| DE19739732C2 (en) * | 1997-09-11 | 2002-10-10 | Mirow Georg Dieter | Method and device for assessing the radiation of a sample |
| JP2020153756A (en) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | Alpha ray detection device and α ray detection method |
-
1980
- 1980-04-22 JP JP5323880A patent/JPS56148873A/en active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62199573A (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-03 | Hino Motors Ltd | Four-wheel steering system used for vehicle |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56148873A (en) | 1981-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3140052B2 (en) | Neutron detector | |
| EP2147334B1 (en) | Energy sensitive direct conversion radiation detector | |
| US20140077089A1 (en) | Neutron detector | |
| JPS6111474B2 (en) | ||
| EP4123342B1 (en) | Neutron detector, personal dosemeter and neutron fluence monitor including this detector and neutron detection method | |
| JPS6135384A (en) | Neutron detector | |
| JP3358617B2 (en) | Neutron dose rate meter | |
| Dubeau et al. | Response of a-Si: H detectors to protons and alphas | |
| RU169457U1 (en) | NEUTRON DETECTOR BASED ON SYNTHETIC DIAMOND | |
| JPH0736447B2 (en) | Semiconductor neutron detector | |
| Kim et al. | Characteristics of fabricated neutron detectors based on a SiC semiconductor | |
| JPH0447993B2 (en) | ||
| JPH0473636B2 (en) | ||
| 山本久夫 et al. | A radiation detector fabricated from silicon photodiode. | |
| Rancoita et al. | Silicon detectors in electromagnetic and hadronic calorimetry | |
| JPH0154871B2 (en) | ||
| Prabakar et al. | Alpha radiation detection using Si PIN diodes | |
| JPS6328076A (en) | Semiconductor radiation detector | |
| JPS59114875A (en) | Semiconductor radiation detector | |
| HD Rasolonjatovo et al. | Development of a gamma ray monitor using a CdZnTe semiconductor detector | |
| JPS61174778A (en) | Semiconductor radiation detector | |
| JPS6142433B2 (en) | ||
| JPH06180370A (en) | Neutron monitor | |
| RU2019130429A (en) | X-RAY AND GAMMA RAY PHOTODIODE | |
| JPS6258670B2 (en) |