JPS6120782B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6120782B2 JPS6120782B2 JP9893879A JP9893879A JPS6120782B2 JP S6120782 B2 JPS6120782 B2 JP S6120782B2 JP 9893879 A JP9893879 A JP 9893879A JP 9893879 A JP9893879 A JP 9893879A JP S6120782 B2 JPS6120782 B2 JP S6120782B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- saucer
- frequency
- heating chamber
- positioning
- positioning body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Ovens (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置、特にその受皿の位置
決体部分に関するもので、その目的とするところ
は受皿とこの受皿の位置決めと行う位置決体との
間でスパークが発生するのを防止することにあ
る。
決体部分に関するもので、その目的とするところ
は受皿とこの受皿の位置決めと行う位置決体との
間でスパークが発生するのを防止することにあ
る。
従来の高周波加熱装置では、受皿の位置決めを
行う位置決体を、この受皿を載置した置台に設け
ていたが、この場合次のような欠点があつた。
行う位置決体を、この受皿を載置した置台に設け
ていたが、この場合次のような欠点があつた。
すなわち、受皿や位置決体は耐熱や加工のしや
すさ等から金属で形成されており、調理開始にと
もなつて高周波電磁波が供給されるとこの両者間
でスパークが発生し、両者を損傷してしまうので
あつた。
すさ等から金属で形成されており、調理開始にと
もなつて高周波電磁波が供給されるとこの両者間
でスパークが発生し、両者を損傷してしまうので
あつた。
そこで本発明では位置決体を高周波電磁波の波
長のほぼ1/4の大きさにすることにより上記従来
の欠点を解消しようとするものである。
長のほぼ1/4の大きさにすることにより上記従来
の欠点を解消しようとするものである。
以下、本発明の一実施例を添付図面にもとづい
て説明する。
て説明する。
第１図において、１は本体ケースで、この本体
ケース１の前面右方には操作パネル２が設けられ
ており、またこの本体ケース１の内部には加熱室
３が設けられており、さらに加熱室３の前面には
ドアスクリーン４を備えたドア５が開閉自在に設
けられている。
ケース１の前面右方には操作パネル２が設けられ
ており、またこの本体ケース１の内部には加熱室
３が設けられており、さらに加熱室３の前面には
ドアスクリーン４を備えたドア５が開閉自在に設
けられている。
上記加熱室３内の上方にはヒーター（図示せ
ず）が設けられ、さらにこの加熱室３内には高周
波発振器（図示せず）から高周波電磁波が供給さ
れるようになつている。
ず）が設けられ、さらにこの加熱室３内には高周
波発振器（図示せず）から高周波電磁波が供給さ
れるようになつている。
すなわち、本実施例においては、調理物をヒー
タによる加熱と高周波電磁波による誘電加熱が行
われる構成となつているのである。
タによる加熱と高周波電磁波による誘電加熱が行
われる構成となつているのである。
第２図、第３図は上記加熱室３内に着脱自在に
設けられた付属部品を示している。
設けられた付属部品を示している。
すなわち第２図に示す如く加熱室３の底壁６に
は円形の凹部７がしぼり加工により設けられてお
り、この凹部７内には円板形状の回転板８が回転
自在に設けられている。
は円形の凹部７がしぼり加工により設けられてお
り、この凹部７内には円板形状の回転板８が回転
自在に設けられている。
ここでこの回転板８の回転駆動動作について簡
単に説明しておくと、特に図示していないがこの
回転板８の下面には複数の永久磁石が円形に配置
させられており、一方底壁６の下方には上記永久
磁石に対向して複数の永久磁石を備えた回転駆動
板が設けられており、この回転駆動板を回すこと
により上記両永久磁力の磁気結合（例えば吸引
力）で回転板８を回転駆動するようになつている
のである。
単に説明しておくと、特に図示していないがこの
回転板８の下面には複数の永久磁石が円形に配置
させられており、一方底壁６の下方には上記永久
磁石に対向して複数の永久磁石を備えた回転駆動
板が設けられており、この回転駆動板を回すこと
により上記両永久磁力の磁気結合（例えば吸引
力）で回転板８を回転駆動するようになつている
のである。
なお、底壁６は上記両永久磁石の磁気結合を得
るため、つまり磁束が通るようにステンレス
SUS304のような非磁性体で形成している。
るため、つまり磁束が通るようにステンレス
SUS304のような非磁性体で形成している。
次に第２図において、９は回転板８の支持ロー
ラ、１０は底面に脚１１を有する第１の受皿であ
る。１２は第３図のごとく略円形をした金属線材
製の置台で、この置台１２は三方に脚部１３を一
体に有し、各脚部１３の下端にはセラミツク等の
絶縁体よりなる脚１４を装着している。
ラ、１０は底面に脚１１を有する第１の受皿であ
る。１２は第３図のごとく略円形をした金属線材
製の置台で、この置台１２は三方に脚部１３を一
体に有し、各脚部１３の下端にはセラミツク等の
絶縁体よりなる脚１４を装着している。
１５は金属製で円形をした第２の受皿であり、
この受皿１５は置台１２の上面に載置されるとと
もに、置台１２に溶接で固定された３つの金属製
の位置決体１６によつて位置決めされるようにな
つている。
この受皿１５は置台１２の上面に載置されるとと
もに、置台１２に溶接で固定された３つの金属製
の位置決体１６によつて位置決めされるようにな
つている。
上記構成において、第２図は加熱室３内で、グ
リル調理を行う場合を示している。
リル調理を行う場合を示している。
すなわち、このグリル調理時にはヒータと調理
物との距離をできるだけ近ずけて高温加熱する方
が好ましいので第１の受皿１０の上に置台１２、
第２の受皿１５を設けた、この受皿１５内に調理
物を入れるのである。
物との距離をできるだけ近ずけて高温加熱する方
が好ましいので第１の受皿１０の上に置台１２、
第２の受皿１５を設けた、この受皿１５内に調理
物を入れるのである。
この場合第２の受皿１５は位置決体１６によつ
て置台１２上に位置決めされているが、高周波電
磁波によつて位置決体１６と受皿１５の間にスパ
ークが生じて、損傷する恐れがある。
て置台１２上に位置決めされているが、高周波電
磁波によつて位置決体１６と受皿１５の間にスパ
ークが生じて、損傷する恐れがある。
そこで本実施例では、円板体で、その外径が高
周波電磁波の波長（普通ほぼ12cm）の1/4の大き
さ（３cm）の位置決体１６の一部を第４図ａ，ｂ
のごとく上方に折曲げることとした。
周波電磁波の波長（普通ほぼ12cm）の1/4の大き
さ（３cm）の位置決体１６の一部を第４図ａ，ｂ
のごとく上方に折曲げることとした。
このため、位置決体１６の外周部では電界強度
がほぼ零となり、この結果受皿１５と位置決体１
６との間でスパークが発生することはなくなつ
た。
がほぼ零となり、この結果受皿１５と位置決体１
６との間でスパークが発生することはなくなつ
た。
なお、上記実施例では位置決体１６を円形とし
たが、これは例えばだ円やその他の形状でも良
い。
たが、これは例えばだ円やその他の形状でも良
い。
以上のように本発明によれば受皿と位置決体と
の間でスパークが生じることがなくなり、その損
傷等の問題がおきない。
の間でスパークが生じることがなくなり、その損
傷等の問題がおきない。
第１図は本発明の一実施例にかかる高周波加熱
装置の斜視図、第２図は同装置の要部拡大断面
図、第３図は同装置の要部拡大斜視図、第４図
ａ，ｂは同装置の要部拡大上面図と要部拡大正面
図である。 ３……加熱室、１２……置台、１５……受皿、
１６……位置決体。
装置の斜視図、第２図は同装置の要部拡大断面
図、第３図は同装置の要部拡大斜視図、第４図
ａ，ｂは同装置の要部拡大上面図と要部拡大正面
図である。 ３……加熱室、１２……置台、１５……受皿、
１６……位置決体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高周波発振器から高周波電磁波が供給される
加熱室と、この加熱室内に設けられた置台と、こ
の置台の上に載置された受皿とを備え、上記置台
に受皿の位置決体を１つあるいは複数個設けると
ともに、この位置決体は上記高周波電磁波の１波
長のほぼ1/4の大きさとしたことを特徴とする高
周波加熱装置。 ２ 位置決体は円板体の一部を上方に折曲げて形
成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9893879A JPS5623635A (en) | 1979-08-01 | 1979-08-01 | High-frequency heating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9893879A JPS5623635A (en) | 1979-08-01 | 1979-08-01 | High-frequency heating device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5623635A JPS5623635A (en) | 1981-03-06 |
| JPS6120782B2 true JPS6120782B2 (ja) | 1986-05-23 |
Family
ID=14233051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9893879A Granted JPS5623635A (en) | 1979-08-01 | 1979-08-01 | High-frequency heating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5623635A (ja) |
-
1979
- 1979-08-01 JP JP9893879A patent/JPS5623635A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5623635A (en) | 1981-03-06 |
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