JPS6131870B2 - - Google Patents
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- JPS6131870B2 JPS6131870B2 JP10021278A JP10021278A JPS6131870B2 JP S6131870 B2 JPS6131870 B2 JP S6131870B2 JP 10021278 A JP10021278 A JP 10021278A JP 10021278 A JP10021278 A JP 10021278A JP S6131870 B2 JPS6131870 B2 JP S6131870B2
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- BJAXCFPAURUMCO-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylideneamino)-1-butoxycyclohexa-2,4-diene-1-carbonitrile Chemical compound C(CCC)OC1(CC=C(N=CC2=CC=CC=C2)C=C1)C#N BJAXCFPAURUMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 125000005337 azoxy group Chemical group [N+]([O-])(=N*)* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001841 cholesterols Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- IGARGHRYKHJQSM-UHFFFAOYSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound C1CCCCC1C1=CC=CC=C1 IGARGHRYKHJQSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- FEIWNULTQYHCDN-UHFFFAOYSA-N mbba Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1N=CC1=CC=C(OC)C=C1 FEIWNULTQYHCDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LTZQZQSGQBNBFB-UHFFFAOYSA-N n-(4-butyl-4-ethoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl)-1-phenylmethanimine Chemical compound C1=CC(CCCC)(OCC)CC=C1N=CC1=CC=CC=C1 LTZQZQSGQBNBFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、相転移型デイスプレイパネルに関す
るものであり、さらに詳しくは相転移時のヒステ
リシス状態(一旦、電界により強制的にホメオト
ロピツク状態にした後、電圧を下げてフオーカル
コニツク状態に相転移する中間段階で、本来フオ
ーカルコニツク状態が安定な電位においてホメオ
トロピツクを保持している状態をいう)の遷移時
間を見かけ上長くする、すなわち、走査許容時間
を長くできる相転移型デイスプレイパネルに関す
るものである。
るものであり、さらに詳しくは相転移時のヒステ
リシス状態(一旦、電界により強制的にホメオト
ロピツク状態にした後、電圧を下げてフオーカル
コニツク状態に相転移する中間段階で、本来フオ
ーカルコニツク状態が安定な電位においてホメオ
トロピツクを保持している状態をいう)の遷移時
間を見かけ上長くする、すなわち、走査許容時間
を長くできる相転移型デイスプレイパネルに関す
るものである。
最近、相転移型デイスプレイパネルは、低消費
電力およびメモリー機能からその有用性が注目さ
れ、研究開発が進められている。特に、従来より
マトリツクス型デイスプレイパネルでは最大の難
問であつたクロストークのないマトリツクス駆動
法(電子通信学会電子部品・材料研究会資料
CPM75−11)が適用できるため大型マトリツク
駆動への可能性が期待されている。
電力およびメモリー機能からその有用性が注目さ
れ、研究開発が進められている。特に、従来より
マトリツクス型デイスプレイパネルでは最大の難
問であつたクロストークのないマトリツクス駆動
法(電子通信学会電子部品・材料研究会資料
CPM75−11)が適用できるため大型マトリツク
駆動への可能性が期待されている。
相転移型デイスプレイでは、たとえば、第1図
に示すような電圧一透過率特性を示す。すなわ
ち、第1図に示す如く、 昇圧により一旦散乱し(フオーカルコニツク
状態:F)、消える(ホメオトロピツク状態:
H)。
に示すような電圧一透過率特性を示す。すなわ
ち、第1図に示す如く、 昇圧により一旦散乱し(フオーカルコニツク
状態:F)、消える(ホメオトロピツク状態:
H)。
降圧で急に下げると短期間(Sec)散乱して
消える(渦状組織:S)。
消える(渦状組織:S)。
徐々に下げるとヒステリシス状態(準安定ホ
メオトロピツク状態:H′)を経て散乱が生じ
て電界なしで散乱を持続する(無電界フオーカ
ルコニツク状態:F′)。
メオトロピツク状態:H′)を経て散乱が生じ
て電界なしで散乱を持続する(無電界フオーカ
ルコニツク状態:F′)。
あるいはまた、第2図A,Bに示すような波形
でもそれぞれ同図D,Eに示すような書き込み
(散乱)が生ずる。
でもそれぞれ同図D,Eに示すような書き込み
(散乱)が生ずる。
しかしながら、本方式において大型パネルを使
用してマトリツクス表示ライン数の増加をするた
めには、電圧の昇降に際した相転移のヒステリシ
ス状態が長時間保たれねばならない。すなわち、
透明なヒステリシス状態(H′)のうちに散乱表
示の書き込みがすべて完了しないとX軸電極群と
Y軸電極群との交差により形成される画素の輪郭
から内側周辺部にかけて徐々にヒステリシス状態
の破壊、すなわち、ホメオトロピツク状態からフ
オーカルコニツク状態への転移が進行し散乱を始
め、第2図C,Fに示す如く透過率の低下をきた
すため書き込み部と非書き込み部との区別ができ
なくなる欠点がある。このヒステリシス状態はセ
ル厚、温度、配向状態等変動の要因が多く、変動
幅も大きく、実用上ヒステリシス状態を長くする
ことはパネルが多数行化する程困難を増し、多数
行化への唯一の欠点とされている。
用してマトリツクス表示ライン数の増加をするた
めには、電圧の昇降に際した相転移のヒステリシ
ス状態が長時間保たれねばならない。すなわち、
透明なヒステリシス状態(H′)のうちに散乱表
示の書き込みがすべて完了しないとX軸電極群と
Y軸電極群との交差により形成される画素の輪郭
から内側周辺部にかけて徐々にヒステリシス状態
の破壊、すなわち、ホメオトロピツク状態からフ
オーカルコニツク状態への転移が進行し散乱を始
め、第2図C,Fに示す如く透過率の低下をきた
すため書き込み部と非書き込み部との区別ができ
なくなる欠点がある。このヒステリシス状態はセ
ル厚、温度、配向状態等変動の要因が多く、変動
幅も大きく、実用上ヒステリシス状態を長くする
ことはパネルが多数行化する程困難を増し、多数
行化への唯一の欠点とされている。
本発明者は、この多数行化への制限を取り除く
かまたは限界を伸ばすための方法を研究し、画素
の輪郭から内側周辺部にかけて遮光し、たとえヒ
ステリシスの破壊が始まつてもこれが画素の中央
部へ進行する比較的に長い時間、観察者から見え
ないようにすることによつて、特性はこのままの
状態で見かけ上ヒステリシス状態を長くして多数
行化への限界を伸ばすことに成功して本発明に到
達したものである。
かまたは限界を伸ばすための方法を研究し、画素
の輪郭から内側周辺部にかけて遮光し、たとえヒ
ステリシスの破壊が始まつてもこれが画素の中央
部へ進行する比較的に長い時間、観察者から見え
ないようにすることによつて、特性はこのままの
状態で見かけ上ヒステリシス状態を長くして多数
行化への限界を伸ばすことに成功して本発明に到
達したものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
第3図は相転移型デイスプレイパネルの一例を
示す平面図であつて、該パネル1は多数個のX軸
電極群X1,X2…………Xm,…………を設けた前
面電極基板2と多数個のY軸電極群Y1,Y2……
……,Yn,…………を設けた後面電極基板3と
をそれぞれの電極面を内側にして両電極群を相互
に交差させて対向せしめその間に、たとえば、シ
ツフ系、エステル系、ビフエニル系、アゾキシ
系、ピリミジン系、フエニルシクロヘキサン系等
の公知のネマチツク液晶の正または負の誘電異方
性を有するものの混合組成物で、全体として正の
誘電異方性を有するものを基本組成とし、これに
5〜30%の光学活性化合物の、例えばコレステロ
ール誘導体や、カイラルネマチツク等の光学活性
基を有する化合物を添加した組成物の如き相転移
型液晶を充填し、さらに周囲を封止してなる。本
発明は、このような相遷移型デイスプレイパネル
において、第4図に示す如く、前面電極基板の少
なくとも一方の面の、X軸電極群(第4図ではそ
のうちm番目のX軸電極Xmを示す)とY軸電極
群(第4図ではそのうちn番目のY軸電極Ynを
示す)との交差により形成される画素4mnの輪
郭5mnの内側周辺部6mnに対応する部分に遮光
材料層を設ける。この遮光材料層を上記内側周辺
部6mnに対応する部分に設ければ所期の目的を
達成しうるが、該遮光材料層は輪郭5mnの外側
周辺部7mnにも同時に設けておく方が画素と遮
光材料層との位置合わせが多少ずれてもパネルの
機能を損わないなど製造上のメリツトがあるので
好ましい。上記遮光材料層8は第5図及び第6図
に示すように前面電極基板2の一方の面に設ける
ことができるが、第6図の如く、電極と反対側に
設けた場合は、基板厚みによる視差ができて、本
発明の効果を損なう視角が生じるのであまり好ま
しくない。また、基板2の両面に設けることも可
能であり、この場合、両面の遮光材料層を位置合
わせして設ければ視角を限定する効果を持つ。
示す平面図であつて、該パネル1は多数個のX軸
電極群X1,X2…………Xm,…………を設けた前
面電極基板2と多数個のY軸電極群Y1,Y2……
……,Yn,…………を設けた後面電極基板3と
をそれぞれの電極面を内側にして両電極群を相互
に交差させて対向せしめその間に、たとえば、シ
ツフ系、エステル系、ビフエニル系、アゾキシ
系、ピリミジン系、フエニルシクロヘキサン系等
の公知のネマチツク液晶の正または負の誘電異方
性を有するものの混合組成物で、全体として正の
誘電異方性を有するものを基本組成とし、これに
5〜30%の光学活性化合物の、例えばコレステロ
ール誘導体や、カイラルネマチツク等の光学活性
基を有する化合物を添加した組成物の如き相転移
型液晶を充填し、さらに周囲を封止してなる。本
発明は、このような相遷移型デイスプレイパネル
において、第4図に示す如く、前面電極基板の少
なくとも一方の面の、X軸電極群(第4図ではそ
のうちm番目のX軸電極Xmを示す)とY軸電極
群(第4図ではそのうちn番目のY軸電極Ynを
示す)との交差により形成される画素4mnの輪
郭5mnの内側周辺部6mnに対応する部分に遮光
材料層を設ける。この遮光材料層を上記内側周辺
部6mnに対応する部分に設ければ所期の目的を
達成しうるが、該遮光材料層は輪郭5mnの外側
周辺部7mnにも同時に設けておく方が画素と遮
光材料層との位置合わせが多少ずれてもパネルの
機能を損わないなど製造上のメリツトがあるので
好ましい。上記遮光材料層8は第5図及び第6図
に示すように前面電極基板2の一方の面に設ける
ことができるが、第6図の如く、電極と反対側に
設けた場合は、基板厚みによる視差ができて、本
発明の効果を損なう視角が生じるのであまり好ま
しくない。また、基板2の両面に設けることも可
能であり、この場合、両面の遮光材料層を位置合
わせして設ければ視角を限定する効果を持つ。
前面電極基板の少なくとも一方の面に遮光材料
層を設けるには、アルミニウム、チタン、クロ
ム、鉄、コバルト、ニツケル、銀、金、セレン、
錫、インジウムなどの金属、又はカーボン、硫化
亜鉛、シリコン、などの不透明体をマスクを介し
て蒸気デポジツト、スパツター又は蒸着する方
法、予めレジストをのせておき蒸気デポジツト、
スパツターまたは蒸着等で被覆した後レジスト部
分のみ剥離する方法、銀、鉄、鉛、クロム、金、
亜鉛、アルミニウム等の粉末を含む導電性ペース
ト又は黒、赤、青、緑その他各色の顔料または染
料を含むインキなどの不透明絶縁物などを印刷す
る方法、プラスチツクやセラミツク等のパターン
化した遮光性シートを接着剤ないし粘着剤を介し
て貼り合わせる方法などにより行なうことができ
る。あるいはまた、図示しないが、上記方法によ
り、ガラス、プラスチツクなどの透明シートない
し板の一方の面に予め遮光材料層を設け、しかる
後、前面電極基板の外面に接着剤ないし粘着剤を
介して貼着したり、クリツプやネジで止めたりそ
の他任意の方法により固定することも可能であ
る。
層を設けるには、アルミニウム、チタン、クロ
ム、鉄、コバルト、ニツケル、銀、金、セレン、
錫、インジウムなどの金属、又はカーボン、硫化
亜鉛、シリコン、などの不透明体をマスクを介し
て蒸気デポジツト、スパツター又は蒸着する方
法、予めレジストをのせておき蒸気デポジツト、
スパツターまたは蒸着等で被覆した後レジスト部
分のみ剥離する方法、銀、鉄、鉛、クロム、金、
亜鉛、アルミニウム等の粉末を含む導電性ペース
ト又は黒、赤、青、緑その他各色の顔料または染
料を含むインキなどの不透明絶縁物などを印刷す
る方法、プラスチツクやセラミツク等のパターン
化した遮光性シートを接着剤ないし粘着剤を介し
て貼り合わせる方法などにより行なうことができ
る。あるいはまた、図示しないが、上記方法によ
り、ガラス、プラスチツクなどの透明シートない
し板の一方の面に予め遮光材料層を設け、しかる
後、前面電極基板の外面に接着剤ないし粘着剤を
介して貼着したり、クリツプやネジで止めたりそ
の他任意の方法により固定することも可能であ
る。
上記遮光材料層は、第5図示の如く前面電極基
板の電極面側に設ける場合には導電性材料で形成
することもできるが、絶縁材料で形成することが
望ましい。この時、導電性材料を用いるには絶縁
被膜を介することもできる。また、上記の如く画
素の輪郭の外側周辺部にも遮光材料層を設ける場
合には、隣接する画素の外側周辺部を接続させ
て、この接続部分に相当する位置にも遮光材料層
を設けることができる。この場合において、第5
図示の如く前面電極基板の電極面側に直接遮光材
料層を設けるには短絡の防止上絶縁性材料を用い
る必要があるが、絶縁被膜を介せば導電性材料で
あつても適用可能である。
板の電極面側に設ける場合には導電性材料で形成
することもできるが、絶縁材料で形成することが
望ましい。この時、導電性材料を用いるには絶縁
被膜を介することもできる。また、上記の如く画
素の輪郭の外側周辺部にも遮光材料層を設ける場
合には、隣接する画素の外側周辺部を接続させ
て、この接続部分に相当する位置にも遮光材料層
を設けることができる。この場合において、第5
図示の如く前面電極基板の電極面側に直接遮光材
料層を設けるには短絡の防止上絶縁性材料を用い
る必要があるが、絶縁被膜を介せば導電性材料で
あつても適用可能である。
以上の説明で明らかなように、本発明によれ
ば、相転移時のヒステリシス状態の遷移時間を見
かけ上長くすることによりパネルの多数行化を図
ることができる。
ば、相転移時のヒステリシス状態の遷移時間を見
かけ上長くすることによりパネルの多数行化を図
ることができる。
次に、実施例を示して、さらに本発明を具体的
に説明する。
に説明する。
実施例
ガラス基板上に2本/mmのピツチで0.4mmのネ
サ電極を250本形成し、さらに蒸着により酸化硅
素の電極保護層を800Åの厚さに設けた電極板を
2枚用意した。
サ電極を250本形成し、さらに蒸着により酸化硅
素の電極保護層を800Åの厚さに設けた電極板を
2枚用意した。
次に一方の電極板の電極保護層上に感光性レジ
ストを塗布して露光現像し0.35mm角で2個/mmピ
ツチのマトリツクスをネサ電極上に重ね合わせて
形成した。この基板上にスパツタリング法により
低反射性のクロムを被覆した後、レジストを除去
することによりレジスト上のクロムを剥離して、
0.35mm角の透光窓のマトリツクスを持つ遮光層を
形成した。
ストを塗布して露光現像し0.35mm角で2個/mmピ
ツチのマトリツクスをネサ電極上に重ね合わせて
形成した。この基板上にスパツタリング法により
低反射性のクロムを被覆した後、レジストを除去
することによりレジスト上のクロムを剥離して、
0.35mm角の透光窓のマトリツクスを持つ遮光層を
形成した。
次に両基板上に垂直配向性の配向剤(大日本イ
ンキ社製、サーフイン150)を塗布しスペーサー
を介して両基板の電極側を対向させ、厚み8μの
セルを構成した。別途p−メトキシベンジリデン
−p−n−ブチルアニリン40部、p−エトキシベ
ンジリデン−p−n−ブチルアニリン30部、p−
n−ブトキシベンジリデン−p−シアノアニリン
20部、コレステリツクノナノエート10部(上記の
各部は重量部を示す)からなる記憶型液晶組成物
を用意し、前記セルに注入封止した。
ンキ社製、サーフイン150)を塗布しスペーサー
を介して両基板の電極側を対向させ、厚み8μの
セルを構成した。別途p−メトキシベンジリデン
−p−n−ブチルアニリン40部、p−エトキシベ
ンジリデン−p−n−ブチルアニリン30部、p−
n−ブトキシベンジリデン−p−シアノアニリン
20部、コレステリツクノナノエート10部(上記の
各部は重量部を示す)からなる記憶型液晶組成物
を用意し、前記セルに注入封止した。
また、遮光層を持たない以外は同様のセルを作
製し見かけ上の走査の許容時間の比較を行つた。
すなわち、30V(ゼロピーク電圧)の矩形波
(1KHz)を印加後15V(ゼロピーク電圧)に降圧
し目視で散乱の視認できるまでの時間を計測した
ところ、遮光層のないもので8秒、遮光層のある
もので14秒と大巾な走査許容時間の増大をみた。
製し見かけ上の走査の許容時間の比較を行つた。
すなわち、30V(ゼロピーク電圧)の矩形波
(1KHz)を印加後15V(ゼロピーク電圧)に降圧
し目視で散乱の視認できるまでの時間を計測した
ところ、遮光層のないもので8秒、遮光層のある
もので14秒と大巾な走査許容時間の増大をみた。
第1図は相転移型デイスプレイパネルにおける
電圧一透過率特性を示す図、第2図は相転移型デ
イスプレイパネルにおける電圧と透過率の時間的
変化を示す図、第3図は相転移型デイスプレイパ
ネルの平面図、第4図は本発明の相転移型デイス
プレイパネルの一部を拡大して一つの画素部分を
模式的に示す平面図、第5図及び第6図は第4図
に示す画素部分をX軸電極に平行に切断して模式
的に示す切断部端面図である。 1……相転移型デイスプレイパネル、2……前
面電極基板、3……後面電極基板、4mn……m
番目のX軸電極とn番目のY軸電極との交差によ
り形成される画素、5mn……画素4mnの輪郭、
6mn……輪郭5mnの内側周辺部、7mn……輪
郭5mnの外側周辺部、8……遮光材料層、Xm…
…m番目のX軸電極、Ym……n番目のY軸電
極。
電圧一透過率特性を示す図、第2図は相転移型デ
イスプレイパネルにおける電圧と透過率の時間的
変化を示す図、第3図は相転移型デイスプレイパ
ネルの平面図、第4図は本発明の相転移型デイス
プレイパネルの一部を拡大して一つの画素部分を
模式的に示す平面図、第5図及び第6図は第4図
に示す画素部分をX軸電極に平行に切断して模式
的に示す切断部端面図である。 1……相転移型デイスプレイパネル、2……前
面電極基板、3……後面電極基板、4mn……m
番目のX軸電極とn番目のY軸電極との交差によ
り形成される画素、5mn……画素4mnの輪郭、
6mn……輪郭5mnの内側周辺部、7mn……輪
郭5mnの外側周辺部、8……遮光材料層、Xm…
…m番目のX軸電極、Ym……n番目のY軸電
極。
Claims (1)
- 1 多数個のX軸電極群を設けた前面電極基板と
多数個のY軸電極群を設けた後面電極基板とをそ
れぞれの電極面を内側にして両電極群を相互に交
差させて対向せしめその間に相転移型液晶を充填
し、さらに周囲を封止してなる相転移型デイスプ
レイパネルにおいて、前面電極基板の少なくとも
一方の面の、X軸電極群とY軸電極群との交差に
より形成される画素の輪郭の内側周辺部に対応す
る部分に遮光材料層を設けたことを特徴とする相
転移型デイスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10021278A JPS5526575A (en) | 1978-08-17 | 1978-08-17 | Phase transformation type display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10021278A JPS5526575A (en) | 1978-08-17 | 1978-08-17 | Phase transformation type display panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5526575A JPS5526575A (en) | 1980-02-26 |
| JPS6131870B2 true JPS6131870B2 (ja) | 1986-07-23 |
Family
ID=14267984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10021278A Granted JPS5526575A (en) | 1978-08-17 | 1978-08-17 | Phase transformation type display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5526575A (ja) |
-
1978
- 1978-08-17 JP JP10021278A patent/JPS5526575A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5526575A (en) | 1980-02-26 |
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