JPS6148071B2 - - Google Patents
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- JPS6148071B2 JPS6148071B2 JP59136748A JP13674884A JPS6148071B2 JP S6148071 B2 JPS6148071 B2 JP S6148071B2 JP 59136748 A JP59136748 A JP 59136748A JP 13674884 A JP13674884 A JP 13674884A JP S6148071 B2 JPS6148071 B2 JP S6148071B2
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/04—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
- F25J3/044—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air using a single pressure main column system only
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/04—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
- F25J3/04636—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air using a hybrid air separation unit, e.g. combined process by cryogenic separation and non-cryogenic separation techniques
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
- F25J2205/60—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using adsorption on solid adsorbents, e.g. by temperature-swing adsorption [TSA] at the hot or cold end
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2215/00—Processes characterised by the type or other details of the product stream
- F25J2215/42—Nitrogen or special cases, e.g. multiple or low purity N2
- F25J2215/44—Ultra high purity nitrogen, i.e. generally less than 1 ppb impurities
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、高純度窒素ガス製造装置に関する
ものである。
ものである。
電子工業では極めて多量の窒素ガスが使用され
ているが、部品精度維持向上の観点から窒素ガス
の純度について厳しい要望をだしてきている。す
なわち、窒素ガスは、一般に、空気を原料とし、
これを圧縮機で圧縮したのち、吸着筒に入れて炭
酸ガスおよび水分を除去し、さらに熱交換器を通
して冷媒と熱交換させて冷却し、ついで精留塔で
深冷液化分離して製品窒素ガスを製造し、これを
前記の熱交換器を通して常温近傍に昇温させると
いる工程を経て製造されている。しかしながら、
このようにして製造される製品窒素ガスには、酸
素が不純分として混在しているため、これをその
まま使用することは不都合なことが多い。不純酸
素の除去方法としては、Pt触媒を使用し窒素ガ
ス中に微量の水素を添加して不純酸素と200℃程
度の温度雰囲気中で反応させ水として除去する方
法およびNi触媒を使用し、窒素ガス中の不純
酸素を200℃程度の温度雰囲気においてNi触媒と
接触させNi＋1/2O2→NiOの反応を起こさせて除
去する方法がある。しかしながら、これらの方法
は、いずれも窒素ガスを高温にして触媒と接触さ
せなければならないため、その装置を、超低温系
である窒素ガス製造装置中には組み込めない。し
たがつて、窒素ガス製造装置とは別個に精製装置
を設置しなければならず、全体が大形になるとい
る欠点がある。そのうえ、前記の方法では、水
素の添加量の調整に高精度が要求され、不純酸素
量と丁度反応するだけの量の水素を添加しない
と、酸素が残存したり、また添加した水素が残存
して不純分となつてしまうため、操作に熟練を要
するという問題がある。また、前記の方法で
は、不純酸素との反応で生じたNiOの再生（NiO
＋H2→Ni＋H2O）をする必要が生じ、再生用H2
ガス設備が必要となつて精製費の上昇を招いてい
た。したがつて、これらの改善が強く望まれてい
た。
ているが、部品精度維持向上の観点から窒素ガス
の純度について厳しい要望をだしてきている。す
なわち、窒素ガスは、一般に、空気を原料とし、
これを圧縮機で圧縮したのち、吸着筒に入れて炭
酸ガスおよび水分を除去し、さらに熱交換器を通
して冷媒と熱交換させて冷却し、ついで精留塔で
深冷液化分離して製品窒素ガスを製造し、これを
前記の熱交換器を通して常温近傍に昇温させると
いる工程を経て製造されている。しかしながら、
このようにして製造される製品窒素ガスには、酸
素が不純分として混在しているため、これをその
まま使用することは不都合なことが多い。不純酸
素の除去方法としては、Pt触媒を使用し窒素ガ
ス中に微量の水素を添加して不純酸素と200℃程
度の温度雰囲気中で反応させ水として除去する方
法およびNi触媒を使用し、窒素ガス中の不純
酸素を200℃程度の温度雰囲気においてNi触媒と
接触させNi＋1/2O2→NiOの反応を起こさせて除
去する方法がある。しかしながら、これらの方法
は、いずれも窒素ガスを高温にして触媒と接触さ
せなければならないため、その装置を、超低温系
である窒素ガス製造装置中には組み込めない。し
たがつて、窒素ガス製造装置とは別個に精製装置
を設置しなければならず、全体が大形になるとい
る欠点がある。そのうえ、前記の方法では、水
素の添加量の調整に高精度が要求され、不純酸素
量と丁度反応するだけの量の水素を添加しない
と、酸素が残存したり、また添加した水素が残存
して不純分となつてしまうため、操作に熟練を要
するという問題がある。また、前記の方法で
は、不純酸素との反応で生じたNiOの再生（NiO
＋H2→Ni＋H2O）をする必要が生じ、再生用H2
ガス設備が必要となつて精製費の上昇を招いてい
た。したがつて、これらの改善が強く望まれてい
た。
また、従来の窒素ガスの製造装置は、圧縮機で
圧縮された圧縮空気を冷却するための熱交換器の
冷媒冷却用に、膨脹タービンを用い、これを精留
塔内に溜る液体空気（深冷液化分離により低沸点
の窒素はガスとして取り出され、残部が酸素リツ
チな液体空気となつて溜る）から蒸発したガスの
圧力で駆動するようになつている。ところが、膨
脹タービンは回転速度が極めて大（数万回／分）
であつて負荷変動に対する追従運転が困難であ
り、特別に養成した運転員が必要である。また、
このものは高速回転するため機械構造上高精度が
要求され、かつ高価であり、機構が複雑なため特
別に養成した要員が必要という難点を有してい
る。すなわち、膨脹タービンは高速回転部を有す
るため、上記のような諸問題を生じるのであり、
このような高速回転部を有する膨脹タービンの除
去に対して強い要望があつた。
圧縮された圧縮空気を冷却するための熱交換器の
冷媒冷却用に、膨脹タービンを用い、これを精留
塔内に溜る液体空気（深冷液化分離により低沸点
の窒素はガスとして取り出され、残部が酸素リツ
チな液体空気となつて溜る）から蒸発したガスの
圧力で駆動するようになつている。ところが、膨
脹タービンは回転速度が極めて大（数万回／分）
であつて負荷変動に対する追従運転が困難であ
り、特別に養成した運転員が必要である。また、
このものは高速回転するため機械構造上高精度が
要求され、かつ高価であり、機構が複雑なため特
別に養成した要員が必要という難点を有してい
る。すなわち、膨脹タービンは高速回転部を有す
るため、上記のような諸問題を生じるのであり、
このような高速回転部を有する膨脹タービンの除
去に対して強い要望があつた。
この発明者は、このような要望に応えるため、
膨脹タービンを除去し、それに代えて外部から液
体窒素を寒冷として精留塔内に供給する窒素ガス
製造装置を開発し、すでに特許出願（特願昭58−
38050）している。この装置は、極めて高純度の
窒素ガスを製造しうるため、これまでのような精
製装置が全く不要になる。また、膨脹タービンを
除去しているため、それにもとづく弊害も全く生
じない。したがつて、電子工業向に最適である。
しかしながら、電子工業では、窒素ガス以外に、
酸素ガスも使用しており、１台の装置で窒素ガス
のみならず酸素ガスも製造しうるような装置の提
供が望まれてきている。
膨脹タービンを除去し、それに代えて外部から液
体窒素を寒冷として精留塔内に供給する窒素ガス
製造装置を開発し、すでに特許出願（特願昭58−
38050）している。この装置は、極めて高純度の
窒素ガスを製造しうるため、これまでのような精
製装置が全く不要になる。また、膨脹タービンを
除去しているため、それにもとづく弊害も全く生
じない。したがつて、電子工業向に最適である。
しかしながら、電子工業では、窒素ガス以外に、
酸素ガスも使用しており、１台の装置で窒素ガス
のみならず酸素ガスも製造しうるような装置の提
供が望まれてきている。
この発明は、膨脹タービンや精製装置を用いる
ことなく高純度の窒素ガスを製造でき、かつ同時
に酸素ガスも製造しうる高純度窒素ガス製造装置
の提供をその目的とするものである。
ことなく高純度の窒素ガスを製造でき、かつ同時
に酸素ガスも製造しうる高純度窒素ガス製造装置
の提供をその目的とするものである。
上記の目的を達成するため、この発明の高純度
窒素ガス製造装置は、外部より取り入れた空気を
圧縮する空気圧縮手段と、この空気圧縮手段によ
つて圧縮された圧縮空気中の炭酸ガスと水分とを
除去する除去手段と、この除去手段を経た圧縮空
気を超低温に冷却する熱交換手段と、この熱交換
手段により超低温に冷却された圧縮空気の一部を
液化して底部に溜め窒素のみを気体として上部側
から取り出す精留塔を備えた窒素ガス製造装置に
おいて、精留塔の上部に設けられた凝縮器内蔵型
の分縮器と、精留塔の底部の貯溜液体空気を上記
凝縮器冷却用の寒冷として上記分縮器中に導く液
体空気導入パイプと、上記分縮器中で生じた気化
液体空気を外部に放出する放出パイプと、精留塔
内で生成した窒素ガスの一部を上記凝縮器内に案
内する第１の還流液パイプと、上記凝縮器内で生
じた液化窒素を還流液として精留塔内に戻す第２
の還流液パイプと、装置外から液体窒素の供給を
受けこれを貯蔵する液体窒素貯蔵手段と、この液
体窒素貯蔵手段内の液体窒素を冷熱発生用膨脹器
からの発生冷熱に代え圧縮空気液化用の寒冷源と
して連続的に上記精留塔内に導く導入路と、上記
精留塔に対する上記液体窒素貯蔵手段からの液体
窒素の供給量を制御することにより上記分縮器内
の液体空気の液面を一定に制御する制御手段と、
上記精留塔から気体として取り出される窒素およ
び上記精留塔内において寒冷源としての作用を終
え気化した上記液体窒素を上記熱交換手段を経由
させその内部を通る圧縮空気と熱交換させること
により温度上昇させ製品窒素ガスとする窒素ガス
取出路と、窒素ガス選択吸着能を有する複数の吸
着筒と、上記複数の吸着筒の入口と上記分縮器に
おける放出パイプの出口とをそれぞれ連通させる
複数の流入路パイプと、上記複数の流入路パイプ
にそれぞれ設けられた複数の第１の開閉弁と、上
記複数の吸着筒の出口からそれぞれ延びる酸素ガ
ス取出路と、吸着筒の再生手段と、上記再生手段
と上記複数の吸着筒とを連通させる複数の再生路
と、上記複数の再生路にそれぞれ設けられた複数
の第２の開閉弁と、上記複数個の吸着筒のうちの
任意の吸着筒が吸着作動し残つた吸着筒が再生ま
たは休止するよう上記第１および第２の開閉弁の
開閉制御する開閉弁制御手段を備えるという構成
をとるものである。
窒素ガス製造装置は、外部より取り入れた空気を
圧縮する空気圧縮手段と、この空気圧縮手段によ
つて圧縮された圧縮空気中の炭酸ガスと水分とを
除去する除去手段と、この除去手段を経た圧縮空
気を超低温に冷却する熱交換手段と、この熱交換
手段により超低温に冷却された圧縮空気の一部を
液化して底部に溜め窒素のみを気体として上部側
から取り出す精留塔を備えた窒素ガス製造装置に
おいて、精留塔の上部に設けられた凝縮器内蔵型
の分縮器と、精留塔の底部の貯溜液体空気を上記
凝縮器冷却用の寒冷として上記分縮器中に導く液
体空気導入パイプと、上記分縮器中で生じた気化
液体空気を外部に放出する放出パイプと、精留塔
内で生成した窒素ガスの一部を上記凝縮器内に案
内する第１の還流液パイプと、上記凝縮器内で生
じた液化窒素を還流液として精留塔内に戻す第２
の還流液パイプと、装置外から液体窒素の供給を
受けこれを貯蔵する液体窒素貯蔵手段と、この液
体窒素貯蔵手段内の液体窒素を冷熱発生用膨脹器
からの発生冷熱に代え圧縮空気液化用の寒冷源と
して連続的に上記精留塔内に導く導入路と、上記
精留塔に対する上記液体窒素貯蔵手段からの液体
窒素の供給量を制御することにより上記分縮器内
の液体空気の液面を一定に制御する制御手段と、
上記精留塔から気体として取り出される窒素およ
び上記精留塔内において寒冷源としての作用を終
え気化した上記液体窒素を上記熱交換手段を経由
させその内部を通る圧縮空気と熱交換させること
により温度上昇させ製品窒素ガスとする窒素ガス
取出路と、窒素ガス選択吸着能を有する複数の吸
着筒と、上記複数の吸着筒の入口と上記分縮器に
おける放出パイプの出口とをそれぞれ連通させる
複数の流入路パイプと、上記複数の流入路パイプ
にそれぞれ設けられた複数の第１の開閉弁と、上
記複数の吸着筒の出口からそれぞれ延びる酸素ガ
ス取出路と、吸着筒の再生手段と、上記再生手段
と上記複数の吸着筒とを連通させる複数の再生路
と、上記複数の再生路にそれぞれ設けられた複数
の第２の開閉弁と、上記複数個の吸着筒のうちの
任意の吸着筒が吸着作動し残つた吸着筒が再生ま
たは休止するよう上記第１および第２の開閉弁の
開閉制御する開閉弁制御手段を備えるという構成
をとるものである。
つぎに、この発明を実施例にもとづいて説明す
る。
る。
第１図はこの発明の一実施例を示している。図
において、９は空気圧縮機、１０はドレン分離
器、１１はフロン冷却器、１２は２個１組の吸着
筒である。吸着筒１２は内部にモレキユラーシー
ブが充填されていて空気圧縮機９により圧縮され
た空気中のH2BOおよびCO2を吸着除去する作用
をする。１３は熱交換器であり、吸着筒１２によ
りH2OおよびCO2が吸着除去された圧縮空気が、
圧縮空気供給パイプ８を経て送り込まれる。ここ
に送り込まれた圧縮空気は、熱交換器１３の熱交
換作用により超低温に冷却される。１５は塔頂
に、凝縮器２１ａ内蔵の分縮器２１を備えた窒素
精留塔であり、熱交換器１３により超低温に冷却
されパイプ１７を経て送り込まれる圧縮空気をさ
らに冷却し、その一部を液化し液体空気１８とし
て底部に溜め、窒素のみを気体状態で上部天井部
に溜めるようになつている。すなわち、上記精留
塔１５は、天井板２０の上側に分縮器２１を備え
ている。２３は装置外から液体窒素の供給を受け
これを貯蔵する液体窒素貯槽である。上記精留塔
１５の上部には、上記液体窒素貯槽２３から液体
窒素が導入路パイプ２４ａを介して直接送入され
るとともに、その上部に設けられた液体窒素溜め
２１ｄ内に上記分縮器２１内の凝縮器２１ａで生
成した液体窒素が第２の還流液パイプ２１ｃを通
つて流下供給され、この双方の液体窒素が溢流し
て精留塔１５内を下方に流下し、精留塔１５の底
部から上昇する圧縮空気と向流的に接触し冷却し
てその一部を液化するようになつている。この過
程で圧縮空気中の高沸点成分は液化されて精留塔
１５の底部に溜り、低沸点成分の窒素ガスが精留
塔１５の上部に溜る。また、上記分縮器２１内に
は、先に述べたように凝縮器２１ａが配設されて
おり、精留塔１５の上部に溜る窒素ガスの一部が
第１の還流液パイプ２１ｂを介して送入される。
この分縮器２１内は、精留塔１５内よりも減圧状
態になつており、精留塔１２の底部の貯留液体空
気（N250〜70％，O230〜50％）１８が膨脹弁１
９ａ付きパイプ１９を経て送り込まれ、気化して
内部温度を液体窒素の沸点以下の温度に冷却する
ようになつている。この冷却により、凝縮器２１
ａ内に送入された窒素ガスが液化し、前記のよう
に精留塔１５内の液体窒素溜め２１ｄ内に流下す
るのである。２５は液面計であり、分縮器２１内
の液体空気の液面に応じてバルブ２６を制御し液
体窒素貯槽２３からの液体窒素の供給量を制御す
る。２７は精留塔１５の上部に溜つた窒素ガスを
取り出す取出パイプで、超低温の液体ガスを熱交
換器１３内に案内し、そこで送り込まれる圧縮空
気と熱交換させて常時にしメインパイプ２８に送
り込む作用をする。この場合、精留塔１５の最上
部には、窒素ガスとともに、沸点の低いHe（−
269℃），H2（−253℃）が溜りやすいため、取出
パイプ２７は、精留塔１５の最上部よりかなり下
側に開口しており、He，H2の混在しない純窒素
ガスのみを取り出すようになつている。２９は分
縮器２１内の不用気化液体空気を熱交換器１３に
送り込む放出路パイプであり、２９ａはその保圧
弁である。４０，４１，４２はそれぞれ内部に
N2を選択的に吸着する吸着剤（合成ゼオライ
ト：モレキユラーシーブ）が充填されている吸着
筒で、それぞれその入口が、弁４０ｂ，４１ｂ，
４２ｂを備えた流入路４０ａ，４１ａ，４２ａを
介して上記放出路パイプ２９の出口に接続されて
いる。４４は真空ポンプで、吸引路４３および弁
４０ｃ，４１ｃ，４２ｃを介して上記吸着筒４
０，４１，４２の入口に接続されている。４０
ｄ，４１ｄ，４２ｄは、それぞれ上記吸着筒４
０，４１，４２の出口に接続されている取出路
で、それぞれ弁４０ｅ，４１ｅ，４２ｅを備えて
いる。これらの取出路４０ｄ，４１ｄ，４２ｄ
は、製品酸素ガス取出路４５を介して緩衝タンク
４６に接続されている。上記吸着筒４０，４１，
４２は、そのなかの１個が吸着に使用され、その
間、残るものが真空ポンプ４４の真空吸引による
再生作用を受け、ついで再生されたものの１個が
吸着に使用され、先に吸着作動をしていたものが
再生を受ける。上記各弁４０ｂ，４０ｃ，４０
ｅ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｅ，４２ｂ，４２ｃ，
４２ｅは、公知の弁制御手段（図示せず）により
開閉制御され、吸着筒４０〜４２の上記動作を実
現させる。上記吸着筒４０〜４２は上記動作を繰
り返して連続吸着作動するようになつている。な
お、３０はバツクアツプ系ラインであり、空気圧
縮ラインが故障したときに液体窒素貯槽２３内の
液体窒素を蒸発器３１により蒸発させてメインパ
イプ２８に送り込み、窒素ガスの供給がとだえる
ことのないようにする。３２は不純物分析計であ
り、メインパイプ２８に送り出される製品窒素ガ
スの純度を分析し、純度の低いときは、弁３４，
３４ａを作動させて製品窒素ガスを矢印Ｂのよう
に外部に逃気する作用をする。また、一点鎖線は
真空保冷函であり、精留塔１５等を収容して精製
効率の向上を図る。
において、９は空気圧縮機、１０はドレン分離
器、１１はフロン冷却器、１２は２個１組の吸着
筒である。吸着筒１２は内部にモレキユラーシー
ブが充填されていて空気圧縮機９により圧縮され
た空気中のH2BOおよびCO2を吸着除去する作用
をする。１３は熱交換器であり、吸着筒１２によ
りH2OおよびCO2が吸着除去された圧縮空気が、
圧縮空気供給パイプ８を経て送り込まれる。ここ
に送り込まれた圧縮空気は、熱交換器１３の熱交
換作用により超低温に冷却される。１５は塔頂
に、凝縮器２１ａ内蔵の分縮器２１を備えた窒素
精留塔であり、熱交換器１３により超低温に冷却
されパイプ１７を経て送り込まれる圧縮空気をさ
らに冷却し、その一部を液化し液体空気１８とし
て底部に溜め、窒素のみを気体状態で上部天井部
に溜めるようになつている。すなわち、上記精留
塔１５は、天井板２０の上側に分縮器２１を備え
ている。２３は装置外から液体窒素の供給を受け
これを貯蔵する液体窒素貯槽である。上記精留塔
１５の上部には、上記液体窒素貯槽２３から液体
窒素が導入路パイプ２４ａを介して直接送入され
るとともに、その上部に設けられた液体窒素溜め
２１ｄ内に上記分縮器２１内の凝縮器２１ａで生
成した液体窒素が第２の還流液パイプ２１ｃを通
つて流下供給され、この双方の液体窒素が溢流し
て精留塔１５内を下方に流下し、精留塔１５の底
部から上昇する圧縮空気と向流的に接触し冷却し
てその一部を液化するようになつている。この過
程で圧縮空気中の高沸点成分は液化されて精留塔
１５の底部に溜り、低沸点成分の窒素ガスが精留
塔１５の上部に溜る。また、上記分縮器２１内に
は、先に述べたように凝縮器２１ａが配設されて
おり、精留塔１５の上部に溜る窒素ガスの一部が
第１の還流液パイプ２１ｂを介して送入される。
この分縮器２１内は、精留塔１５内よりも減圧状
態になつており、精留塔１２の底部の貯留液体空
気（N250〜70％，O230〜50％）１８が膨脹弁１
９ａ付きパイプ１９を経て送り込まれ、気化して
内部温度を液体窒素の沸点以下の温度に冷却する
ようになつている。この冷却により、凝縮器２１
ａ内に送入された窒素ガスが液化し、前記のよう
に精留塔１５内の液体窒素溜め２１ｄ内に流下す
るのである。２５は液面計であり、分縮器２１内
の液体空気の液面に応じてバルブ２６を制御し液
体窒素貯槽２３からの液体窒素の供給量を制御す
る。２７は精留塔１５の上部に溜つた窒素ガスを
取り出す取出パイプで、超低温の液体ガスを熱交
換器１３内に案内し、そこで送り込まれる圧縮空
気と熱交換させて常時にしメインパイプ２８に送
り込む作用をする。この場合、精留塔１５の最上
部には、窒素ガスとともに、沸点の低いHe（−
269℃），H2（−253℃）が溜りやすいため、取出
パイプ２７は、精留塔１５の最上部よりかなり下
側に開口しており、He，H2の混在しない純窒素
ガスのみを取り出すようになつている。２９は分
縮器２１内の不用気化液体空気を熱交換器１３に
送り込む放出路パイプであり、２９ａはその保圧
弁である。４０，４１，４２はそれぞれ内部に
N2を選択的に吸着する吸着剤（合成ゼオライ
ト：モレキユラーシーブ）が充填されている吸着
筒で、それぞれその入口が、弁４０ｂ，４１ｂ，
４２ｂを備えた流入路４０ａ，４１ａ，４２ａを
介して上記放出路パイプ２９の出口に接続されて
いる。４４は真空ポンプで、吸引路４３および弁
４０ｃ，４１ｃ，４２ｃを介して上記吸着筒４
０，４１，４２の入口に接続されている。４０
ｄ，４１ｄ，４２ｄは、それぞれ上記吸着筒４
０，４１，４２の出口に接続されている取出路
で、それぞれ弁４０ｅ，４１ｅ，４２ｅを備えて
いる。これらの取出路４０ｄ，４１ｄ，４２ｄ
は、製品酸素ガス取出路４５を介して緩衝タンク
４６に接続されている。上記吸着筒４０，４１，
４２は、そのなかの１個が吸着に使用され、その
間、残るものが真空ポンプ４４の真空吸引による
再生作用を受け、ついで再生されたものの１個が
吸着に使用され、先に吸着作動をしていたものが
再生を受ける。上記各弁４０ｂ，４０ｃ，４０
ｅ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｅ，４２ｂ，４２ｃ，
４２ｅは、公知の弁制御手段（図示せず）により
開閉制御され、吸着筒４０〜４２の上記動作を実
現させる。上記吸着筒４０〜４２は上記動作を繰
り返して連続吸着作動するようになつている。な
お、３０はバツクアツプ系ラインであり、空気圧
縮ラインが故障したときに液体窒素貯槽２３内の
液体窒素を蒸発器３１により蒸発させてメインパ
イプ２８に送り込み、窒素ガスの供給がとだえる
ことのないようにする。３２は不純物分析計であ
り、メインパイプ２８に送り出される製品窒素ガ
スの純度を分析し、純度の低いときは、弁３４，
３４ａを作動させて製品窒素ガスを矢印Ｂのよう
に外部に逃気する作用をする。また、一点鎖線は
真空保冷函であり、精留塔１５等を収容して精製
効率の向上を図る。
この装置は、つぎのようにして製品窒素ガスお
よび酸素ガスを製造する。すなわち、空気圧縮機
９により空気を圧縮し、ドレン分離器１０により
圧縮された空気中の水分を除去してフロン冷却器
１１により冷却し、その状態で吸着筒１２に送り
込み、空気中のH2OおよびCO2を吸着除去する。
ついで、H2O，CO2が吸着除去された圧縮空気を
熱交換器１３に送り込んで超低温に冷却し、その
状態で精留塔１５の下部内に投入する。ついで、
この投入圧縮空気を、液体窒素貯槽２３から精留
塔１５内に送り込まれた液体窒素および液体窒素
溜め２１ｄからの溢流液体窒素と接触させて冷却
し、その一部を液化して精留塔１５の底部に液体
空気１８として溜める。この過程において、窒素
と酸素の沸点の差（酸素の沸点−183℃、窒素の
沸点−196℃）により、圧縮空気中の高沸点成分
である酸素が液化し、窒素が気体のまま残る。つ
いで、この気体のまま残つた窒素を取出パイプ２
７から取り出して熱交換器１３に送り込み、常温
近くまで昇温させメインパイプ２８から製品窒素
ガスとして送り出す。この場合、液体窒素貯槽２
３から供給された液体窒素は、圧縮空気液化用の
寒冷源として作用し、それ自身は気化して取出パ
イプ２７から製品窒素ガスの一部として取り出さ
れる。他方、精留塔１５の下部に溜つた液体空気
１８は、分縮器２１内に送り込まれて凝縮器２１
ａを冷却したのち気化して不用気化液体空気とな
り、パイプ２９を経て熱交換器１３内に送入され
て昇温し、その状態で吸着筒４０，４１，４２の
うちの任意の吸着筒に送り込まれ、そこで窒素ガ
スを吸着除去され酸素ガスとなつて緩衝タンク４
６に送り込まれる。この場合、吸着筒４０，４
１，４２のなかの任意の１個が吸着作動し、残る
ものはその間真空ポンプ４４の真空再生作用を受
け、つぎに吸着作動した吸着筒が再生にまわり、
再生済みのものの１個が吸着作動にはいるという
ように、各弁４０ｂ〜４２ｂ，４０ｃ〜４２ｃ，
４０ｅ〜４２ｅが弁制御手段により制御される。
このようにして、高純度の窒素ガスと酸素ガスが
１台の装置により同時に得られるようになる。こ
の場合、得られる製品窒素ガスと製品酸素ガスの
普率（体積比）は、ほぼ10：１となる。
よび酸素ガスを製造する。すなわち、空気圧縮機
９により空気を圧縮し、ドレン分離器１０により
圧縮された空気中の水分を除去してフロン冷却器
１１により冷却し、その状態で吸着筒１２に送り
込み、空気中のH2OおよびCO2を吸着除去する。
ついで、H2O，CO2が吸着除去された圧縮空気を
熱交換器１３に送り込んで超低温に冷却し、その
状態で精留塔１５の下部内に投入する。ついで、
この投入圧縮空気を、液体窒素貯槽２３から精留
塔１５内に送り込まれた液体窒素および液体窒素
溜め２１ｄからの溢流液体窒素と接触させて冷却
し、その一部を液化して精留塔１５の底部に液体
空気１８として溜める。この過程において、窒素
と酸素の沸点の差（酸素の沸点−183℃、窒素の
沸点−196℃）により、圧縮空気中の高沸点成分
である酸素が液化し、窒素が気体のまま残る。つ
いで、この気体のまま残つた窒素を取出パイプ２
７から取り出して熱交換器１３に送り込み、常温
近くまで昇温させメインパイプ２８から製品窒素
ガスとして送り出す。この場合、液体窒素貯槽２
３から供給された液体窒素は、圧縮空気液化用の
寒冷源として作用し、それ自身は気化して取出パ
イプ２７から製品窒素ガスの一部として取り出さ
れる。他方、精留塔１５の下部に溜つた液体空気
１８は、分縮器２１内に送り込まれて凝縮器２１
ａを冷却したのち気化して不用気化液体空気とな
り、パイプ２９を経て熱交換器１３内に送入され
て昇温し、その状態で吸着筒４０，４１，４２の
うちの任意の吸着筒に送り込まれ、そこで窒素ガ
スを吸着除去され酸素ガスとなつて緩衝タンク４
６に送り込まれる。この場合、吸着筒４０，４
１，４２のなかの任意の１個が吸着作動し、残る
ものはその間真空ポンプ４４の真空再生作用を受
け、つぎに吸着作動した吸着筒が再生にまわり、
再生済みのものの１個が吸着作動にはいるという
ように、各弁４０ｂ〜４２ｂ，４０ｃ〜４２ｃ，
４０ｅ〜４２ｅが弁制御手段により制御される。
このようにして、高純度の窒素ガスと酸素ガスが
１台の装置により同時に得られるようになる。こ
の場合、得られる製品窒素ガスと製品酸素ガスの
普率（体積比）は、ほぼ10：１となる。
この窒素ガス製造装置は、上記のように膨脹タ
ービンを用いず、高純度の製品窒素ガスを製造し
うるものであり、膨脹タービンに起因する前記弊
害を全く生じず、しかも精製装置を不要化しう
る。特に、この高純度窒素ガス製造装置は、精留
塔１５の上部に凝縮器２１ａ内蔵型の分縮器２１
を設け、上記凝縮器２１ａ内へ精留塔１５内の窒
素ガスの一部を常時案内して液化するため、凝縮
器２１ａ内へ液化窒素が所定量溜まつたのちはそ
れ以降生成する液化窒素が還流液として常時精留
塔１５内に戻るようになる。したがつて、凝縮器
２１ａからの還流液の流下供給の断続に起因する
製品純度のばらつき（還流液の流下の中断により
上部精留棚では液がなくなりガスの吹抜け現象を
招いて製品純度が下がり、流下の再開時には一定
純度に戻る）を生じず、常時安定した純度の製品
窒素ガスを供給することができる。しかもこの装
置では、製品窒素ガスの需要量に変動が生じても
液面計２５のような制御手段がバルブ２６の開度
等を制御し精留塔１５に対する液体窒素の供給量
を制御することにより分縮器２１内の液体空気の
液面を一定に制御するため、需要量の変動に迅速
に対応でき、かつこのときにも先に述べた理由に
より純度ばらつきを生じない。すなわち、製品窒
素ガスの需要量が多くなると、生成窒素ガスの殆
どが取出パイプ２７から作り出され、凝縮器２１
ａに送られる窒素ガスの量が少なくなつて凝縮器
２１ａで生成される還流液量が少なくなり、その
結果、精留塔底部の貯溜液体空気１８の量が減少
し、そこから送られる液体空気の量が減少するた
め分縮器２１における液体空気の液面が下がる。
これにより液面計２５が作動し精留塔１５に対す
る液体窒素の供給量を増加させ、この気化により
迅速に製品窒素ガスを製造し需要量の増大に素早
く対応する。そして、この液体窒素の供給量の増
加により精留塔底部の貯溜液体空気量が増大しそ
れに伴つて分縮器２１内の液面が回復すると、液
面計２５によつて精留塔１５に対する液体窒素の
供給量が適正に減少制御される。製品窒素ガスの
需要量が少なくなると、上記とは逆に、分縮器２
１内の液面が上昇するため、液面計２５が作動し
て精留塔１５に対する液体窒素の供給量を減少さ
せ液体窒素の過剰供給にもとづく不合理を排除す
る。このように、この装置は、純度のばらつきを
生じることなく迅速かつ合理的に需要量の変動に
対応できるのである。そのうえ、この装置は、精
留塔を経由し不純の極めて少なくなつている酸素
リツチな不要液体空気を対象として酸素ガスを製
造するものであり、１台の装置で高純度の酸素ガ
スと窒素ガスを効率よく製造することができる。
ービンを用いず、高純度の製品窒素ガスを製造し
うるものであり、膨脹タービンに起因する前記弊
害を全く生じず、しかも精製装置を不要化しう
る。特に、この高純度窒素ガス製造装置は、精留
塔１５の上部に凝縮器２１ａ内蔵型の分縮器２１
を設け、上記凝縮器２１ａ内へ精留塔１５内の窒
素ガスの一部を常時案内して液化するため、凝縮
器２１ａ内へ液化窒素が所定量溜まつたのちはそ
れ以降生成する液化窒素が還流液として常時精留
塔１５内に戻るようになる。したがつて、凝縮器
２１ａからの還流液の流下供給の断続に起因する
製品純度のばらつき（還流液の流下の中断により
上部精留棚では液がなくなりガスの吹抜け現象を
招いて製品純度が下がり、流下の再開時には一定
純度に戻る）を生じず、常時安定した純度の製品
窒素ガスを供給することができる。しかもこの装
置では、製品窒素ガスの需要量に変動が生じても
液面計２５のような制御手段がバルブ２６の開度
等を制御し精留塔１５に対する液体窒素の供給量
を制御することにより分縮器２１内の液体空気の
液面を一定に制御するため、需要量の変動に迅速
に対応でき、かつこのときにも先に述べた理由に
より純度ばらつきを生じない。すなわち、製品窒
素ガスの需要量が多くなると、生成窒素ガスの殆
どが取出パイプ２７から作り出され、凝縮器２１
ａに送られる窒素ガスの量が少なくなつて凝縮器
２１ａで生成される還流液量が少なくなり、その
結果、精留塔底部の貯溜液体空気１８の量が減少
し、そこから送られる液体空気の量が減少するた
め分縮器２１における液体空気の液面が下がる。
これにより液面計２５が作動し精留塔１５に対す
る液体窒素の供給量を増加させ、この気化により
迅速に製品窒素ガスを製造し需要量の増大に素早
く対応する。そして、この液体窒素の供給量の増
加により精留塔底部の貯溜液体空気量が増大しそ
れに伴つて分縮器２１内の液面が回復すると、液
面計２５によつて精留塔１５に対する液体窒素の
供給量が適正に減少制御される。製品窒素ガスの
需要量が少なくなると、上記とは逆に、分縮器２
１内の液面が上昇するため、液面計２５が作動し
て精留塔１５に対する液体窒素の供給量を減少さ
せ液体窒素の過剰供給にもとづく不合理を排除す
る。このように、この装置は、純度のばらつきを
生じることなく迅速かつ合理的に需要量の変動に
対応できるのである。そのうえ、この装置は、精
留塔を経由し不純の極めて少なくなつている酸素
リツチな不要液体空気を対象として酸素ガスを製
造するものであり、１台の装置で高純度の酸素ガ
スと窒素ガスを効率よく製造することができる。
なお、第１図の液体精留塔に代えて第２図に示
すような製造の精留塔を用いてもよい。すなわ
ち、この精留塔１５は、多数のパイプ２０ａが植
設された仕切板２０によつて分縮器部２１が塔部
１５と区切られており、この分縮器部２１内に液
体窒素貯槽２３から液体窒素が供給され、パイプ
１９から塔部１５内に供給された圧縮空気を、仕
切板２０のパイプ２０ａ内で冷却して酸素分を液
化し、窒素を気体の状態で分縮器部２１の頂部よ
り取り出すようになつている。この場合は、前記
実施例では異なり、精留塔１５の底部に溜まる液
体空気１８が、酸素ガスの原料として用いられ、
熱交換器１３で昇温され気化した状態で任意の吸
着筒４０，４１，４２に供給される。
すような製造の精留塔を用いてもよい。すなわ
ち、この精留塔１５は、多数のパイプ２０ａが植
設された仕切板２０によつて分縮器部２１が塔部
１５と区切られており、この分縮器部２１内に液
体窒素貯槽２３から液体窒素が供給され、パイプ
１９から塔部１５内に供給された圧縮空気を、仕
切板２０のパイプ２０ａ内で冷却して酸素分を液
化し、窒素を気体の状態で分縮器部２１の頂部よ
り取り出すようになつている。この場合は、前記
実施例では異なり、精留塔１５の底部に溜まる液
体空気１８が、酸素ガスの原料として用いられ、
熱交換器１３で昇温され気化した状態で任意の吸
着筒４０，４１，４２に供給される。
この発明の高純度液体ガス製造装置は、膨脹タ
ービンを用いず、それに代えて何ら回転部をもた
ない液体窒素貯槽を用いるため、装置全体として
回転部がなくなり故障が全く生じない。しかも膨
脹タービンは高価であるのに対して液体窒素貯槽
は安価であり、また特別な要員も不要になる。そ
のうえ、膨脹タービン（窒素精留塔内に溜る液体
空気から蒸発したガスの圧力で駆動する）は、回
転速度が極めて大（数万回／分）であるため、負
荷変動（製品窒素ガスの取出量の変化）に対する
きめ細かな追従運転が困難である。したがつて、
製品窒素ガスの取出量の変化に応じて膨脹タービ
ンに対する液体空気の供給量を正確に変化させ、
窒素ガス製造原料である圧縮空気を常時一定温度
に冷却することが困難であり、その結果、得られ
る製品窒素ガスの純度がばらつき、頻繁に低純度
のものがつくりだされ全体的に製品窒素ガスの純
度が低くなつていた。この装置は、それに代えて
液体窒素貯槽を用い、供給量のきめ細かい調節が
可能な液体窒素を圧縮空気の寒冷源として用いる
ため、負荷変動に対するきめ細かな追従が可能と
なり、純度が安定していて極めて高い窒素ガスを
製造しうるようになる。したがつて、従来の精製
装置が不要となる。特に、この装置は、精留塔の
上部に凝縮器内蔵型の分縮器を設け、この分縮器
内の凝縮器へ精留塔で生成した窒素ガスの一部を
常時導入して液化還流液化し、還流液が常時精留
塔内で戻るようにすると同時に、制御手段によつ
て上記精留塔に対する液体窒素貯蔵手段からの液
体窒素の供給量を制御して分縮器の液面を一定に
保つようにするため、負荷変動に対して極めて迅
速に対応でき、その際、製品窒素ガスの純度ばら
つきを生じないのである。しかも、この装置は、
窒素ガス採取後のものであつて精留塔等を経由す
ることによりCO2，H2O等の不純分が除かれてい
る酸素リツチな廃ガス（不用気化液体空気）を窒
素精留塔から吸着筒に供給して酸素ガスを製造す
るため、効率よく酸素ガスを得ることができる。
このように、この発明の装置は、１台の装置で高
純度の窒素ガスと酸素ガスとを効率よく製造する
ことができるため、電子工業向けに最適である。
ービンを用いず、それに代えて何ら回転部をもた
ない液体窒素貯槽を用いるため、装置全体として
回転部がなくなり故障が全く生じない。しかも膨
脹タービンは高価であるのに対して液体窒素貯槽
は安価であり、また特別な要員も不要になる。そ
のうえ、膨脹タービン（窒素精留塔内に溜る液体
空気から蒸発したガスの圧力で駆動する）は、回
転速度が極めて大（数万回／分）であるため、負
荷変動（製品窒素ガスの取出量の変化）に対する
きめ細かな追従運転が困難である。したがつて、
製品窒素ガスの取出量の変化に応じて膨脹タービ
ンに対する液体空気の供給量を正確に変化させ、
窒素ガス製造原料である圧縮空気を常時一定温度
に冷却することが困難であり、その結果、得られ
る製品窒素ガスの純度がばらつき、頻繁に低純度
のものがつくりだされ全体的に製品窒素ガスの純
度が低くなつていた。この装置は、それに代えて
液体窒素貯槽を用い、供給量のきめ細かい調節が
可能な液体窒素を圧縮空気の寒冷源として用いる
ため、負荷変動に対するきめ細かな追従が可能と
なり、純度が安定していて極めて高い窒素ガスを
製造しうるようになる。したがつて、従来の精製
装置が不要となる。特に、この装置は、精留塔の
上部に凝縮器内蔵型の分縮器を設け、この分縮器
内の凝縮器へ精留塔で生成した窒素ガスの一部を
常時導入して液化還流液化し、還流液が常時精留
塔内で戻るようにすると同時に、制御手段によつ
て上記精留塔に対する液体窒素貯蔵手段からの液
体窒素の供給量を制御して分縮器の液面を一定に
保つようにするため、負荷変動に対して極めて迅
速に対応でき、その際、製品窒素ガスの純度ばら
つきを生じないのである。しかも、この装置は、
窒素ガス採取後のものであつて精留塔等を経由す
ることによりCO2，H2O等の不純分が除かれてい
る酸素リツチな廃ガス（不用気化液体空気）を窒
素精留塔から吸着筒に供給して酸素ガスを製造す
るため、効率よく酸素ガスを得ることができる。
このように、この発明の装置は、１台の装置で高
純度の窒素ガスと酸素ガスとを効率よく製造する
ことができるため、電子工業向けに最適である。
第１図はこの発明の一実施例の構成図、第２図
は精留塔の変形例の構成図である。 ９……空気圧縮機、１２……吸着筒、１３……
熱交換器、１５……窒素精留塔、１７……パイ
プ、１８……液体空気、２１……分縮器、２１ａ
……凝縮器、２１ｄ……液体窒素溜め、２３……
液体窒素貯槽、２４ａ……導入路パイプ、２７…
…取出パイプ、２８……メインパイプ、２９……
放出路パイプ、４０，４１，４２……吸着筒、４
４……真空ポンプ、４５……製品酸素ガス取出
路。
は精留塔の変形例の構成図である。 ９……空気圧縮機、１２……吸着筒、１３……
熱交換器、１５……窒素精留塔、１７……パイ
プ、１８……液体空気、２１……分縮器、２１ａ
……凝縮器、２１ｄ……液体窒素溜め、２３……
液体窒素貯槽、２４ａ……導入路パイプ、２７…
…取出パイプ、２８……メインパイプ、２９……
放出路パイプ、４０，４１，４２……吸着筒、４
４……真空ポンプ、４５……製品酸素ガス取出
路。
Claims (1)
- １ 外部より取り入れた空気を圧縮する空気圧縮
手段と、この空気圧縮手段によつて圧縮された圧
縮空気中の炭酸ガスと水分とを除去する除去手段
と、この除去手段を経た圧縮空気を超低温に冷却
する熱交換手段と、この熱交換手段により超低温
に冷却された圧縮空気の一部を液化して底部に溜
め窒素のみを気体として上部側から取り出す精留
塔を備えた窒素ガス製造装置において、精留塔の
上部に設けられた凝縮器内蔵型の分縮器と、精留
塔の底部の貯溜液体空気を上記凝縮器冷却用の寒
冷として上記分縮器中に導く液体空気導入パイプ
と、上記分縮器中で生じた気化液体空気を外部に
放出する放出パイプと、精留塔内で生成した窒素
ガスの一部を上記凝縮器内に案内する第１の還流
液パイプと、上記凝縮器内で生じた液化窒素を還
流液として精留塔内に戻す第２の還流液パイプ
と、装置外から液体窒素の供給を受けこれを貯蔵
する液体窒素貯蔵手段と、この液体窒素貯蔵手段
内の液体窒素を冷熱発生用膨脹器からの発生冷熱
に代え圧縮空気液化用の寒冷源として連続的に上
記精留塔内に導く導入路と、上記精留塔に対する
上記液体窒素貯蔵手段からの液体窒素の供給量を
制御することにより上記分縮器内の液体空気の液
面を一定に制御する制御手段と、上記精留塔から
気体として取り出される窒素および上記精留塔内
において寒冷源としての作用を終え気化した上記
液体窒素を上記熱交換手段を経由させその内部を
通る圧縮空気と熱交換させることにより温度上昇
させ製品窒素ガスとする窒素ガス取出路と、窒素
ガス選択吸着能を有する複数の吸着筒と、上記複
数の吸着筒の入口と上記分縮器における放出パイ
プの出口とをそれぞれ連通させる複数の流入路パ
イプと、上記複数の流入路パイプにそれぞれ設け
られた複数の第１の開閉弁と、上記複数の吸着筒
の出口からそれぞれ延びる酸素ガス取出路と、吸
着筒の再生手段と、上記再生手段と上記複数の吸
着筒とを連通させる複数の再生路と、上記複数の
再生路にそれぞれ設けられた複数の第２の開閉弁
と、上記複数個の吸着筒のうちの任意の吸着筒が
吸着作動し残つた吸着筒が再生または休止するよ
う上記第１および第２の開閉弁の開閉制御する開
閉弁制御手段を備えたことを特徴とする高純度窒
素ガス製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59136748A JPS6115068A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 高純度窒素ガス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59136748A JPS6115068A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 高純度窒素ガス製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115068A JPS6115068A (ja) | 1986-01-23 |
| JPS6148071B2 true JPS6148071B2 (ja) | 1986-10-22 |
Family
ID=15182582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59136748A Granted JPS6115068A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 高純度窒素ガス製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115068A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3432052B2 (ja) * | 1994-09-02 | 2003-07-28 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録装置 |
| EP3640571A1 (de) * | 2018-10-18 | 2020-04-22 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und anordnung zur gewinnung eines sauerstoffreichen luftprodukts |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940071A (ja) * | 1972-08-17 | 1974-04-15 | ||
| GB1463075A (en) * | 1973-04-13 | 1977-02-02 | Cryoplants Ltd | Air separation |
| JPS5935169B2 (ja) * | 1974-10-02 | 1984-08-27 | 株式会社東芝 | コンデンサ |
| DE2542468A1 (de) * | 1975-09-24 | 1977-04-07 | Bayer Ag | Herbizides mittel |
| JPS5814628B2 (ja) * | 1975-09-30 | 1983-03-19 | 横河電機株式会社 | リレ−ノ シヤダンジカンソクテイソウチ |
| JPS5514351A (en) * | 1978-07-14 | 1980-01-31 | Aisin Warner Ltd | Controller of automatic change gear |
| JPS5525344A (en) * | 1978-08-11 | 1980-02-23 | Tokyo Electric Co Ltd | Ribbon cassette case |
| JPS5579972A (en) * | 1978-12-11 | 1980-06-16 | Hitachi Ltd | Operation control of nitrogen production system |
| JPS5864478A (ja) * | 1981-10-15 | 1983-04-16 | 日本酸素株式会社 | 高純度窒素製造装置 |
-
1984
- 1984-07-02 JP JP59136748A patent/JPS6115068A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6115068A (ja) | 1986-01-23 |
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