JPS6143838B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6143838B2 JPS6143838B2 JP57205223A JP20522382A JPS6143838B2 JP S6143838 B2 JPS6143838 B2 JP S6143838B2 JP 57205223 A JP57205223 A JP 57205223A JP 20522382 A JP20522382 A JP 20522382A JP S6143838 B2 JPS6143838 B2 JP S6143838B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- forming
- insulating layer
- transparent conductive
- metal electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は発光装置の製造方法に関するもので
ある。
ある。
従来例を第1図に示す。すなわち、この発光装
置は、ガラス基板1に透明電極2を層成し、透明
電極2に誘電膜3を層成し、その上に螢光膜4、
誘電膜5、さらに金属電極6を積層したもので、
電極2,6間に交流電源7を接続する。この発光
装置は、絶縁層となる誘電膜3,5のピンホール
による絶縁不良により螢光膜4が破壊されるのを
防止するため、誘電膜3,5を誘電率の高い物質
(Y2O3、BaTiO3等)で形成し、装置の寿命を向
上している。ところが、逆に絶縁が高くなるため
駆動電圧が高くなるという欠点があつた。この欠
点を補うため誘電膜3,5の誘電率を上げ、層を
薄く(2000Å程度)してなるべく誘電膜3,5に
かかる電圧を低くしているが充分とはいえない。
置は、ガラス基板1に透明電極2を層成し、透明
電極2に誘電膜3を層成し、その上に螢光膜4、
誘電膜5、さらに金属電極6を積層したもので、
電極2,6間に交流電源7を接続する。この発光
装置は、絶縁層となる誘電膜3,5のピンホール
による絶縁不良により螢光膜4が破壊されるのを
防止するため、誘電膜3,5を誘電率の高い物質
(Y2O3、BaTiO3等)で形成し、装置の寿命を向
上している。ところが、逆に絶縁が高くなるため
駆動電圧が高くなるという欠点があつた。この欠
点を補うため誘電膜3,5の誘電率を上げ、層を
薄く(2000Å程度)してなるべく誘電膜3,5に
かかる電圧を低くしているが充分とはいえない。
したがつて、この発明の目的は、ピンホールに
よる絶縁低下を防止でき、しかも低電圧駆動が実
現できる発光装置の製造方法を提供することであ
る。
よる絶縁低下を防止でき、しかも低電圧駆動が実
現できる発光装置の製造方法を提供することであ
る。
この発明の第1の実施例を第2図により説明す
る。すなわち、この発光装置の製造方法は、ガラ
ス基板1aを約400℃に加熱し、ガラス基板1a
上に酸化すずを含有した酸化インジユウム、すな
わち10mol%SnO2+In2O3(インジユウムテイン
オキサイド(ITO),Sn:10mol%)の焼結ター
ゲツトを用いて、不活性ガスのアルゴン(Ar)
に5%以下の酸素(O2)を含有したガス圧3×
10-2Torrの雰囲気で層成する。その方法はスパ
ツタリング蒸着、活性化スパッタ、活性化蒸着、
イオンブレーテイング等で行う。このように形成
された透明導電層2aの上に前記と同じ物質を酸
素ガスを10%以上含むアルゴンガス雰囲気中で前
記と同方法により積層して絶縁層3aを形成す
る。これは透明導電層2aの形成時の真空状態を
破らずに外部から電極部のみカバーしてバルブ操
作により雰囲気ガスの混合比だけを変えるように
する。このようにすると良く知られているように
非常に高抵抗の絶縁層3aとなる。その上に
ZnS、ZnSe等に不純物をドープした電界発光層4
aを形成し、さらにその上にアルミニウム金属電
極層6aを形成する。その結果、ピンホールによ
る絶縁低下が防止でき、しかも層厚の低下により
低電圧駆動ができることが確められた。しかし現
時点ではこのような方法をとると何故絶縁層3a
の耐圧が向上するのか不明であるが、ピンホール
の発生機構が下地の何らかの異常によつて生じる
とすると、透明導電層2aのピンホールと絶縁層
3aのピンホールの位置が一致しているためでは
ないかと考えられる。
る。すなわち、この発光装置の製造方法は、ガラ
ス基板1aを約400℃に加熱し、ガラス基板1a
上に酸化すずを含有した酸化インジユウム、すな
わち10mol%SnO2+In2O3(インジユウムテイン
オキサイド(ITO),Sn:10mol%)の焼結ター
ゲツトを用いて、不活性ガスのアルゴン(Ar)
に5%以下の酸素(O2)を含有したガス圧3×
10-2Torrの雰囲気で層成する。その方法はスパ
ツタリング蒸着、活性化スパッタ、活性化蒸着、
イオンブレーテイング等で行う。このように形成
された透明導電層2aの上に前記と同じ物質を酸
素ガスを10%以上含むアルゴンガス雰囲気中で前
記と同方法により積層して絶縁層3aを形成す
る。これは透明導電層2aの形成時の真空状態を
破らずに外部から電極部のみカバーしてバルブ操
作により雰囲気ガスの混合比だけを変えるように
する。このようにすると良く知られているように
非常に高抵抗の絶縁層3aとなる。その上に
ZnS、ZnSe等に不純物をドープした電界発光層4
aを形成し、さらにその上にアルミニウム金属電
極層6aを形成する。その結果、ピンホールによ
る絶縁低下が防止でき、しかも層厚の低下により
低電圧駆動ができることが確められた。しかし現
時点ではこのような方法をとると何故絶縁層3a
の耐圧が向上するのか不明であるが、ピンホール
の発生機構が下地の何らかの異常によつて生じる
とすると、透明導電層2aのピンホールと絶縁層
3aのピンホールの位置が一致しているためでは
ないかと考えられる。
この発明の第2の実施例を第3図により説明す
る。すなわち、第1の実施例の構造において、実
施例1と同様な操作によりアルミニウム金属電極
層6aを電界発件層4aの間に活性化(反応性)
スパツタ、蒸着、イオンプレーテイング等で電極
金属の酸化物、すなわちアルミナ(AI2O3)絶縁
層8を設けたものである。このようにすると、駆
動電圧は多少高くなるが高輝度を得ることができ
る。なお、従来構造にこの実施例を適用しても
Y2O3、BaTiO3を薄くでき、低電圧化が可能とな
る。
る。すなわち、第1の実施例の構造において、実
施例1と同様な操作によりアルミニウム金属電極
層6aを電界発件層4aの間に活性化(反応性)
スパツタ、蒸着、イオンプレーテイング等で電極
金属の酸化物、すなわちアルミナ(AI2O3)絶縁
層8を設けたものである。このようにすると、駆
動電圧は多少高くなるが高輝度を得ることができ
る。なお、従来構造にこの実施例を適用しても
Y2O3、BaTiO3を薄くでき、低電圧化が可能とな
る。
以上のように、この発明の発光装置の製造方法
は、酸化すずを含有する酸化インジユウムにより
透明電極層を形成し、その同物質を前者よりも酸
素濃度の高い雰囲気で層成して絶縁層を形成し、
さらに電界発光層および金属電極層を積層するよ
うにしたため、低電圧駆動できるとともに電界発
光層の絶縁破壊を防止でき、寿命向上になるとい
う効果がある。
は、酸化すずを含有する酸化インジユウムにより
透明電極層を形成し、その同物質を前者よりも酸
素濃度の高い雰囲気で層成して絶縁層を形成し、
さらに電界発光層および金属電極層を積層するよ
うにしたため、低電圧駆動できるとともに電界発
光層の絶縁破壊を防止でき、寿命向上になるとい
う効果がある。
第1図は従来装置の断面図、第2図はこの発明
の第1の実施例の装置の断面図、第3図は第2の
実施例の装置の断面図である。 1a……ガラス基板、2a……透明導電層、3
a……絶縁層、4a……電界発光層、6a……金
属電極層、8……酸化物絶縁層。
の第1の実施例の装置の断面図、第3図は第2の
実施例の装置の断面図である。 1a……ガラス基板、2a……透明導電層、3
a……絶縁層、4a……電界発光層、6a……金
属電極層、8……酸化物絶縁層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 所定温度に加熱されたガラス基板上に所定圧
の不活性ガスの雰囲気で酸化すずを含有した酸化
インジウムを被着する透明導電層形成工程と、前
記不活性ガスに酸素ガスを約10%以上混合した雰
囲気で前記透明導電層上に前記と同物質の積層形
成する絶縁層形成工程と、この工程により形成さ
れた絶縁層上に電界発光層を層成する工程と、こ
の電界発光層上に金属電極層を層成する工程とを
含む発光装置の製造方法。 2 前記金属電極層の前記電界発光層側にその酸
化物絶縁層が形成される特許請求の範囲第1項記
載の発光装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205223A JPS5994395A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 発光装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205223A JPS5994395A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 発光装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994395A JPS5994395A (ja) | 1984-05-31 |
| JPS6143838B2 true JPS6143838B2 (ja) | 1986-09-30 |
Family
ID=16503444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57205223A Granted JPS5994395A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 発光装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994395A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161691A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-22 | 日東電工株式会社 | 電場発光灯 |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP57205223A patent/JPS5994395A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5994395A (ja) | 1984-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4686110A (en) | Method for preparing a thin-film electroluminescent display panel comprising a thin metal oxide layer and thick dielectric layer | |
| US6036823A (en) | Dielectric thin film and thin-film EL device using same | |
| JPS61230296A (ja) | El素子とその製造方法 | |
| JPS6143838B2 (ja) | ||
| JP4481593B2 (ja) | 表示素子 | |
| US4734618A (en) | Electroluminescent panel comprising a layer of silicon between a transparent electrode and a dielectric layer and a method of making the same | |
| JP2901370B2 (ja) | 高コントラスト薄膜el素子の製造方法 | |
| JPS61250993A (ja) | El素子 | |
| JPH08281857A (ja) | 透明導電性積層体 | |
| JP3873159B2 (ja) | 電界発光素子 | |
| KR100283283B1 (ko) | 평탄한 계면을 갖는 전계발광 소자 및 제조방법 | |
| JPS5947879B2 (ja) | El素子の製造方法 | |
| JPS6359519B2 (ja) | ||
| JPS6269489A (ja) | 薄膜el素子の製造方法 | |
| JPH03236195A (ja) | 2重絶縁薄膜エレクトロルミネセンス装置 | |
| JPH07282979A (ja) | 誘電体薄膜および誘電体薄膜を用いた薄膜発光素子 | |
| JPS6314833B2 (ja) | ||
| JPH0726196B2 (ja) | アルミナ薄膜の形成方法 | |
| JPH0740515B2 (ja) | 薄膜発光素子 | |
| JPS6315719B2 (ja) | ||
| JPH01213991A (ja) | 透明電極基板とこれを用いたエレクトロルミネツセンス素子 | |
| JPH0218895A (ja) | 薄膜el素子 | |
| JPH01204394A (ja) | 薄膜el素子 | |
| JPH01209692A (ja) | 薄模elパネル | |
| JPH01130496A (ja) | 薄膜エレクトロルミネセンス素子 |