JPS6116764B2 - - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 37
- RQAOZVMFUOJORU-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclopenten-1-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CCCC1 RQAOZVMFUOJORU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 15
- -1 cyclopentenyl phenol compound Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 20
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- SIJBXNWCQYSYLK-UHFFFAOYSA-N 4-(cyclopenten-1-yl)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CCCC1 SIJBXNWCQYSYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 12
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 6
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IYVIPRGQYRHNOB-UHFFFAOYSA-N 4-(cyclopenten-1-yl)-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C=2CCCC=2)=C1 IYVIPRGQYRHNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1O WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLMXUVAZRGSXNC-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclopenten-1-yl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C=2CCCC=2)=C1 NLMXUVAZRGSXNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- PDKHNCYLMVRIFV-UHFFFAOYSA-H molybdenum;hexachloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mo] PDKHNCYLMVRIFV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Description
本発明は新規なシクロペンテニルフエノール系
重合体の製造法に関する。 さらに詳しくは、従来からエポキシ樹脂の硬化
剤あるいはゴムの補強剤として知られているアル
キルフエノールと従来のホルマリンから合成され
るノボラツク型アルキルフエノール樹脂と異な
り、上記用途において該樹脂に比べて機械特性に
優れており、また、ヘキサメチレンテトラミンで
硬化させた場合、ガラスとの密着性が良好であ
る、積層板用樹脂として有用な新規シクロペンテ
ニルフエノール系重合体の製造法に関する。 従来からアルケニルフエノールから誘導される
重合体あるいはアルキル化生成物がいくつか提案
されている。例えば、有機合成化学第34巻1000ペ
ージ(1976年)にはイソプロペニルフエノールの
重合体が報告されている。しかし、イソプロペニ
ルフエノールの重合体は、式〔A〕で示すように
イソプロペニル基同士の反応による重合体であ
り、イソプロペニル基が相手のフエノール核へア
ルキル化した重合体は生成しない。 また、特開昭55−145626号公報において、アル
キルフエノールのアルキル化反応について記され
ているが、式〔B〕で示すように、フエノールと
のアルキル化反応であり、繰返し単位を有する重
合体は得ていない。 さらに、英国特許第741446号明細書(1955年)
におい、シクロペンタジエンとフエノールとのア
ルキル化反応で、p−シクロペンテニルフエノー
ルあるいはo−シクロペンテニルフエノールが合
成される以外に式〔C〕 で表わされる化合物が提出されているが、下記に
示す一般式〔〕で表わされる繰返し単位を有す
る重合体については述べられていない。 本発明は、これらの従来のアルケニルフエノー
ルから誘導される重合体あるいはアルキル化生成
物と異なる重合体の製造法を提供すると共に、従
来のアルケニルフエノールから誘導されるものが
モノマーあるいは2〜3量体であつたのに対し、
より高い重合度の重合体を製造することを可能に
するものである。 すなわち、本発明は、一般式〔〕 (ただし、式中、Rは水素、ハロゲン、ニトロ
基、炭素数が1〜5のアルキル基またはアルコキ
シ基であり、mは1または2であり、nは1,2
または3であつて、m+nは4以下であり、OH
基に対して二つのo−位およびp−位のうち少な
くとも一つには水素が結合している)で表わされ
るシクロペンテニルフエノール系化合物の中から
選ばれた少なくとも1種を酸性触媒下に反応させ
ることを特徴とするシクロペンテニルフエノール
系重合体の製造法に関する。 本発明により得られるシクロペンテニルフエノ
ール系重合体は、一般式〔〕 (ただし、式中、Rおよびnは一般式〔〕と
同じであり、シクロペンタン環はフエノール核に
そのOH基に対してo−位またはp−位に結合し
ており、シクロペンタン環の結合は1−位と2−
位または1−位と3−位にある)で表わされる繰
り返し単位を有している。 一般式〔〕で示されるシクロペンテニルフエ
ノール系化合物はフエノール核のo−位またはp
−位のうち少なくとも1個は水素である。これは
フエノール核に付加しているシクロペンテニル基
がアルキル化反応によつて他のフエノール核のo
−位またはp−位に付加することによつて高分子
量化合物が生成するために必要である。 このようなシクロペンテニルフエノール系化合
物の代表的化合物としては、o−シクロペンテニ
ルフエノール、p−シクロペンテニルフエノー
ル、2−メチル−4−シクロペンテニルフエノー
ル、2−シクロペンテニル−4−メチルフエノー
ル、2,4−ジシクロペンテニルフエノール等が
あり、ここに列記したもの以外のモノアルキル置
換体としては表1に示すものなどがある。
重合体の製造法に関する。 さらに詳しくは、従来からエポキシ樹脂の硬化
剤あるいはゴムの補強剤として知られているアル
キルフエノールと従来のホルマリンから合成され
るノボラツク型アルキルフエノール樹脂と異な
り、上記用途において該樹脂に比べて機械特性に
優れており、また、ヘキサメチレンテトラミンで
硬化させた場合、ガラスとの密着性が良好であ
る、積層板用樹脂として有用な新規シクロペンテ
ニルフエノール系重合体の製造法に関する。 従来からアルケニルフエノールから誘導される
重合体あるいはアルキル化生成物がいくつか提案
されている。例えば、有機合成化学第34巻1000ペ
ージ(1976年)にはイソプロペニルフエノールの
重合体が報告されている。しかし、イソプロペニ
ルフエノールの重合体は、式〔A〕で示すように
イソプロペニル基同士の反応による重合体であ
り、イソプロペニル基が相手のフエノール核へア
ルキル化した重合体は生成しない。 また、特開昭55−145626号公報において、アル
キルフエノールのアルキル化反応について記され
ているが、式〔B〕で示すように、フエノールと
のアルキル化反応であり、繰返し単位を有する重
合体は得ていない。 さらに、英国特許第741446号明細書(1955年)
におい、シクロペンタジエンとフエノールとのア
ルキル化反応で、p−シクロペンテニルフエノー
ルあるいはo−シクロペンテニルフエノールが合
成される以外に式〔C〕 で表わされる化合物が提出されているが、下記に
示す一般式〔〕で表わされる繰返し単位を有す
る重合体については述べられていない。 本発明は、これらの従来のアルケニルフエノー
ルから誘導される重合体あるいはアルキル化生成
物と異なる重合体の製造法を提供すると共に、従
来のアルケニルフエノールから誘導されるものが
モノマーあるいは2〜3量体であつたのに対し、
より高い重合度の重合体を製造することを可能に
するものである。 すなわち、本発明は、一般式〔〕 (ただし、式中、Rは水素、ハロゲン、ニトロ
基、炭素数が1〜5のアルキル基またはアルコキ
シ基であり、mは1または2であり、nは1,2
または3であつて、m+nは4以下であり、OH
基に対して二つのo−位およびp−位のうち少な
くとも一つには水素が結合している)で表わされ
るシクロペンテニルフエノール系化合物の中から
選ばれた少なくとも1種を酸性触媒下に反応させ
ることを特徴とするシクロペンテニルフエノール
系重合体の製造法に関する。 本発明により得られるシクロペンテニルフエノ
ール系重合体は、一般式〔〕 (ただし、式中、Rおよびnは一般式〔〕と
同じであり、シクロペンタン環はフエノール核に
そのOH基に対してo−位またはp−位に結合し
ており、シクロペンタン環の結合は1−位と2−
位または1−位と3−位にある)で表わされる繰
り返し単位を有している。 一般式〔〕で示されるシクロペンテニルフエ
ノール系化合物はフエノール核のo−位またはp
−位のうち少なくとも1個は水素である。これは
フエノール核に付加しているシクロペンテニル基
がアルキル化反応によつて他のフエノール核のo
−位またはp−位に付加することによつて高分子
量化合物が生成するために必要である。 このようなシクロペンテニルフエノール系化合
物の代表的化合物としては、o−シクロペンテニ
ルフエノール、p−シクロペンテニルフエノー
ル、2−メチル−4−シクロペンテニルフエノー
ル、2−シクロペンテニル−4−メチルフエノー
ル、2,4−ジシクロペンテニルフエノール等が
あり、ここに列記したもの以外のモノアルキル置
換体としては表1に示すものなどがある。
【表】
表1中、プロピル基はn−プロピル基またはイ
ソプロピル基のいずれかであり、ブチル基はn−
ブチル基、sec−ブチル基またはtert−ブチル基
のいずれかであり、ペンチル基はn−ペンチル基
およびその他の構造異性基のいずれかである。 これらシクロペンテニルフエノール系化合物を
反応させるに当り、用いられる酸性触媒としては
硫酸、リン酸、硝酸、塩酸などの鉱酸及びパラト
ルエンスルホン酸、さらに三沸化ホウ素、塩化ア
ルミニウム、塩化モリブデンなどのルイス酸があ
げられる。 これら触媒の量は用いる触媒の種類によつて異
なるが、シクロペンテニル系化合物に対して0.05
〜5重量%が好ましく、特に0.1〜2.0重量%が好
ましい。触媒量が0.05重量%未満の場合、反応が
遅く、生成物の分子量が小さく、原料モノマーが
多量に残る傾向があり、5重量%を越える場合
は、反応終了後用いた触媒をアルカリ性物質で中
和するが、発生する中和塩の量が多くなる傾向が
ある。 反応温度は用いる触媒の種類及び触媒の量によ
つて異なるが、0℃以上200℃以下が好ましく、
特に50℃以上170℃以下が好ましい。反応温度が
0℃未満と低い場合は、反応が遅くなる傾向があ
り、反応温度が200℃を越えるとシクロペンテニ
ル基及び他の置換基が離脱する反応が起こり易く
なる傾向がある。 反応において溶媒はシクロペンテニルフエノー
ル系化合物が溶融する温度以上で反応を行なう場
合は用いなくともよいが、用いる場合の溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族溶媒、クロロホルム、四塩化炭素、クロルベン
ゼンなどの含塩素溶媒、及びエチルエーテルなど
があげられる。 また、本発明で得られるシクロペンテニルフエ
ノール系重合体の分子量の調節及び得られる重合
体の改質のために、フエノール化合物を添加する
ことができる。このフエノール化合物とは、フエ
ノール、炭素数1〜6のアルキル基を有するアル
キルフエノール、ビスフエノール化合物などがあ
げられ、これらの添加量は、得ようとする高分子
重合体の分子量によつて適宜決定されるが、シク
ロペンテニルフエノール系化合物に対して0〜20
重量%が好ましい。これを越えると一般に分子量
の小さな重合体しか得られない。 反応終了後のシクロペンテニルフエノール系重
合体には反応に用いた酸性触媒及び未反応モノマ
ーを含有するので精製が必要な場合は次のような
精製方法が採用される。 反応に用いた酸性触媒を除去するには、生成し
たシクロペンテニルフエノール系化合物をアセト
ン、テトラヒドロフラン、メタノール、ジオキサ
ンなどの溶媒に溶解させ、これに水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基
性化合物を加え中和する。中和の後、中和塩を
過で除去したのち、用いた溶媒を蒸留で留去す
る。 また、未反応モノマーを除去するには、中和・
脱溶後減圧にして未反応モノマーを蒸留で留去す
るか、あるいは、上記の中和後、貧溶媒例えばn
−ヘキサン、シクロヘキサン等を加えることによ
つて、重合体のみが、容器下部に沈殿物として得
られる。 次に、シクロペンテニルフエノール系化合物の
合成例を示す。 合成例 1 (シクロペンテニルフエノールの合成) 滴下ロート、温度計、及び撹拌器を取付けた1
三つ口フラスコにトルエン300g及びフエノー
ル188g(2.0モル)を仕込む。さらに触媒として
85%リン酸を20g加え、30℃に加温撹拌した。こ
の状態に滴下ロートからシクロペンタジエン99g
(1.5モル)を30分かかつて滴下した。発熱反応で
あるので、多少冷却しながら滴下した。滴下後さ
らに30℃のまま撹拌を8時間続け反応を進めた。 ガスクロマトグラフイーによりシクロペンタジ
エンが反応で消失したことを確認し、炭酸ナトリ
ウム15gを加え触媒のリン酸を中和した。中和
後、中和塩及び過剰の炭酸ナトリウムを過によ
り除去した。 得られた中和反応液をクライゼン型分留管を付
けた蒸留器に入れ、トルエン及び未反応フエノー
ルを除去したのち、1mmHgで90℃〜115℃の留分
を得た。このものはガスクロマトグラフイーの結
果、o−シクロペンテニルフエノールが15.5重量
%、p−シクロペンテニルフエノールが84.5重量
%の混合物であつた。 合成例 2 (p−シクロペンテニルフエノールの合成) 合成例1で得られたo−,p−混合のシクロペ
ンテニルフエノール100gをn−ヘキサン100gに
熱時溶解させ、冷却して析出した結晶を回収して
乾燥し、p−シクロペンテニルフエノール60gを
得た。得られたp−シクロペンテニルフエノール
は融点が60〜62℃の無色針状結晶であつた。 合成例 3 (2−メチル−4−シクロペンテニルフエノー
ルの合成) 滴下ロート、温度計、及び撹拌器を取付けた
500ml三つ口フラスコにトルエン150g及びo−ク
レゾール93.1g(0.861モル)を加え、さらに触
媒として85%リン酸を18.6g加え撹拌を開始し
た。反応器内温度は24℃であつた。この状態に、
滴下ロートからシクロペンタジエン62g(0.94モ
ル)を30分かかつて除去に滴下した。反応温度24
℃〜27℃でさらに8時間撹拌を行ない反応を進め
た。 反応後、反応液を分液ロートに移し、下層にた
まつたリン酸を除いたのち、20%炭酸ナトリウム
水溶液を加え分析ロート内で中和する。下層の水
層を分液除去したのち上層のトルエン層をビーカ
ー内で無水硫酸ナトリウムで脱水した。得られた
中和反応液をクライゼン型分留管を取付けた蒸留
器へ入れ、トルエン及び未反応o−クレゾールを
除去したのち、4mmHgで138〜141℃の留分を得
た。このものは室温で液状であり核磁気共鳴
(NMR)スペクトル、元素分析の結果から2−メ
チル−4−シクロペンテニルフエノールであるこ
とを確認した。 実施例 1 合成例2で得られた4−シクロペンテニルフエ
ノール50gを温度計、撹拌器付きの100ml三つ口
フラスコに仕込み、150℃に加熱し、パラトルエ
ンスルホン酸0.5gを加え、2時間30分加熱撹拌
を行なつた。 反応終了後、内容物をステンレス製皿に移し、
冷却固化させる固形物を粉砕し、アセトン100g
に溶解させ、さらに炭酸ナトリウム5gを加え
て、5時間撹拌を続け触媒に用いたパラトルエン
スルホン酸を中和し、その後過で中和塩と過剰
の炭酸ナトリウムを除去した。 中和の終了したアセトン溶液をロータリーエバ
ポレーターで減圧下にアセトンを除去し、黒かつ
色固体の樹脂を45g得た。 この樹脂の軟化点は75℃であつた。 また、この樹脂を排除限界5000のカラム(カラ
ム剤:GELKO A−120、日立化成工業(株)商品
名)を4本直列につなぎ、溶離液としてテトラヒ
ドロフランを用いた高速液体クロマトグラフイー
で分析し、標準ポリスチレンの検量線を用いて、
重量平均分子量を求めたところ、770の重合体で
あつた。 さらに、NMR分析を行ない原料4−シクロペ
ンテニルフエノールと生成した樹脂とを比較した
ところ、4−シクロペンテニルフエノールはδ値
5.7ppmにシクロペンテン環の二重結合プロトン
が存在するが、生成した樹脂ではこの二重結合プ
ロトンが消失し、重合に使われていることがわか
つた。また、ベンゼン環プロトン量とアルキル基
プロトン量とを比較したところ、表2に示すとお
りであり、シクロペンテニル基の二重結合は他の
シクロペンテニルフエノールのo−位へアルキル
化したことで重合体が得られたことがわかつた。
ソプロピル基のいずれかであり、ブチル基はn−
ブチル基、sec−ブチル基またはtert−ブチル基
のいずれかであり、ペンチル基はn−ペンチル基
およびその他の構造異性基のいずれかである。 これらシクロペンテニルフエノール系化合物を
反応させるに当り、用いられる酸性触媒としては
硫酸、リン酸、硝酸、塩酸などの鉱酸及びパラト
ルエンスルホン酸、さらに三沸化ホウ素、塩化ア
ルミニウム、塩化モリブデンなどのルイス酸があ
げられる。 これら触媒の量は用いる触媒の種類によつて異
なるが、シクロペンテニル系化合物に対して0.05
〜5重量%が好ましく、特に0.1〜2.0重量%が好
ましい。触媒量が0.05重量%未満の場合、反応が
遅く、生成物の分子量が小さく、原料モノマーが
多量に残る傾向があり、5重量%を越える場合
は、反応終了後用いた触媒をアルカリ性物質で中
和するが、発生する中和塩の量が多くなる傾向が
ある。 反応温度は用いる触媒の種類及び触媒の量によ
つて異なるが、0℃以上200℃以下が好ましく、
特に50℃以上170℃以下が好ましい。反応温度が
0℃未満と低い場合は、反応が遅くなる傾向があ
り、反応温度が200℃を越えるとシクロペンテニ
ル基及び他の置換基が離脱する反応が起こり易く
なる傾向がある。 反応において溶媒はシクロペンテニルフエノー
ル系化合物が溶融する温度以上で反応を行なう場
合は用いなくともよいが、用いる場合の溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香
族溶媒、クロロホルム、四塩化炭素、クロルベン
ゼンなどの含塩素溶媒、及びエチルエーテルなど
があげられる。 また、本発明で得られるシクロペンテニルフエ
ノール系重合体の分子量の調節及び得られる重合
体の改質のために、フエノール化合物を添加する
ことができる。このフエノール化合物とは、フエ
ノール、炭素数1〜6のアルキル基を有するアル
キルフエノール、ビスフエノール化合物などがあ
げられ、これらの添加量は、得ようとする高分子
重合体の分子量によつて適宜決定されるが、シク
ロペンテニルフエノール系化合物に対して0〜20
重量%が好ましい。これを越えると一般に分子量
の小さな重合体しか得られない。 反応終了後のシクロペンテニルフエノール系重
合体には反応に用いた酸性触媒及び未反応モノマ
ーを含有するので精製が必要な場合は次のような
精製方法が採用される。 反応に用いた酸性触媒を除去するには、生成し
たシクロペンテニルフエノール系化合物をアセト
ン、テトラヒドロフラン、メタノール、ジオキサ
ンなどの溶媒に溶解させ、これに水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基
性化合物を加え中和する。中和の後、中和塩を
過で除去したのち、用いた溶媒を蒸留で留去す
る。 また、未反応モノマーを除去するには、中和・
脱溶後減圧にして未反応モノマーを蒸留で留去す
るか、あるいは、上記の中和後、貧溶媒例えばn
−ヘキサン、シクロヘキサン等を加えることによ
つて、重合体のみが、容器下部に沈殿物として得
られる。 次に、シクロペンテニルフエノール系化合物の
合成例を示す。 合成例 1 (シクロペンテニルフエノールの合成) 滴下ロート、温度計、及び撹拌器を取付けた1
三つ口フラスコにトルエン300g及びフエノー
ル188g(2.0モル)を仕込む。さらに触媒として
85%リン酸を20g加え、30℃に加温撹拌した。こ
の状態に滴下ロートからシクロペンタジエン99g
(1.5モル)を30分かかつて滴下した。発熱反応で
あるので、多少冷却しながら滴下した。滴下後さ
らに30℃のまま撹拌を8時間続け反応を進めた。 ガスクロマトグラフイーによりシクロペンタジ
エンが反応で消失したことを確認し、炭酸ナトリ
ウム15gを加え触媒のリン酸を中和した。中和
後、中和塩及び過剰の炭酸ナトリウムを過によ
り除去した。 得られた中和反応液をクライゼン型分留管を付
けた蒸留器に入れ、トルエン及び未反応フエノー
ルを除去したのち、1mmHgで90℃〜115℃の留分
を得た。このものはガスクロマトグラフイーの結
果、o−シクロペンテニルフエノールが15.5重量
%、p−シクロペンテニルフエノールが84.5重量
%の混合物であつた。 合成例 2 (p−シクロペンテニルフエノールの合成) 合成例1で得られたo−,p−混合のシクロペ
ンテニルフエノール100gをn−ヘキサン100gに
熱時溶解させ、冷却して析出した結晶を回収して
乾燥し、p−シクロペンテニルフエノール60gを
得た。得られたp−シクロペンテニルフエノール
は融点が60〜62℃の無色針状結晶であつた。 合成例 3 (2−メチル−4−シクロペンテニルフエノー
ルの合成) 滴下ロート、温度計、及び撹拌器を取付けた
500ml三つ口フラスコにトルエン150g及びo−ク
レゾール93.1g(0.861モル)を加え、さらに触
媒として85%リン酸を18.6g加え撹拌を開始し
た。反応器内温度は24℃であつた。この状態に、
滴下ロートからシクロペンタジエン62g(0.94モ
ル)を30分かかつて除去に滴下した。反応温度24
℃〜27℃でさらに8時間撹拌を行ない反応を進め
た。 反応後、反応液を分液ロートに移し、下層にた
まつたリン酸を除いたのち、20%炭酸ナトリウム
水溶液を加え分析ロート内で中和する。下層の水
層を分液除去したのち上層のトルエン層をビーカ
ー内で無水硫酸ナトリウムで脱水した。得られた
中和反応液をクライゼン型分留管を取付けた蒸留
器へ入れ、トルエン及び未反応o−クレゾールを
除去したのち、4mmHgで138〜141℃の留分を得
た。このものは室温で液状であり核磁気共鳴
(NMR)スペクトル、元素分析の結果から2−メ
チル−4−シクロペンテニルフエノールであるこ
とを確認した。 実施例 1 合成例2で得られた4−シクロペンテニルフエ
ノール50gを温度計、撹拌器付きの100ml三つ口
フラスコに仕込み、150℃に加熱し、パラトルエ
ンスルホン酸0.5gを加え、2時間30分加熱撹拌
を行なつた。 反応終了後、内容物をステンレス製皿に移し、
冷却固化させる固形物を粉砕し、アセトン100g
に溶解させ、さらに炭酸ナトリウム5gを加え
て、5時間撹拌を続け触媒に用いたパラトルエン
スルホン酸を中和し、その後過で中和塩と過剰
の炭酸ナトリウムを除去した。 中和の終了したアセトン溶液をロータリーエバ
ポレーターで減圧下にアセトンを除去し、黒かつ
色固体の樹脂を45g得た。 この樹脂の軟化点は75℃であつた。 また、この樹脂を排除限界5000のカラム(カラ
ム剤:GELKO A−120、日立化成工業(株)商品
名)を4本直列につなぎ、溶離液としてテトラヒ
ドロフランを用いた高速液体クロマトグラフイー
で分析し、標準ポリスチレンの検量線を用いて、
重量平均分子量を求めたところ、770の重合体で
あつた。 さらに、NMR分析を行ない原料4−シクロペ
ンテニルフエノールと生成した樹脂とを比較した
ところ、4−シクロペンテニルフエノールはδ値
5.7ppmにシクロペンテン環の二重結合プロトン
が存在するが、生成した樹脂ではこの二重結合プ
ロトンが消失し、重合に使われていることがわか
つた。また、ベンゼン環プロトン量とアルキル基
プロトン量とを比較したところ、表2に示すとお
りであり、シクロペンテニル基の二重結合は他の
シクロペンテニルフエノールのo−位へアルキル
化したことで重合体が得られたことがわかつた。
【表】
実施例 2
合成例1で得られたo−シクロペンテニルフエ
ノールと、p−シクロペンテニルフエノールとが
それぞれ15.5重量%および84.5重量%で存在する
混合シクロペンテニルフエノール50gを実施例1
とまつたく同一のフラスコに仕込み、パラトルエ
ンスルホン酸0.5gを加え、150℃で5時間反応さ
せた。反応後実施例1とまつたく同一の方法で中
和、脱溶を行ない、黒かつ色樹脂を46g得た。 この樹脂の軟化点は85℃であつた。また排除限
界5000のカラム(カラム剤:GELKO A−120、
日立化成工業(株)商品名)を2本直列につなぎ、溶
離液としてテトラヒドロフランを用いた高速液体
クロマトグラフイーで分析したところ、分子量
5000を越える分子が一部存在する重量平均分子量
が1100の重合体であつた。 この重合体のNMR分析の結果では、原料の
NMR分析で検出されたδ値5.8ppmのピーク(シ
クロペンテニル基の二重結合プロトンのピーク)
が消失しており重合に使用されたことがわかる。 以上のことからo−シクロペンテニルフエノー
ルもp−シクロペンテニルフエノールと同様に反
応し、重合体を生成することがわかる。 実施例 3 合成例3で得られた2−メチル−4−シクロペ
ンテニルフエノール25gを実施例1とまつたく同
一のフラスコに仕込み、トルエン25gを溶媒とし
て加え、さらにパラトルエンスルホン酸0.5gを
加え80℃で8時間反応させた。 反応後、フラスコ内にテトラヒドロフランを10
g加えたのち、フラスコ内の液を分液ロートに入
れ、水を加えてパラトルエンスルホン酸を水洗除
去した。この後、ロータリーエバポレータで溶媒
のトルエン、テトラヒドロフランを除去し、黒色
の重合体15gを得た。 この重合体を実施例2と同様にして高速液体ク
ロマトグラフイーで分析したところ、重量平均分
子量が1300の重合体であり、核磁気共鳴分析を行
なつたところ、δ値が5.75ppmの原料2−メチル
−4−シクロペンテニルフエノールの二重結合プ
ロトンが消失していることがわかつた。 このことから、アルキル基を有するシクロペン
テニルフエノール化合物も重合体を生成すること
がわかる。 実施例 4 合成例1で得られたo−シクロペンテニルフエ
ノールとp−シクロペンテニルフエノールとがそ
れぞれ15.5重量%及び84.5重量%の混合シクロペ
ンテニルフエノール45gにフエノール5gを加え
て得た混合フエノール原料を実施例1とまつたく
同一のフラスコに仕込み、パラトルエンスルホン
酸0.5gを加え、150℃で5時間反応させた。反応
後、実施例1とまつたく同一の方法で中和脱溶を
行ない、黒かつ色の重合体46gを得た。 この樹脂の軟化点は72℃であり、実施例1と同
様にして高速液体クロマトグラフイーの分析した
結果、重量平均分子量は750であつた。 このことから、フエノールが存在していても、
フエノールは重合体中に取込まれることがわか
る。 応用例 (タイヤゴム補強材) 実施例2で得られた樹脂10部を素練りの終つた
天然ゴム100部、カーボンブラツク50部、酸化亜
鉛5部、ステアリン酸2部、スピンドル油5部と
ともに70℃で5分間ロールで混合し、さらに硫黄
2.5部およびチアゾール系加硫促進剤1部、ヘキ
サメチレンジアミン1部を加え70℃10分間ロール
練りを行ない配合練り上り生地とした。 この練り上り生地を、140℃、10Kg、30分間の
条件でプレス加硫を行ないゴムシートを得た。こ
のゴムシートの物性値を表3に示す。 比較応用例 1 フラスコにフエノール50部、80%パラホルムア
ルデヒド20部、およびトルエン25部を仕込み、触
媒としてパラトルエンスルホン酸0.1部を加え、
80℃で3時間および、100℃で2時間反応させた
後、NaOH水溶液で触媒を中和し、中和塩を過
除去し、エバポレータでトルエンを留去し、軟化
点95℃のフエノールノボラツク樹脂を得た。この
樹脂の平均分子量は920であつた。このフエノー
ルノボラツク樹脂を応用例とまつたく同一の配合
で練り上り生地をつくり、プレス加硫し、ゴム物
性を測定し、その結果を表3に併せて示した。 比較応用例 2 比較応用例1のフエノール50部の替りにメタク
レゾール30%とパラクレゾール70%の混合クレゾ
ール85部を用いた他は実施応用例1とまつたく同
一に反応させ、軟化点80℃の黄色のクレゾールノ
ボラツク樹脂を得た。この樹脂の平均分子量は
870であつた。このクレゾールノボラツク樹脂を
応用例とまつたく同一の配合で練り上り生地をつ
くり、プレス加硫し、ゴム物性を測定した。表3
にその結果を併せて示した。
ノールと、p−シクロペンテニルフエノールとが
それぞれ15.5重量%および84.5重量%で存在する
混合シクロペンテニルフエノール50gを実施例1
とまつたく同一のフラスコに仕込み、パラトルエ
ンスルホン酸0.5gを加え、150℃で5時間反応さ
せた。反応後実施例1とまつたく同一の方法で中
和、脱溶を行ない、黒かつ色樹脂を46g得た。 この樹脂の軟化点は85℃であつた。また排除限
界5000のカラム(カラム剤:GELKO A−120、
日立化成工業(株)商品名)を2本直列につなぎ、溶
離液としてテトラヒドロフランを用いた高速液体
クロマトグラフイーで分析したところ、分子量
5000を越える分子が一部存在する重量平均分子量
が1100の重合体であつた。 この重合体のNMR分析の結果では、原料の
NMR分析で検出されたδ値5.8ppmのピーク(シ
クロペンテニル基の二重結合プロトンのピーク)
が消失しており重合に使用されたことがわかる。 以上のことからo−シクロペンテニルフエノー
ルもp−シクロペンテニルフエノールと同様に反
応し、重合体を生成することがわかる。 実施例 3 合成例3で得られた2−メチル−4−シクロペ
ンテニルフエノール25gを実施例1とまつたく同
一のフラスコに仕込み、トルエン25gを溶媒とし
て加え、さらにパラトルエンスルホン酸0.5gを
加え80℃で8時間反応させた。 反応後、フラスコ内にテトラヒドロフランを10
g加えたのち、フラスコ内の液を分液ロートに入
れ、水を加えてパラトルエンスルホン酸を水洗除
去した。この後、ロータリーエバポレータで溶媒
のトルエン、テトラヒドロフランを除去し、黒色
の重合体15gを得た。 この重合体を実施例2と同様にして高速液体ク
ロマトグラフイーで分析したところ、重量平均分
子量が1300の重合体であり、核磁気共鳴分析を行
なつたところ、δ値が5.75ppmの原料2−メチル
−4−シクロペンテニルフエノールの二重結合プ
ロトンが消失していることがわかつた。 このことから、アルキル基を有するシクロペン
テニルフエノール化合物も重合体を生成すること
がわかる。 実施例 4 合成例1で得られたo−シクロペンテニルフエ
ノールとp−シクロペンテニルフエノールとがそ
れぞれ15.5重量%及び84.5重量%の混合シクロペ
ンテニルフエノール45gにフエノール5gを加え
て得た混合フエノール原料を実施例1とまつたく
同一のフラスコに仕込み、パラトルエンスルホン
酸0.5gを加え、150℃で5時間反応させた。反応
後、実施例1とまつたく同一の方法で中和脱溶を
行ない、黒かつ色の重合体46gを得た。 この樹脂の軟化点は72℃であり、実施例1と同
様にして高速液体クロマトグラフイーの分析した
結果、重量平均分子量は750であつた。 このことから、フエノールが存在していても、
フエノールは重合体中に取込まれることがわか
る。 応用例 (タイヤゴム補強材) 実施例2で得られた樹脂10部を素練りの終つた
天然ゴム100部、カーボンブラツク50部、酸化亜
鉛5部、ステアリン酸2部、スピンドル油5部と
ともに70℃で5分間ロールで混合し、さらに硫黄
2.5部およびチアゾール系加硫促進剤1部、ヘキ
サメチレンジアミン1部を加え70℃10分間ロール
練りを行ない配合練り上り生地とした。 この練り上り生地を、140℃、10Kg、30分間の
条件でプレス加硫を行ないゴムシートを得た。こ
のゴムシートの物性値を表3に示す。 比較応用例 1 フラスコにフエノール50部、80%パラホルムア
ルデヒド20部、およびトルエン25部を仕込み、触
媒としてパラトルエンスルホン酸0.1部を加え、
80℃で3時間および、100℃で2時間反応させた
後、NaOH水溶液で触媒を中和し、中和塩を過
除去し、エバポレータでトルエンを留去し、軟化
点95℃のフエノールノボラツク樹脂を得た。この
樹脂の平均分子量は920であつた。このフエノー
ルノボラツク樹脂を応用例とまつたく同一の配合
で練り上り生地をつくり、プレス加硫し、ゴム物
性を測定し、その結果を表3に併せて示した。 比較応用例 2 比較応用例1のフエノール50部の替りにメタク
レゾール30%とパラクレゾール70%の混合クレゾ
ール85部を用いた他は実施応用例1とまつたく同
一に反応させ、軟化点80℃の黄色のクレゾールノ
ボラツク樹脂を得た。この樹脂の平均分子量は
870であつた。このクレゾールノボラツク樹脂を
応用例とまつたく同一の配合で練り上り生地をつ
くり、プレス加硫し、ゴム物性を測定した。表3
にその結果を併せて示した。
【表】
表3により、シクロペンテニルフエノール系重
合体を用いると、ゴムの硬さおよび引張り試験に
おける強度及び伸びが、フエノールノボラツク樹
脂および、クレゾールノボラツク樹脂に比較し、
向上することが示される。
合体を用いると、ゴムの硬さおよび引張り試験に
おける強度及び伸びが、フエノールノボラツク樹
脂および、クレゾールノボラツク樹脂に比較し、
向上することが示される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 (ただし、式中、Rは水素、ハロゲン、ニトロ
基、炭素数が1から5のアルキル基、またはアル
コキシ基であり、mは1または2であり、nは
1,2または3であつてm+nは4以下であり、
OH基に対して二つのO−位およびP−位のうち
少なくとも1つは水素が結合している)で表わさ
れるシクロペンテニルフエノール系化合物の中か
ら選ばれた少なくとも1種を酸性触媒下に反応さ
せることを特徴とするシクロペンテニルフエノー
ル系重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25113483A JPS60135427A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | シクロペンテニルフエノ−ル系重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25113483A JPS60135427A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | シクロペンテニルフエノ−ル系重合体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60135427A JPS60135427A (ja) | 1985-07-18 |
| JPS6116764B2 true JPS6116764B2 (ja) | 1986-05-02 |
Family
ID=17218174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25113483A Granted JPS60135427A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | シクロペンテニルフエノ−ル系重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60135427A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998023568A1 (fr) * | 1996-11-29 | 1998-06-04 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Composes de cyclopentylene et intermediaires de ceux-ci, compositions de resine epoxyde, matiere de moulage et dispositif electronique etanche par resine |
-
1983
- 1983-12-23 JP JP25113483A patent/JPS60135427A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60135427A (ja) | 1985-07-18 |
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