JPS6127394B2 - - Google Patents
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
この発明は、新規な5′−N−置換セフアロスポ
リンCより工業的に有利に3−置換−7−アミノ
セフアロスポラン酸類を製造する方法に関する。 この発明の発明者は、先に発酵法で得られるセ
フアロスポリンCの培養液を部分精製したセフア
ロスポリンCの希薄溶液から、含有するセフアロ
スポリンCの5′位のアミノ基を特定のアルキルチ
オ(又はスルフイニル)アシル化剤でアシル化し
て新規な誘導体とし、これをキノリンのような塩
基と処理することにより高収率でセフアロスポリ
ンCを沈澱さすことを見出したが、こゝで得られ
る新規な誘導体を原料として一連の工程により3
−置換−7−アミノセフアロスポラン酸類を高収
率で得る方法を見い出し、この発明を完成するに
至つた。 かくして、この発明の方法は、一般式 (式中R1は低級アルキル基、Yは硫黄原子又はス
ルフイニル基、R2は低級アルキレン基をそれぞ
れ意味する) で示される5′−N−置換セフアロスポリンC又は
その塩類に、アジ化アルカリ金属塩又は一般式
HS−R3(式中R3は複素環基で、メチル基で置換
されていてもよい)のチオールもしくはその塩類
を反応させ、得られる3位置換体の4位及び5′位
のカルボキシル基を易加水分解性のエステルまた
は混合酸無水物の形に導いてカルボキシル基を保
護し、イミノハライド形成剤次いで低級脂肪族ア
ルコールを反応させてイミノエーテルを生成さ
せ、得られたイミノエーテルを酸性領域で加水分
解して一般式 (式中Xはアジド基又は−S−R3(R3は前述と同
一意味)を意味する) で示される3−置換−7−アミノセフアロスポラ
ン酸類を得ることよりなる。 この発明に原料として用いられる一般式()
の化合物は新規であり、部分精製し必要に応じ一
部濃縮したセフアロスポリンC培養液に一般式
R1−Y−R2−COOH(式中R1、Y、R2は前述と
同一意味)で示されるカルボン酸の反応性誘導体
を反応させることにより生成さすことができ、更
にこれにキノリンがイソキノリンのような塩基を
加えることにより沈澱として高収率で分離するこ
とができる。この発明の原料()は、勿論セフ
アロスポリンCからも作ることができるが、工業
的には上記のような培養液から直接製造し、使用
することが望まれる。 この発明の原料である一般式()の化合物に
おける5′位のN−アシル基の具体例としては、メ
チルチオアセチル、エチルチオアセチル、イソプ
ロピルチオアセチル、2−メチルチオプロピオニ
ル、メチルチオプロピオニル、エチルチオプロピ
オニル、イソプロピルチオプロピオニル、3−メ
チルチオ−2−メチルプロピオニル及びそれらの
対応スルフイニル体などが挙げられる。更に一般
式()の化合物の塩類としては、アルカリ金属
塩、トリアルキルアミン塩、キノリン塩、、イソ
キノリン塩などが挙げられ、このような塩類を原
料とする場合もこの発明に含まれる。しかしなが
ら、一般には一般式()の化合物そのものを用
いた方がよい。たとえば一般式()の化合物の
キノリン塩やイソキノリン塩を用いた場合は、そ
れらの塩類は水に難溶性であり、この発明の第1
の工程即ち3位の置換反応を行うに当つて、例え
ばその水性懸濁液を中性に調節し、そのまま又は
有機溶媒で処理し、塩基を除いて残る水性液が反
応に付せられる。 一般式()の化合物とアジ化アルカリ金属塩
又は一般式HS−R3のチオールあるいはその塩類
との反応は、通常水性溶媒中PH約5.0〜8.0に調節
しながら行われる。こゝで使用する水性溶媒に
は、水単独以外に脂肪族低級アルコール(たとえ
ばメタノール)、アセトン、ジオキサンなどの有
機溶媒と水との混合溶媒が含まれる。溶媒の選択
は、主に反応さすべき試剤の水に対する溶解度を
考慮して決められる。この反応のPHの調節は、た
とえばリン酸緩衝液を反応液に添加すると簡便に
行うことができる。反応時には、わずかに加熱す
ることが好ましい場合が多い。 こゝで使用する一般式HS−R3のチオールとし
て、1・3・4−チアジアゾール−2−チオー
ル、5−メチル−1・3・4−チアジアゾール−
2−チオール、テトラゾール−5−チオール、1
−メチル−テトラゾール−5−チオール、1・
3・4−オキサジアゾール−2−チオール、5−
メチル−1・3・4−オキサジアゾール−2−チ
オールなどがこの発明の目的を達する上に好適に
使用される例である。 生成する3位置換体(即ち3−置換−5′−N−
置換セフアロスポリンC)は、水性反応液のPHを
酸性にし、有機溶媒で抽出し分離しうる。 この間必要に応じ活性炭処理などで精製を行つ
てもよい。3位置換体を含有する有機溶媒抽出液
をそのまゝ次の反応に付すことができる。 しかしながら、この際水分及びプロトン活性の
有機溶媒が存在するときは予め除去して次の反応
に付される。 3位置換体の4位及び5′位のカルボキシル基
は、7位のアシル基部分の除去に当つて、易加水
分解性のエステル又は混合酸無水物の形に導き保
護される。即ち、そのために3位置換体に反応さ
すべき試剤としては、一般式
リンCより工業的に有利に3−置換−7−アミノ
セフアロスポラン酸類を製造する方法に関する。 この発明の発明者は、先に発酵法で得られるセ
フアロスポリンCの培養液を部分精製したセフア
ロスポリンCの希薄溶液から、含有するセフアロ
スポリンCの5′位のアミノ基を特定のアルキルチ
オ(又はスルフイニル)アシル化剤でアシル化し
て新規な誘導体とし、これをキノリンのような塩
基と処理することにより高収率でセフアロスポリ
ンCを沈澱さすことを見出したが、こゝで得られ
る新規な誘導体を原料として一連の工程により3
−置換−7−アミノセフアロスポラン酸類を高収
率で得る方法を見い出し、この発明を完成するに
至つた。 かくして、この発明の方法は、一般式 (式中R1は低級アルキル基、Yは硫黄原子又はス
ルフイニル基、R2は低級アルキレン基をそれぞ
れ意味する) で示される5′−N−置換セフアロスポリンC又は
その塩類に、アジ化アルカリ金属塩又は一般式
HS−R3(式中R3は複素環基で、メチル基で置換
されていてもよい)のチオールもしくはその塩類
を反応させ、得られる3位置換体の4位及び5′位
のカルボキシル基を易加水分解性のエステルまた
は混合酸無水物の形に導いてカルボキシル基を保
護し、イミノハライド形成剤次いで低級脂肪族ア
ルコールを反応させてイミノエーテルを生成さ
せ、得られたイミノエーテルを酸性領域で加水分
解して一般式 (式中Xはアジド基又は−S−R3(R3は前述と同
一意味)を意味する) で示される3−置換−7−アミノセフアロスポラ
ン酸類を得ることよりなる。 この発明に原料として用いられる一般式()
の化合物は新規であり、部分精製し必要に応じ一
部濃縮したセフアロスポリンC培養液に一般式
R1−Y−R2−COOH(式中R1、Y、R2は前述と
同一意味)で示されるカルボン酸の反応性誘導体
を反応させることにより生成さすことができ、更
にこれにキノリンがイソキノリンのような塩基を
加えることにより沈澱として高収率で分離するこ
とができる。この発明の原料()は、勿論セフ
アロスポリンCからも作ることができるが、工業
的には上記のような培養液から直接製造し、使用
することが望まれる。 この発明の原料である一般式()の化合物に
おける5′位のN−アシル基の具体例としては、メ
チルチオアセチル、エチルチオアセチル、イソプ
ロピルチオアセチル、2−メチルチオプロピオニ
ル、メチルチオプロピオニル、エチルチオプロピ
オニル、イソプロピルチオプロピオニル、3−メ
チルチオ−2−メチルプロピオニル及びそれらの
対応スルフイニル体などが挙げられる。更に一般
式()の化合物の塩類としては、アルカリ金属
塩、トリアルキルアミン塩、キノリン塩、、イソ
キノリン塩などが挙げられ、このような塩類を原
料とする場合もこの発明に含まれる。しかしなが
ら、一般には一般式()の化合物そのものを用
いた方がよい。たとえば一般式()の化合物の
キノリン塩やイソキノリン塩を用いた場合は、そ
れらの塩類は水に難溶性であり、この発明の第1
の工程即ち3位の置換反応を行うに当つて、例え
ばその水性懸濁液を中性に調節し、そのまま又は
有機溶媒で処理し、塩基を除いて残る水性液が反
応に付せられる。 一般式()の化合物とアジ化アルカリ金属塩
又は一般式HS−R3のチオールあるいはその塩類
との反応は、通常水性溶媒中PH約5.0〜8.0に調節
しながら行われる。こゝで使用する水性溶媒に
は、水単独以外に脂肪族低級アルコール(たとえ
ばメタノール)、アセトン、ジオキサンなどの有
機溶媒と水との混合溶媒が含まれる。溶媒の選択
は、主に反応さすべき試剤の水に対する溶解度を
考慮して決められる。この反応のPHの調節は、た
とえばリン酸緩衝液を反応液に添加すると簡便に
行うことができる。反応時には、わずかに加熱す
ることが好ましい場合が多い。 こゝで使用する一般式HS−R3のチオールとし
て、1・3・4−チアジアゾール−2−チオー
ル、5−メチル−1・3・4−チアジアゾール−
2−チオール、テトラゾール−5−チオール、1
−メチル−テトラゾール−5−チオール、1・
3・4−オキサジアゾール−2−チオール、5−
メチル−1・3・4−オキサジアゾール−2−チ
オールなどがこの発明の目的を達する上に好適に
使用される例である。 生成する3位置換体(即ち3−置換−5′−N−
置換セフアロスポリンC)は、水性反応液のPHを
酸性にし、有機溶媒で抽出し分離しうる。 この間必要に応じ活性炭処理などで精製を行つ
てもよい。3位置換体を含有する有機溶媒抽出液
をそのまゝ次の反応に付すことができる。 しかしながら、この際水分及びプロトン活性の
有機溶媒が存在するときは予め除去して次の反応
に付される。 3位置換体の4位及び5′位のカルボキシル基
は、7位のアシル基部分の除去に当つて、易加水
分解性のエステル又は混合酸無水物の形に導き保
護される。即ち、そのために3位置換体に反応さ
すべき試剤としては、一般式
【式】(式
中Xはハロゲン原子、R3はハロゲン原子、低級
アルキル基又は低級アルコキシ基、R4はハロゲ
ン原子又は低級アルコキシ基、但しR3とR4が共
に低級アルコキシ基のときは、Pと共に環を形成
していてもよい。)で示されるリンハロゲン化合
物、又は一般式
アルキル基又は低級アルコキシ基、R4はハロゲ
ン原子又は低級アルコキシ基、但しR3とR4が共
に低級アルコキシ基のときは、Pと共に環を形成
していてもよい。)で示されるリンハロゲン化合
物、又は一般式
【式】(式中Xはハロ
ゲン原子、R5は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基又はハロゲン原子、R6及びR7は低級アルキ
ル基又は低級アルコキシ基)で示される珪素ハロ
ゲン化合物が挙げられる。これらのリン又は珪素
ハロゲン化合物の中で、好ましい化合物の具体例
としては
シ基又はハロゲン原子、R6及びR7は低級アルキ
ル基又は低級アルコキシ基)で示される珪素ハロ
ゲン化合物が挙げられる。これらのリン又は珪素
ハロゲン化合物の中で、好ましい化合物の具体例
としては
【式】
【式】CH3OPCl2、
C2H5OPCl2、PCl3、C4H9OPCl2、CH3PCl2、
C4H9PCl2;(CH3)3SiCl、CH3(CH3O)2SiCl、
(CH3O)3SiCl、CH3O(CH3)2SiCl、
(CH3)2SiCl2、(CH3O)2SiCl2、CH3(CH3O)
SiCl2などが挙げられる。この中に更に好ましい
化合物としてはCH3OPCl2、
C4H9PCl2;(CH3)3SiCl、CH3(CH3O)2SiCl、
(CH3O)3SiCl、CH3O(CH3)2SiCl、
(CH3)2SiCl2、(CH3O)2SiCl2、CH3(CH3O)
SiCl2などが挙げられる。この中に更に好ましい
化合物としてはCH3OPCl2、
【式】
【式】(CH3)3SiCl、CH3
(CH3O)2SiCl、CH3O(CH3)2SiCl、
(CH3O)3SiClなどが挙げられる。その他、炭素ハ
ロゲン化合物であるCOCl2、CH3COClなどを試
剤として用いてもよい。要するにこの発明におい
て3−置換体のカルボキシル基の保護は、次のイ
ミノハライド形成反応及びイミノエーテル形成反
応時に関与しないようにするために行われるもの
であつて、保護基の種類は特に限定されない。し
かしながら、易加水分解性、試剤のコスト、処理
のし易さなどを考慮して上記のごときものから選
択することが望ましい。 このカルボキシル基の保護を行う反応は、塩化
メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、
クロロホルムのような不活性有機溶媒中無水の条
件下でトリエチルアミン、キノリン、ピリジン、
ジメチルアニリン及びこれらの同族体のごとき有
機塩基を添加して行われる。 次いで上記の反応生成物にイミノハライド形成
剤例えば五塩化燐、オキシ塩化燐、ホスゲンを反
応させる。この反応によつて、3−置換体の7位
及び5′位の酸アミド結合をイミノハライドに変換
させる。 その後上記反応液にメタノール、プロパノー
ル、ブタノール、アミルアルコール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、エチレンクロ
ルヒドリン、アルコキシエタノールなどの低級ア
ルコール類を添加する。それによつてイミノハラ
イドをイミノエーテルに変換させる。 以上の二つの反応は、カルボキシル基の保護を
行つた反応液そのまゝが用いられる。 上記で得られたイミノエーテルは、水による加
水分解反応に付し、所望の3−置換−7−アミノ
セフアロスポラン酸類()に導かれる。この加
水分解は酸性で行われるが、通常PH3以下で行う
ことが望ましい。加水分解を行つた反応液を、含
有3−置換−7アミノセフアロスポラン酸()
の等電点に調節すれば、所望物質が沈澱として得
られる。この沈澱は常法に従つて分離、乾燥させ
る。上記の方法によつて所望物質は極めて高収率
且つ高純度で得ることができる。なおこゝで得ら
れる所望物質()の3位の置換分は、原料物質
()で例示して説明した通りである。 次のこの発明の方法を実施例によつて説明する
が、この発明はこれに限定されるものではない。 参考例 1 1ml当りセフアロスポリンC30mg(UV定量法
による)を含有する“樹脂溶離液”20mlにホウ酸
ナトリウム約0.2gを加え希水酸化ナトリウム液
でPH9.0に調整し、これにピバリン酸クロリドと
メチルチオ酢酸のN−メチルモルホリン塩から作
つた混合酸無水物(セフアロスポリンC1モル当
り2.5当量を含む)の酢酸エチル溶液5mlを加
え、0〜10℃で激しく撹拌する。 反応液は、希水酸化ナトリウム液でPH9.0に調
整しながら約1時間反応させる。反応終了は
TLC(ベンゼン:酢酸:ピリジン:水=15:
3:10:12、発色剤は沃化アジド溶液噴霧後加
熱)で確認し、希硫酸PH5〜6に調整する。 有機層を除き水層は30mlに希釈する。(セフア
ロスポリンC換算2%溶液)。この溶液15mlにキ
ノリン0.43ml(セフアロスポリンC1モル当り5
当量)を加え、10℃で撹拌しながら希硫酸でPH
3.0に調整する。 まもなく結晶が析出し始める。1時間撹拌後、
結晶を集め小量の、氷水で洗い、更に酢酸エチル
で洗つて、1夜真空乾燥器で乾燥し、N−メチル
チオアセチル−セフアロスポリンCを得た。 IR 17900cm-1(β−ラクタム)、UVλmax264
mμ。450mg(UV定量法により97%純度)。収率
98% 参考例 2 実施例1に従つて行つたセフアロスポリンCの
3%溶液からの反応液(セフアロスポリンC換算
2%液)各15mlをとり下記のごとく希釈した濃度
の溶液を作り、各々にキノリン0.43ml(セフアロ
スポリンC1モル当り5当量)を加え参考例1に
従い処理した。(カツコ内は、5%食塩水で希釈
したさいの数値を示す。)
(CH3O)3SiClなどが挙げられる。その他、炭素ハ
ロゲン化合物であるCOCl2、CH3COClなどを試
剤として用いてもよい。要するにこの発明におい
て3−置換体のカルボキシル基の保護は、次のイ
ミノハライド形成反応及びイミノエーテル形成反
応時に関与しないようにするために行われるもの
であつて、保護基の種類は特に限定されない。し
かしながら、易加水分解性、試剤のコスト、処理
のし易さなどを考慮して上記のごときものから選
択することが望ましい。 このカルボキシル基の保護を行う反応は、塩化
メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、
クロロホルムのような不活性有機溶媒中無水の条
件下でトリエチルアミン、キノリン、ピリジン、
ジメチルアニリン及びこれらの同族体のごとき有
機塩基を添加して行われる。 次いで上記の反応生成物にイミノハライド形成
剤例えば五塩化燐、オキシ塩化燐、ホスゲンを反
応させる。この反応によつて、3−置換体の7位
及び5′位の酸アミド結合をイミノハライドに変換
させる。 その後上記反応液にメタノール、プロパノー
ル、ブタノール、アミルアルコール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、エチレンクロ
ルヒドリン、アルコキシエタノールなどの低級ア
ルコール類を添加する。それによつてイミノハラ
イドをイミノエーテルに変換させる。 以上の二つの反応は、カルボキシル基の保護を
行つた反応液そのまゝが用いられる。 上記で得られたイミノエーテルは、水による加
水分解反応に付し、所望の3−置換−7−アミノ
セフアロスポラン酸類()に導かれる。この加
水分解は酸性で行われるが、通常PH3以下で行う
ことが望ましい。加水分解を行つた反応液を、含
有3−置換−7アミノセフアロスポラン酸()
の等電点に調節すれば、所望物質が沈澱として得
られる。この沈澱は常法に従つて分離、乾燥させ
る。上記の方法によつて所望物質は極めて高収率
且つ高純度で得ることができる。なおこゝで得ら
れる所望物質()の3位の置換分は、原料物質
()で例示して説明した通りである。 次のこの発明の方法を実施例によつて説明する
が、この発明はこれに限定されるものではない。 参考例 1 1ml当りセフアロスポリンC30mg(UV定量法
による)を含有する“樹脂溶離液”20mlにホウ酸
ナトリウム約0.2gを加え希水酸化ナトリウム液
でPH9.0に調整し、これにピバリン酸クロリドと
メチルチオ酢酸のN−メチルモルホリン塩から作
つた混合酸無水物(セフアロスポリンC1モル当
り2.5当量を含む)の酢酸エチル溶液5mlを加
え、0〜10℃で激しく撹拌する。 反応液は、希水酸化ナトリウム液でPH9.0に調
整しながら約1時間反応させる。反応終了は
TLC(ベンゼン:酢酸:ピリジン:水=15:
3:10:12、発色剤は沃化アジド溶液噴霧後加
熱)で確認し、希硫酸PH5〜6に調整する。 有機層を除き水層は30mlに希釈する。(セフア
ロスポリンC換算2%溶液)。この溶液15mlにキ
ノリン0.43ml(セフアロスポリンC1モル当り5
当量)を加え、10℃で撹拌しながら希硫酸でPH
3.0に調整する。 まもなく結晶が析出し始める。1時間撹拌後、
結晶を集め小量の、氷水で洗い、更に酢酸エチル
で洗つて、1夜真空乾燥器で乾燥し、N−メチル
チオアセチル−セフアロスポリンCを得た。 IR 17900cm-1(β−ラクタム)、UVλmax264
mμ。450mg(UV定量法により97%純度)。収率
98% 参考例 2 実施例1に従つて行つたセフアロスポリンCの
3%溶液からの反応液(セフアロスポリンC換算
2%液)各15mlをとり下記のごとく希釈した濃度
の溶液を作り、各々にキノリン0.43ml(セフアロ
スポリンC1モル当り5当量)を加え参考例1に
従い処理した。(カツコ内は、5%食塩水で希釈
したさいの数値を示す。)
【表】
実施例 1
(a) 5′−N−メチルチオアセチル−セフアロスポ
リンCのキノリン付加物3.8gを水25mlに懸濁
し、2N−水酸化ナトリウム水溶液でPH6.5に調
整し、塩化メチレンで数回洗浄した。次いで1
−メチルテトラゾール−5−チオール0.8gお
よび酸性リン酸ナトリウム0.5gを加え、水酸
化ナトリウムで再びPH6.5に調整した。この混
合液を60〜70℃で5〜8時間撹拌下に加熱し
た。(薄層クロマトグラフイーで反応を追跡し
た。) 反応終了後希硫酸でPH2.0にして、酢酸エチ
ルで数回抽出し、有機層を飽和食塩水の少量で
4回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去した。残留物はアメ状でn−ヘキサン
で処理すると固化し、5−〔(5′−N−メチルチ
オアセタミド)−アジポイルアミド〕−3−
(1″−メチルテトラゾール−5″−イル)−チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸を2.3g
(収率84%)を得た。 IR(KBr):1770cm-1、UVλmax:272mμ (b) 上記(a)で得た化合物1.1gを五酸化燐上70〜
80℃で真空乾燥した。この乾燥物に乾燥塩化メ
チレン10ml、ジメチルアニリン2.4g、メチル
ジクロロホスフアイト1.3gを加え、室温で撹
拌した。透明な反応液を30分後に、−30℃に冷
却し、撹拌しつゝ五塩化リン1.2gを加え、−20
〜0℃で2時間反応させ、再び−40℃に冷却し
た。これに無水メタノール2.6gを滴加し、−20
〜−5℃で2時間反応させ、その後一夜−20℃
の冷室に放置した。反応液を7mlの氷水中に入
れ、20分間撹拌し、次いで炭酸アンモニウムで
徐々にPH3.5に調整した。一夜氷室に放置し、
再びPH3.5に調整後、遠心器で結晶を進めた。 結晶を60%冷アセトンで洗浄し、遠心器に付
して、再びアセトンで洗浄し、7−アミノ−3
−(1′−メチル−テトラゾール−5′−イル)−チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸0.55
g(収率86%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:272mμ (c) 上記(b)のメチルジクロロホスフアイトの代り
にトリメトキシシリルクロリド3.1gを用い、
他は全く同様の試剤と処理方法を適用した際の
収率は84%であつた。 又メタノールのみをイソブタノールに代えた
場合の収率は83%であつた。 (d) 上記(b)のメチルジクロロホスフアイトの代り
にアセチルクロリド1.6g更にメタノールの代
りにエチレングリコール3.7gをそれぞれ用
い、他は全く同様の試剤と処理方法を適用した
際の収率は76%であつた。 実施例 2 (a) 実施例1の(a)における1−メチルテトラゾー
ル−5−チオールの代りに、5−メチル1・
3・4−チアジアゾール−2−チオールを用
い、他は全く同様に処理し、7−〔(5′−N−メ
チルチオアセタミド)−アジポイルアミド〕−3
−(5″−メチル−1″・3″・4″−チアジアゾール
−2″−イル)−チオメチル−3−セフエム−4
−カルボン酸2.4g(収率84%)を得た。 IR:1780cm-1、UVλmax:272mμ (b) 上記(a)で得た生成物1.2gを用い、実施例1
の(b)と全く同様に処理して7、−アミノ−3−
(5′−メチル−1′・3′・4′−チアジアゾール−
2′−イル)−チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸0.6g(収率87%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:272mμ 実施例 3 (a) 実施例1の(a)における1−メチルテトラゾー
ル−5−チオールの代りに1・3・4−チアジ
アゾール−2−チオールを用い、同様に処理し
て、7−〔(5′−N−メチルチオアセタミド)ア
ジポイルアミド〕−3−(1′・3′・4′−チアジア
ゾール−2′−イル)−チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸2.3g(収率82%)を得
た。 IR:1780cm-1、UVλmax:270mμ (b) 上記(a)で得た生成物1.1gを用い、他は実施
例1の(b)と同様に処理して、7−アミノ−3−
(1′・3′・4′−チアジアゾール−2′−イル)−チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸0.5
g(収率83%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:270mμ
リンCのキノリン付加物3.8gを水25mlに懸濁
し、2N−水酸化ナトリウム水溶液でPH6.5に調
整し、塩化メチレンで数回洗浄した。次いで1
−メチルテトラゾール−5−チオール0.8gお
よび酸性リン酸ナトリウム0.5gを加え、水酸
化ナトリウムで再びPH6.5に調整した。この混
合液を60〜70℃で5〜8時間撹拌下に加熱し
た。(薄層クロマトグラフイーで反応を追跡し
た。) 反応終了後希硫酸でPH2.0にして、酢酸エチ
ルで数回抽出し、有機層を飽和食塩水の少量で
4回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去した。残留物はアメ状でn−ヘキサン
で処理すると固化し、5−〔(5′−N−メチルチ
オアセタミド)−アジポイルアミド〕−3−
(1″−メチルテトラゾール−5″−イル)−チオメ
チル−3−セフエム−4−カルボン酸を2.3g
(収率84%)を得た。 IR(KBr):1770cm-1、UVλmax:272mμ (b) 上記(a)で得た化合物1.1gを五酸化燐上70〜
80℃で真空乾燥した。この乾燥物に乾燥塩化メ
チレン10ml、ジメチルアニリン2.4g、メチル
ジクロロホスフアイト1.3gを加え、室温で撹
拌した。透明な反応液を30分後に、−30℃に冷
却し、撹拌しつゝ五塩化リン1.2gを加え、−20
〜0℃で2時間反応させ、再び−40℃に冷却し
た。これに無水メタノール2.6gを滴加し、−20
〜−5℃で2時間反応させ、その後一夜−20℃
の冷室に放置した。反応液を7mlの氷水中に入
れ、20分間撹拌し、次いで炭酸アンモニウムで
徐々にPH3.5に調整した。一夜氷室に放置し、
再びPH3.5に調整後、遠心器で結晶を進めた。 結晶を60%冷アセトンで洗浄し、遠心器に付
して、再びアセトンで洗浄し、7−アミノ−3
−(1′−メチル−テトラゾール−5′−イル)−チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸0.55
g(収率86%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:272mμ (c) 上記(b)のメチルジクロロホスフアイトの代り
にトリメトキシシリルクロリド3.1gを用い、
他は全く同様の試剤と処理方法を適用した際の
収率は84%であつた。 又メタノールのみをイソブタノールに代えた
場合の収率は83%であつた。 (d) 上記(b)のメチルジクロロホスフアイトの代り
にアセチルクロリド1.6g更にメタノールの代
りにエチレングリコール3.7gをそれぞれ用
い、他は全く同様の試剤と処理方法を適用した
際の収率は76%であつた。 実施例 2 (a) 実施例1の(a)における1−メチルテトラゾー
ル−5−チオールの代りに、5−メチル1・
3・4−チアジアゾール−2−チオールを用
い、他は全く同様に処理し、7−〔(5′−N−メ
チルチオアセタミド)−アジポイルアミド〕−3
−(5″−メチル−1″・3″・4″−チアジアゾール
−2″−イル)−チオメチル−3−セフエム−4
−カルボン酸2.4g(収率84%)を得た。 IR:1780cm-1、UVλmax:272mμ (b) 上記(a)で得た生成物1.2gを用い、実施例1
の(b)と全く同様に処理して7、−アミノ−3−
(5′−メチル−1′・3′・4′−チアジアゾール−
2′−イル)−チオメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸0.6g(収率87%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:272mμ 実施例 3 (a) 実施例1の(a)における1−メチルテトラゾー
ル−5−チオールの代りに1・3・4−チアジ
アゾール−2−チオールを用い、同様に処理し
て、7−〔(5′−N−メチルチオアセタミド)ア
ジポイルアミド〕−3−(1′・3′・4′−チアジア
ゾール−2′−イル)−チオメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸2.3g(収率82%)を得
た。 IR:1780cm-1、UVλmax:270mμ (b) 上記(a)で得た生成物1.1gを用い、他は実施
例1の(b)と同様に処理して、7−アミノ−3−
(1′・3′・4′−チアジアゾール−2′−イル)−チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸0.5
g(収率83%)を得た。 IR:1800cm-1、UVλmax:270mμ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1は低級アルキル基、Yは硫黄原子又はス
ルフイニル基、R2は低級アルキレン基をそれぞ
れ意味する) で示される5′−N−置換セフアロスポリンC又は
その塩類に、アジ化アルカリ金属塩又は一般式
HS−R3(式中R3は複素環基で、メチル基で置換
されていてもよい)のチオールもしくはその塩類
を反応させ、得られる3位置換体の4位及び5′位
のカルボキシル基を易加水分解性のエステルまた
は混合酸無水物の形に導いてカルボキシル基を保
護し、イミノハライド形成剤次いで低級脂肪族ア
ルコールを反応させてイミノエーテルを生成さ
せ、得られるイミノエーテルを酸性領域で加水分
解して一般式 (式中Xはアジド基又は−SR3(R3は前記と同一
意味)を意味する) で示される3−置換−7−アミノセフアロスポラ
ン酸類を得ることを特徴とする3−置換−7−ア
ミノセフアロスポラン酸類の製造法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7677174A JPS516982A (en) | 1974-07-03 | 1974-07-03 | 33 chikan 77 aminosefuarosuhoransanruinoseizoho |
| GB2193875A GB1457238A (en) | 1974-05-28 | 1975-05-21 | Cephalosporin derivatives |
| DE19752523280 DE2523280A1 (de) | 1974-05-28 | 1975-05-26 | Cephalosporinderivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| NL7506232A NL7506232A (nl) | 1974-05-28 | 1975-05-27 | Werkwijze ter bereiding van cefalosporinevaten. |
| CH677275A CH617201A5 (ja) | 1974-05-28 | 1975-05-27 | |
| US05/580,965 US4036833A (en) | 1974-05-28 | 1975-05-27 | 7-[(5'-N-methylthioacetamido)-adipoamido] cephalosporin derivatives |
| IE1185/75A IE41150B1 (en) | 1974-05-28 | 1975-05-28 | Cephalosporin dervatives |
| US05/748,756 US4091217A (en) | 1974-05-28 | 1976-12-09 | 7-((5'-N-Methylthioacetamido)-adipoamido)cephalosporin derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7677174A JPS516982A (en) | 1974-07-03 | 1974-07-03 | 33 chikan 77 aminosefuarosuhoransanruinoseizoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS516982A JPS516982A (en) | 1976-01-20 |
| JPS6127394B2 true JPS6127394B2 (ja) | 1986-06-25 |
Family
ID=13614840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7677174A Granted JPS516982A (en) | 1974-05-28 | 1974-07-03 | 33 chikan 77 aminosefuarosuhoransanruinoseizoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS516982A (ja) |
-
1974
- 1974-07-03 JP JP7677174A patent/JPS516982A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS516982A (en) | 1976-01-20 |
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