JPS6113857B2 - - Google Patents
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- JPS6113857B2 JPS6113857B2 JP57210185A JP21018582A JPS6113857B2 JP S6113857 B2 JPS6113857 B2 JP S6113857B2 JP 57210185 A JP57210185 A JP 57210185A JP 21018582 A JP21018582 A JP 21018582A JP S6113857 B2 JPS6113857 B2 JP S6113857B2
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- Japan
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- rotating disk
- exhaust gas
- reaction tower
- gas
- corrosion
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、排ガス中に含有される塩化水素等
の酸性ガスを除去するための酸性ガス除去装置の
腐食防止方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for preventing corrosion of an acid gas removal device for removing acid gases such as hydrogen chloride contained in exhaust gas.
ごみ焼却炉等の排ガス中には、塩化水素等の酸
性ガスが含有されており、これをそのまま大気中
に放散すると公害問題を発生する。従つて、排ガ
ス中からこのような酸性ガスを除去することは、
公害防止上の見地から極めて重要である。 Exhaust gas from garbage incinerators and the like contains acidic gases such as hydrogen chloride, and if these are released into the atmosphere as they are, they will cause pollution problems. Therefore, removing such acid gas from exhaust gas is
This is extremely important from the standpoint of pollution prevention.
排ガス中に含有されている塩化水素を除去する
方法には、乾式法、半乾式法および湿式法がある
が、塩化水素の除去効率および建設コストや維持
費等の面から、最近は半乾式法が好ましい方法と
して各方面で実施されている。 Methods for removing hydrogen chloride contained in exhaust gas include dry, semi-dry, and wet methods, but recently the semi-dry method has been used in terms of hydrogen chloride removal efficiency, construction costs, maintenance costs, etc. is being implemented as a preferred method in various fields.
上記半乾式法は、酸性ガスを除去する薬剤例え
ば消石灰を水でスラリー状となし、排ガスとこの
スラリー状の薬剤とを接触させ、この接触反応に
より酸性ガスを除去する方法である。 The semi-dry method is a method in which a drug for removing acidic gases, such as slaked lime, is made into a slurry with water, the exhaust gas is brought into contact with the slurry-like drug, and the acidic gases are removed by this contact reaction.
上記排ガスとスラリー状の薬剤との接触手段に
は、反応塔内の充填物にスラリー状の薬剤をまぶ
し、この充填物中に排ガスを吹込んで前記薬剤と
接触させる充填接触法と、排ガスの吹込まれる反
応塔内にスラリー状の薬剤を噴射し、前記排ガス
と接触させる噴霧接触法とがあり、反応効率の面
から噴霧接触法の方が優れている。 The above-mentioned means for contacting the exhaust gas with the slurry-like chemical includes a filling contact method in which the packing in the reaction tower is sprinkled with the slurry-like chemical and the exhaust gas is blown into the packing to contact with the chemical; There is a spray contact method in which a slurry-like chemical is injected into a reaction tower and brought into contact with the exhaust gas, and the spray contact method is superior in terms of reaction efficiency.
第1図は上記噴霧接触法に使用される装置の一
例を示す概略縦断面図で、1は反応塔、2は反応
塔1の上部側壁に設けられた排ガス入口、3は反
応塔1の下部側壁に設けられた排ガス出口、4は
反応塔1の軸線方向に沿つてその頂壁1aに反応
塔内に向けて設けられた所定長さの薬剤供給用ノ
ズル、5は前記ノズル4の下端に臨む位置に設け
られた回転円盤で、回転円盤5はノズル4内をそ
の軸線に沿つて回転自在に貫挿されている支軸6
の下端にその中心が固着されている。7は支軸6
の駆動用モータ、8は反応塔1の下端に設けられ
たダスト排出口である。 FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing an example of an apparatus used in the above-mentioned spray contact method, in which 1 is a reaction tower, 2 is an exhaust gas inlet provided on the upper side wall of the reaction tower 1, and 3 is a lower part of the reaction tower 1. An exhaust gas outlet provided on the side wall; 4 is a chemical supply nozzle of a predetermined length provided on the top wall 1a of the reaction tower 1 along the axial direction toward the inside of the reaction tower; 5 is a nozzle at the lower end of the nozzle 4; A rotating disk 5 is provided at a facing position, and the rotating disk 5 has a support shaft 6 inserted through the nozzle 4 so as to be rotatable along its axis.
Its center is fixed to the bottom edge of. 7 is the spindle 6
A driving motor 8 is a dust outlet provided at the lower end of the reaction tower 1.
上述した装置において、排ガスは反応塔1内に
その排ガス入口2から入り、塔内を旋回しながら
下降して排ガス出口3から排出される。一方、反
応塔1内には、その上部に設けられた薬剤供給用
ノズル4の下端に臨む位置において回転円盤5が
回転しているため、前記ノズル4から流下するス
ラリー状の薬剤は、前記回転円盤5に衝突して反
応塔1内に噴霧飛散される。従つて、反応塔1内
を旋回しながら下降する排ガスは、上記の噴霧さ
れた薬剤と接触し、排ガス中の酸性ガスを除去す
ることができる。 In the above-described apparatus, the exhaust gas enters the reaction tower 1 through the exhaust gas inlet 2, descends while swirling inside the tower, and is discharged through the exhaust gas outlet 3. On the other hand, in the reaction tower 1, a rotating disk 5 is rotating at a position facing the lower end of the drug supply nozzle 4 provided at the top thereof, so that the slurry-like drug flowing down from the nozzle 4 is It collides with the disk 5 and is sprayed into the reaction tower 1. Therefore, the exhaust gas that descends while swirling inside the reaction tower 1 comes into contact with the above-mentioned sprayed chemical, and the acidic gas in the exhaust gas can be removed.
しかるに、上述した装置において、回転円盤5
により反応塔1内の噴霧飛散される薬剤は、上述
した如くスラリー状のため、回転円盤5の周囲は
水滴を含む雰囲気となり、更に回転円盤5の下部
近傍には図示の如き渦流が発生するため、回転円
盤5の下面は湿潤状態になつている。 However, in the above-mentioned device, the rotating disk 5
As mentioned above, the chemical sprayed and scattered in the reaction tower 1 is in the form of a slurry, so the atmosphere around the rotating disk 5 becomes an atmosphere containing water droplets, and furthermore, a vortex as shown in the figure is generated near the bottom of the rotating disk 5. , the lower surface of the rotating disk 5 is in a wet state.
その結果回転円盤5は、その湿潤雰囲気部分に
排ガス中の塩化水素を吸収した腐食性液体が生じ
て強い腐食が発生する。この腐食は、第2図に示
す如く回転円盤5の下面にその中心から外周に向
う放射状の線状痕の状態となつて生じ、回転円盤
5の材質が例えばSUS316の場合でも数日間のう
ちに発生する。 As a result, a corrosive liquid that has absorbed hydrogen chloride in the exhaust gas is generated in the humid atmosphere of the rotating disk 5, causing strong corrosion. As shown in Fig. 2, this corrosion occurs in the form of linear marks radiating from the center to the outer circumference on the lower surface of the rotating disk 5, and even if the material of the rotating disk 5 is SUS316, for example, it will occur within a few days. Occur.
従つて、回転円盤5を頻繁に交換するか、その
材質を高い耐食性を有する高価な特殊合金にしな
ければならなかつた。 Therefore, the rotating disk 5 must be replaced frequently or its material must be made of an expensive special alloy with high corrosion resistance.
この発明は、上述のような観点から、酸性ガス
除去装置における薬剤噴霧用回転円盤の腐食を、
特別な材質のものを用いることなく適確に防止す
ることができる酸性ガス除去装置の腐食防止方法
を提供するもので、酸性ガスを含有する排ガス
を、反応塔内に吹込み反応塔から排出するまでの
間に、前記反応塔内の上部に設けられた回転円盤
により飛散する薬剤と接触せしめ、前記排ガス中
の酸性ガスを除去する酸性ガス除去装置の前記回
転円盤に、その下面に向けて清浄ガスを噴射し、
前記清浄ガスにより前記回転円盤の下面をパージ
することによつて、その腐食を防止することに特
徴を有するものである。 From the above-mentioned viewpoint, this invention aims to prevent corrosion of a rotating disk for spraying a chemical in an acid gas removal device.
This provides a corrosion prevention method for acid gas removal equipment that can accurately prevent corrosion without using special materials. Exhaust gas containing acid gas is blown into the reaction tower and discharged from the reaction tower. In the meantime, the rotating disk of the acid gas removal device that removes acidic gas from the exhaust gas is brought into contact with the scattered chemicals by a rotating disk provided at the upper part of the reaction tower, and is cleaned toward the bottom surface thereof. inject gas,
The present invention is characterized in that corrosion of the rotating disk is prevented by purging the lower surface of the rotating disk with the clean gas.
次に、この発明を図面に基づいて説明する。 Next, the present invention will be explained based on the drawings.
第3図にはこの発明方法に使用する装置の一例
が概略縦断面図により示されている。図面におい
て従来装置と同一部分は同一符号で示し、かつそ
の説明は省略する。 FIG. 3 shows a schematic vertical sectional view of an example of the apparatus used in the method of the present invention. In the drawings, parts that are the same as those of the conventional device are designated by the same reference numerals, and their explanations will be omitted.
この発明においては、回転円盤5の下面に向け
て清浄ガスを噴射するためのノズル9が、その先
端を回転円盤5の下面に臨ませて設けられてい
る。10はノズル9に清浄ガスを送る導管で、導
管10の一端にはブロワー11が、また導管10
の途中には加熱器12が設けられている。 In this invention, a nozzle 9 for injecting clean gas toward the lower surface of the rotating disk 5 is provided with its tip facing the lower surface of the rotating disk 5. 10 is a conduit that sends clean gas to the nozzle 9; a blower 11 is connected to one end of the conduit 10;
A heater 12 is provided in the middle.
清浄ガスである空気は、ブロワー11により導
管10内に導かれ、加熱器12により例えばスチ
ーム等で150℃以上に加熱された上、ノズル9か
ら回転円盤5の下面に向けて噴射される。 Air, which is a clean gas, is guided into a conduit 10 by a blower 11, heated to 150° C. or higher by a heater 12, for example, with steam, and then injected from a nozzle 9 toward the lower surface of the rotating disk 5.
この結果、回転円盤5の下面は上記噴射空気に
よりパージされるから湿潤雰囲気とはならず、排
ガス中の塩化水素が接触することもない。また、
上記噴射空気は150℃以上に加熱されているの
で、排ガス中に含有されている塩化水素や亜硫酸
ガス等の酸露点以上となり、これによつて回転円
盤5の腐食は大幅に減少される。 As a result, the lower surface of the rotating disk 5 is purged by the injected air, so a humid atmosphere is not created, and hydrogen chloride in the exhaust gas does not come into contact with it. Also,
Since the injected air is heated to 150° C. or higher, the temperature exceeds the acid dew point of hydrogen chloride, sulfur dioxide, etc. contained in the exhaust gas, and corrosion of the rotating disk 5 is thereby significantly reduced.
なお、上記噴射空気は必ずしも150℃以上に加
熱する必要はない。この場合は、ノズル9からの
噴射空気量を調節し、または、ノズル9と円盤5
の間隔を大となして、反応塔1内の乾いた高温排
ガスを巻込ませ、これによつて回転円盤5の下面
に噴射される空気を150℃以上に昇温させる。こ
の場合、反応塔1内の導管10は、保温その他の
方法でその外面が酸露点以下とはならないような
構造にする必要がある。 Note that the above-mentioned injection air does not necessarily need to be heated to 150°C or higher. In this case, adjust the amount of air jetted from the nozzle 9, or
The interval between the two is increased so that the dry high-temperature exhaust gas in the reaction tower 1 is drawn in, thereby raising the temperature of the air injected onto the lower surface of the rotating disk 5 to 150° C. or higher. In this case, the conduit 10 in the reaction tower 1 needs to be structured so that its outer surface does not fall below the acid dew point by heat insulation or other methods.
なお、前記清浄ガスは空気に限らず、不活性ガ
スや清浄排ガスでもよい。 Note that the clean gas is not limited to air, and may be an inert gas or clean exhaust gas.
次に、この発明を実施例により説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to examples.
第3図に示した装置を使用し、下記条件(1ケ
月の平均値)により酸性ガスを含む排ガスの処理
を行なつた。 Using the apparatus shown in FIG. 3, exhaust gas containing acidic gas was treated under the following conditions (average values for one month).
排ガス入口流量 :1520Nm3/H
排ガス入口温度 : 380℃
排ガス入口HCl量: 645ppm
薬剤(消石灰)供給量:スラリー濃度15%
スラリー流量33/H
回転円盤:材質SUS316、外径160mm、
回転数15000r.p.m.
噴射空気:流量 30Nm3/H
温度230℃(スチームによる加熱)
ノズル径32A
噴出時初速15.4m/sec
排ガス出口流量 :1550Nm3/H
排ガス出口温度 : 270℃
排ガス出口HCl量: 80ppm
HCl除去率 : 87.6%
上記条件により1ケ月間運転を行なつたが、回
転円盤の下面には何らの腐食も生じなかつた。 Exhaust gas inlet flow rate: 1520Nm3 /H Exhaust gas inlet temperature: 380℃ Exhaust gas inlet HCl amount: 645ppm Chemical (slaked lime) supply amount: Slurry concentration 15% Slurry flow rate 33/H Rotating disk: Material SUS316, outer diameter 160mm, rotation speed 15000r. pm Injection air: Flow rate 30Nm 3 /H Temperature 230℃ (heated by steam) Nozzle diameter 32A Initial speed at injection 15.4m/sec Exhaust gas outlet flow rate: 1550Nm 3 /H Exhaust gas outlet temperature: 270℃ Exhaust gas outlet HCl amount: 80ppm HCl removal rate : 87.6% After operating for one month under the above conditions, no corrosion occurred on the lower surface of the rotating disk.
一方、回転円盤下面に対する空気噴射を行なわ
ず、他は上記と同一条件で運転を行なつたとこ
ろ、僅か2日目で回転円盤に腐食が発生した。 On the other hand, when the rotary disk was operated under the same conditions as above without air injection to the lower surface of the rotary disk, corrosion occurred in the rotary disk after only the second day.
以上述べたように、この発明方法によれば、酸
性ガス除去装置における薬剤噴霧用回転円盤の腐
食を、特別な材質のものを用いることなく、適確
にかつ経済的に防止し得る優れた効果がもたらさ
れる。 As described above, according to the method of the present invention, corrosion of the rotating disk for spraying chemicals in an acid gas removal device can be prevented accurately and economically without using any special material. is brought about.
第1図は従来の酸性ガス除去装置の一例を示す
概略縦断面図、第2図は回転円盤の腐食状態を示
す説明図、第3図はこの発明方法に使用される装
置の一例を示す概略縦断面図である。図面におい
て、
1……反応塔、2……排ガス入口、3……排ガ
ス出口、4……薬剤供給用ノズル、5……回転円
盤、6……支軸、7……モータ、8……ダスト排
出口、9……ノズル、10……導管、11……ブ
ロワー、12……加熱器。
FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view showing an example of a conventional acid gas removal device, FIG. 2 is an explanatory diagram showing the corrosion state of a rotating disk, and FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the device used in the method of the present invention. FIG. In the drawings, 1... Reaction tower, 2... Exhaust gas inlet, 3... Exhaust gas outlet, 4... Drug supply nozzle, 5... Rotating disk, 6... Support shaft, 7... Motor, 8... Dust Discharge port, 9... nozzle, 10... conduit, 11... blower, 12... heater.
Claims (1)
込み反応塔から排出するまでの間に、前記反応塔
内に設けられた回転円盤により飛散する薬剤と接
触せしめ、前記排ガス中の酸性ガスを除去する酸
性ガス除去装置の前記回転円盤に、その下面に向
けて清浄ガスを噴射し、前記清浄ガスにより前記
回転円盤の下面をパージすることによつて、その
腐食を防止することを特徴とする酸性ガス除去装
置の腐食防止方法。1. While blowing exhaust gas containing acidic gas into the reaction tower and discharging it from the reaction tower, the acidic gas in the exhaust gas is brought into contact with a chemical agent scattered by a rotating disk provided in the reaction tower. Corrosion is prevented by injecting clean gas toward the lower surface of the rotating disk of the acid gas removal device to be removed, and purging the lower surface of the rotating disk with the clean gas. Corrosion prevention method for acid gas removal equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210185A JPS5998721A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Method for preventing corrosion of acidic gas removing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210185A JPS5998721A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Method for preventing corrosion of acidic gas removing apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998721A JPS5998721A (en) | 1984-06-07 |
| JPS6113857B2 true JPS6113857B2 (en) | 1986-04-16 |
Family
ID=16585187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57210185A Granted JPS5998721A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Method for preventing corrosion of acidic gas removing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998721A (en) |
-
1982
- 1982-11-30 JP JP57210185A patent/JPS5998721A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5998721A (en) | 1984-06-07 |
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