JPS6148488B2 - - Google Patents
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- JPS6148488B2 JPS6148488B2 JP7036779A JP7036779A JPS6148488B2 JP S6148488 B2 JPS6148488 B2 JP S6148488B2 JP 7036779 A JP7036779 A JP 7036779A JP 7036779 A JP7036779 A JP 7036779A JP S6148488 B2 JPS6148488 B2 JP S6148488B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学活性α−ヒドロキシアルデヒド類
の製造法に関する。
の製造法に関する。
さらに詳しくは本発明は一般式(1)
（式中、Ａはアリール基、Ｂはアルキル基、アル
ケニル基、アルキニール基、アラルキル基もしく
はこれらの有機部分に官能基を含むものを表わ
す） で示される光学活性の化合物（以下、アミナール
と略称する）に一般式(2) Ｒ−Mg−Ｘ (2) （式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニール基、アラルキル基、アリール基もしくはこ
れらの有機部分に官能基を含むものを、Ｘはハロ
ゲンを表わす） で示され、かつＲが上記一般式(1)におけるＢより
も大きいグリニヤル試薬もしくはＢよりも小さい
グリニアル試薬を反応させ、次で加水分解するこ
とを特徴とする一般式(3) （式中、ＢおよびＲは上記と同じ意味を表わす） で示され、ＲがＢよりも大きい場合は一般式(1)の
化合物とは逆の、ＲがＢよりも小さい場合は一般
式(1)の化合物と同一の絶対立体配置を有する光学
活性α−ヒドロキシアルデヒド類の製造法に関す
るものである。
ケニル基、アルキニール基、アラルキル基もしく
はこれらの有機部分に官能基を含むものを表わ
す） で示される光学活性の化合物（以下、アミナール
と略称する）に一般式(2) Ｒ−Mg−Ｘ (2) （式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニール基、アラルキル基、アリール基もしくはこ
れらの有機部分に官能基を含むものを、Ｘはハロ
ゲンを表わす） で示され、かつＲが上記一般式(1)におけるＢより
も大きいグリニヤル試薬もしくはＢよりも小さい
グリニアル試薬を反応させ、次で加水分解するこ
とを特徴とする一般式(3) （式中、ＢおよびＲは上記と同じ意味を表わす） で示され、ＲがＢよりも大きい場合は一般式(1)の
化合物とは逆の、ＲがＢよりも小さい場合は一般
式(1)の化合物と同一の絶対立体配置を有する光学
活性α−ヒドロキシアルデヒド類の製造法に関す
るものである。
本発明の対象である一般式(1)で表わされる化合
物を例示すれば、Ｂとしてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−アミル基、２−プロペニ
ル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル
基、４−メチル−４−ペンテニル基、エチニル
基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペン
チニル基、３−ペンチニル基、ベンジル基、フエ
ネチル基、フエニルプロピル基等を、Ｒとしてメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基、ビニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル
基、３−ブテニル基、２−ペンテニル基、４−ペ
ンテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、エ
チニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２
−ペンチニル基、３−ペンチニル基、ベンジル
基、フエネチル基、フエニルプロピル基、フエニ
ル基、ｐ−トリル基等を挙げることができる。
物を例示すれば、Ｂとしてメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−アミル基、２−プロペニ
ル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル
基、４−メチル−４−ペンテニル基、エチニル
基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペン
チニル基、３−ペンチニル基、ベンジル基、フエ
ネチル基、フエニルプロピル基等を、Ｒとしてメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基、ビニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル
基、３−ブテニル基、２−ペンテニル基、４−ペ
ンテニル基、４−メチル−４−ペンテニル基、エ
チニル基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２
−ペンチニル基、３−ペンチニル基、ベンジル
基、フエネチル基、フエニルプロピル基、フエニ
ル基、ｐ−トリル基等を挙げることができる。
本発明の対象であるα−ヒドロキシアルデヒド
類は医薬、農薬の中間原料となり得るものであ
り、特にその光学活性体の製造法は重要な意義を
持つものである。例えば２−ヒドロキシ−２−フ
エニルプロピオンアルデヒドから誘導され得るア
トロラクタミドは医薬として用いられる。
類は医薬、農薬の中間原料となり得るものであ
り、特にその光学活性体の製造法は重要な意義を
持つものである。例えば２−ヒドロキシ−２−フ
エニルプロピオンアルデヒドから誘導され得るア
トロラクタミドは医薬として用いられる。
従来光学活性α−ヒドロキシアルデヒドの製造
に関しては例が少なく、例えば、J.Amer.Chem.
Soc.、100、1514（1978）に２−ヒドロキシ−２
−フエニルプロピオンアルデヒド誘導体の製造法
が記載されているが、その方法では光学活性源の
製造が容易でなく、製造工程数が多く、また得ら
れた製品の光学純度は44％に過ぎない。
に関しては例が少なく、例えば、J.Amer.Chem.
Soc.、100、1514（1978）に２−ヒドロキシ−２
−フエニルプロピオンアルデヒド誘導体の製造法
が記載されているが、その方法では光学活性源の
製造が容易でなく、製造工程数が多く、また得ら
れた製品の光学純度は44％に過ぎない。
本発明者らは鋭意検討の結果、前記一般式(1)で
示される光学活性アミナールに一般式(2)で示され
るグリニアル試薬を反応せしめ、次で加水分解す
れば、高い光学純度を有するα−ヒドロキシルア
ルデヒドが得られ、しかもその立体配置はグリニ
アル試薬のＲが光学活性アミナールの置換基Ｂよ
りも小さい場合にはアミナールと同一の、逆に置
換基Ｂよりも大きい場合はアミナールとは逆の立
体配置のα−ヒドロキシアルデヒド類が得られる
ことを見い出し本発明を完成するに至つた。
示される光学活性アミナールに一般式(2)で示され
るグリニアル試薬を反応せしめ、次で加水分解す
れば、高い光学純度を有するα−ヒドロキシルア
ルデヒドが得られ、しかもその立体配置はグリニ
アル試薬のＲが光学活性アミナールの置換基Ｂよ
りも小さい場合にはアミナールと同一の、逆に置
換基Ｂよりも大きい場合はアミナールとは逆の立
体配置のα−ヒドロキシアルデヒド類が得られる
ことを見い出し本発明を完成するに至つた。
本発明で用いる一般式(1)の光学活性アミナール
は例えば光学活性２−（Ｎ置換アミノメチル）ピ
ロリジンとグリオキシル酸エステル誘導体を原料
として製造することができる。一般式(1)で表わさ
れる化合物を例示すれば、Ｂとしてメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル基などのア
ルキル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテ
ニル基、４−ペンテニル基、４−メチル−４−ペ
ンテニル基などのアルケニル基、エチニル基、プ
ロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペンチニル
基、３−ペンチニル基などのアルキニール基、ベ
ンジル基、フエネチル基、フエニルプロピル基な
どのアラルキル基等もしくはこれらの有機部分に
官能基を含むものを挙げることができる。
は例えば光学活性２−（Ｎ置換アミノメチル）ピ
ロリジンとグリオキシル酸エステル誘導体を原料
として製造することができる。一般式(1)で表わさ
れる化合物を例示すれば、Ｂとしてメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル基などのア
ルキル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテ
ニル基、４−ペンテニル基、４−メチル−４−ペ
ンテニル基などのアルケニル基、エチニル基、プ
ロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペンチニル
基、３−ペンチニル基などのアルキニール基、ベ
ンジル基、フエネチル基、フエニルプロピル基な
どのアラルキル基等もしくはこれらの有機部分に
官能基を含むものを挙げることができる。
本発明でいう一般式(2)のグリニアル試薬とは一
般にいわれるグリニアル試薬、例えばＲとしてメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基などを有するアルキルマグネシウムハライド、
ビニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基、２−ペンテニル基、４−ペンテ
ニル基、４−メチル−４−ペンテニル基などを有
するアルケニルマグネシウムハライド、エチニル
基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペン
チニル基、３−ペンチニル基などを有するアルキ
ニールマグネシウムハライド、ベンジル基、フエ
ネチル基、フエニルプロピル基などを有するアラ
ルキルマグネシウムハライド、フエニル基、ｐ−
トリル基などを有するアリールマグネシウムハラ
イド等の他これらの有機部分に官能基を含むよう
なものでもよい。
般にいわれるグリニアル試薬、例えばＲとしてメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基などを有するアルキルマグネシウムハライド、
ビニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基、２−ペンテニル基、４−ペンテ
ニル基、４−メチル−４−ペンテニル基などを有
するアルケニルマグネシウムハライド、エチニル
基、プロパルギル基、２−ブチニル基、２−ペン
チニル基、３−ペンチニル基などを有するアルキ
ニールマグネシウムハライド、ベンジル基、フエ
ネチル基、フエニルプロピル基などを有するアラ
ルキルマグネシウムハライド、フエニル基、ｐ−
トリル基などを有するアリールマグネシウムハラ
イド等の他これらの有機部分に官能基を含むよう
なものでもよい。
グリニアル試薬を反応させる時に用いる溶媒と
してはエーテル、テトラヒドロフランもしくはこ
れらを含む混合溶媒など通常のグリニアル反応に
用いられる溶媒でよい。反応温度は用いる溶媒の
沸点以下で実施することができる。光学収率の高
い製品を得るためには反応温度が低い方が望まし
い。
してはエーテル、テトラヒドロフランもしくはこ
れらを含む混合溶媒など通常のグリニアル反応に
用いられる溶媒でよい。反応温度は用いる溶媒の
沸点以下で実施することができる。光学収率の高
い製品を得るためには反応温度が低い方が望まし
い。
グリニアル試薬を反応させた後、加水分解すれ
ば光学活性α−ヒドロキシアルデヒドを製造する
ことができるが、グリニアル試薬を反応させた
後、エーテル体等の誘導体としてから加水分解
し、α−ヒドロキシアルデヒド誘導体を製造する
こともできる（実施例２および３および５参
照）。
ば光学活性α−ヒドロキシアルデヒドを製造する
ことができるが、グリニアル試薬を反応させた
後、エーテル体等の誘導体としてから加水分解
し、α−ヒドロキシアルデヒド誘導体を製造する
こともできる（実施例２および３および５参
照）。
加水分解は通常０℃から100℃までが採用され
るが、製造される光学活性α−ヒドロキシアルデ
ヒドの安定性を考慮し低温の方が望ましい。
るが、製造される光学活性α−ヒドロキシアルデ
ヒドの安定性を考慮し低温の方が望ましい。
かくして例えば（Ｓ）−２−（Ｎ置換アミノメチ
ル）ピロリジンを不斉源として一般式(1)で示され
る（Ｓ）−アミナールを経由して得られた光学活
性α−ヒドロキシアルデヒドは一般式(3)に示す置
換基Ｒが置換基Ｂよりも大きい場合にはＲの立体
配置を有し、逆に置換基Ｒが置換基Ｂより小さい
場合にはＳの立体配置を有する。従つて、本発明
に用いるアミナールの置換基Ｂとグリニアル試薬
の置換基Ｒを適宜組み合わせることにより任意の
立体配置を有するα−ヒドロキシアルデヒド類を
製造することができる。例えば２−ヒドロキシ−
２−メチルブチルアルデヒドを製造するに際し、
一般式(1)に示す置換基Ｂがメチル基であり立体配
置がＳであるアミナールにエチルグリニアル試薬
を反応させればＲの立体配置を有するものが得ら
れ、一方置換基Ｂがエチル基であるアミナールに
メチルグリニアル試薬を反応させればＳの立体配
置を有するものが得られる（実施例２および５を
参照）。
ル）ピロリジンを不斉源として一般式(1)で示され
る（Ｓ）−アミナールを経由して得られた光学活
性α−ヒドロキシアルデヒドは一般式(3)に示す置
換基Ｒが置換基Ｂよりも大きい場合にはＲの立体
配置を有し、逆に置換基Ｒが置換基Ｂより小さい
場合にはＳの立体配置を有する。従つて、本発明
に用いるアミナールの置換基Ｂとグリニアル試薬
の置換基Ｒを適宜組み合わせることにより任意の
立体配置を有するα−ヒドロキシアルデヒド類を
製造することができる。例えば２−ヒドロキシ−
２−メチルブチルアルデヒドを製造するに際し、
一般式(1)に示す置換基Ｂがメチル基であり立体配
置がＳであるアミナールにエチルグリニアル試薬
を反応させればＲの立体配置を有するものが得ら
れ、一方置換基Ｂがエチル基であるアミナールに
メチルグリニアル試薬を反応させればＳの立体配
置を有するものが得られる（実施例２および５を
参照）。
一般に不斉合成において得られた生成物とは逆
の立体配置を有する化合物を製造しようとする場
合には、不斉源にその対掌体を用いなければなら
ない例が多い。このような場合は不斉源の対掌体
が入手できない場合や非常に高価な場合が多く工
業的に不利である。
の立体配置を有する化合物を製造しようとする場
合には、不斉源にその対掌体を用いなければなら
ない例が多い。このような場合は不斉源の対掌体
が入手できない場合や非常に高価な場合が多く工
業的に不利である。
しかるに本発明においては光学活性アミナール
の置換基Ｂとグリニアル試薬の置換基Ｒとの組み
合わせで任意の立体配置を有する光学活性α−ヒ
ドロキシアルデヒド類を製造でき、またその際用
いるアミナールは参考例に掲げたごとく同一の不
斉源を用いて容易に製造することができる。さら
に不斉源は反応後容易に回収再使用でき、本発明
方法は光学活性α−ヒドロキシアルデヒド類の製
造法として工業的に益するところが大きい。
の置換基Ｂとグリニアル試薬の置換基Ｒとの組み
合わせで任意の立体配置を有する光学活性α−ヒ
ドロキシアルデヒド類を製造でき、またその際用
いるアミナールは参考例に掲げたごとく同一の不
斉源を用いて容易に製造することができる。さら
に不斉源は反応後容易に回収再使用でき、本発明
方法は光学活性α−ヒドロキシアルデヒド類の製
造法として工業的に益するところが大きい。
また本発明の方法でラセミのアミナールを用い
れば、ラセミのα−ヒドロキシアルデヒドが得ら
れるので、本発明はラセミのα−ヒドロキシアル
デヒドの製造法にも適用できる。
れば、ラセミのα−ヒドロキシアルデヒドが得ら
れるので、本発明はラセミのα−ヒドロキシアル
デヒドの製造法にも適用できる。
以下の実施例で発明の具体的な説明をする。
実施例 １
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン258
mgをエーテル５mlに溶解し、−70℃に冷却し、フ
エニルマグネシウムブロミドのエーテル溶液２倍
当量を加え１時間反応させた。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液３mlを加え、室温まで昇温させた。エ
ーテル層を分離し、１規定水酸化ナトリウム水溶
液で洗浄後、２％塩酸11mlを加え０℃で12時間反
応させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗
浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製
し、128mg（76％）の（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２
−フエニルプロピオンアルデヒドを得た。〔α〕
Ｄ＝−255゜（Ｃ＝1.060、ベンゼン）で光学収率
99％であつた。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン258
mgをエーテル５mlに溶解し、−70℃に冷却し、フ
エニルマグネシウムブロミドのエーテル溶液２倍
当量を加え１時間反応させた。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液３mlを加え、室温まで昇温させた。エ
ーテル層を分離し、１規定水酸化ナトリウム水溶
液で洗浄後、２％塩酸11mlを加え０℃で12時間反
応させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗
浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製
し、128mg（76％）の（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２
−フエニルプロピオンアルデヒドを得た。〔α〕
Ｄ＝−255゜（Ｃ＝1.060、ベンゼン）で光学収率
99％であつた。
実施例 ２
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン1.41
ｇをエーテル27mlに溶解し、−70℃に冷却し1.5倍
当量のエチルマグネシウムブロミドのエーテル溶
液を滴下した。−70℃で１時間反応させた後、飽
和塩化アンモニウム水溶液10mlを加え、室温まで
昇温させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で
洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去
し、得られた残留物を20mlのジメチルホルムアミ
ドに溶解した。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン1.41
ｇをエーテル27mlに溶解し、−70℃に冷却し1.5倍
当量のエチルマグネシウムブロミドのエーテル溶
液を滴下した。−70℃で１時間反応させた後、飽
和塩化アンモニウム水溶液10mlを加え、室温まで
昇温させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で
洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去
し、得られた残留物を20mlのジメチルホルムアミ
ドに溶解した。
水素化ナトリウム（55％）0.53ｇを加え60℃で
２時間撹拌後2.09ｇのベンジルブロミドを加え、
１時間反応させた。反応液に水とエーテルを加え
抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄後芒硝で
乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得られた残
留物をアルミナカラムで精製後、２％塩酸60mlと
エーテル60mlを加えて０℃で４時間反応させた。
エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗浄後、芒硝
で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得られた
残留物をシリカゲルプレパラテイブTLCで精製
し、506mg（43％）の（Ｒ）−２−ベンジルオキシ
−２−メチルブチルアルデヒドを得た。
２時間撹拌後2.09ｇのベンジルブロミドを加え、
１時間反応させた。反応液に水とエーテルを加え
抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄後芒硝で
乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得られた残
留物をアルミナカラムで精製後、２％塩酸60mlと
エーテル60mlを加えて０℃で４時間反応させた。
エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗浄後、芒硝
で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得られた
残留物をシリカゲルプレパラテイブTLCで精製
し、506mg（43％）の（Ｒ）−２−ベンジルオキシ
−２−メチルブチルアルデヒドを得た。
〔α〕Ｄ＝＋39゜（Ｃ＝1.027、ベンゼン）で
光学収率78％であつた。光学収率は旋光度既知の
２−メチルブタン−１・２−ジオールに誘導して
決定した。nmrピークはδ（ppm）＝0.9（3H、ト
リプレツト）、1.3（3H、シングレツト）、1.8
（2H、カルテツト）、4.4（2H、シングレツト）、
7.2（5H、シングレツト）、9.5（1H、シングレツ
ト）であつた。
光学収率78％であつた。光学収率は旋光度既知の
２−メチルブタン−１・２−ジオールに誘導して
決定した。nmrピークはδ（ppm）＝0.9（3H、ト
リプレツト）、1.3（3H、シングレツト）、1.8
（2H、カルテツト）、4.4（2H、シングレツト）、
7.2（5H、シングレツト）、9.5（1H、シングレツ
ト）であつた。
実施例 ３
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン1.00
ｇをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、−70℃に
冷却し、2.7倍当量のビニルマグネシウムブロミ
ドのテトラヒドロフラン溶液を加え20時間反応さ
せた。反応温度を徐々に０℃まで昇温させた。飽
和塩化アンモニウム水溶液10mlを加え室温まで昇
温させた。反応溶液をエーテルで抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留
去し得られた残留物を７mlのジメチルホルムアミ
ドに溶解した。水素化ナトリウム（55％）0.38ｇ
を加え60℃で２時間撹拌後、1.49ｇのベンジルブ
ロミドを加え１時間反応させた。反応液に水とエ
ーテルを加え抽出し、エーテル層を飽和食塩水で
洗浄後芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去し
得られた残留物をアルミナカラムで精製後、２％
塩酸40mlとエーテル40mlを加え０℃で12時間反応
させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗浄
後芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得
られた残留物をシリカゲルプロパラテイブTLC
で精製し、367mg（44％）の（Ｒ）−２−ベンジル
オキシ−２−メチル−３−ブテナールを得た。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン1.00
ｇをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、−70℃に
冷却し、2.7倍当量のビニルマグネシウムブロミ
ドのテトラヒドロフラン溶液を加え20時間反応さ
せた。反応温度を徐々に０℃まで昇温させた。飽
和塩化アンモニウム水溶液10mlを加え室温まで昇
温させた。反応溶液をエーテルで抽出し、飽和食
塩水で洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留
去し得られた残留物を７mlのジメチルホルムアミ
ドに溶解した。水素化ナトリウム（55％）0.38ｇ
を加え60℃で２時間撹拌後、1.49ｇのベンジルブ
ロミドを加え１時間反応させた。反応液に水とエ
ーテルを加え抽出し、エーテル層を飽和食塩水で
洗浄後芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去し
得られた残留物をアルミナカラムで精製後、２％
塩酸40mlとエーテル40mlを加え０℃で12時間反応
させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水で洗浄
後芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留去し、得
られた残留物をシリカゲルプロパラテイブTLC
で精製し、367mg（44％）の（Ｒ）−２−ベンジル
オキシ−２−メチル−３−ブテナールを得た。
〔α〕Ｄ＝＋156゜（Ｃ＝0.963、ベンゼン）で
光学収率93％であつた。光学収率は旋光度既知の
２−メチルブタン−１・２−ジオールに誘導して
決定した。nmrピークはδ（ppm）＝1.4（3H、シ
ングレツト）、4.4（2H、シングレツト）、5.1〜
5.7（3H、マルチプレツト）、7.2（5H、シングレ
ツト）、9.8（1H、シングレツト）であつた。
光学収率93％であつた。光学収率は旋光度既知の
２−メチルブタン−１・２−ジオールに誘導して
決定した。nmrピークはδ（ppm）＝1.4（3H、シ
ングレツト）、4.4（2H、シングレツト）、5.1〜
5.7（3H、マルチプレツト）、7.2（5H、シングレ
ツト）、9.8（1H、シングレツト）であつた。
実施例 ４
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用いた他は実施例１と同様に行ない、（Ｒ）−
２−ヒドロキシ−２−フエニルブチルアルデヒド
を得た（収率80％）。〔α〕Ｄ＝−256゜（Ｃ＝
1.147、ベンゼン）で光学収率は100％であつた。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用いた他は実施例１と同様に行ない、（Ｒ）−
２−ヒドロキシ−２−フエニルブチルアルデヒド
を得た（収率80％）。〔α〕Ｄ＝−256゜（Ｃ＝
1.147、ベンゼン）で光学収率は100％であつた。
実施例 ５
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用い、またグリニアル試薬としてメチルマグ
ネシウムアイオダイドを用いた他は実施例２と同
様に行ない、（Ｓ）−２−ベンジルオキシ−２−メ
チルブチルアルデヒドを得た（収率41％）。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用い、またグリニアル試薬としてメチルマグ
ネシウムアイオダイドを用いた他は実施例２と同
様に行ない、（Ｓ）−２−ベンジルオキシ−２−メ
チルブチルアルデヒドを得た（収率41％）。
〔α〕Ｄ＝−39゜（Ｃ＝1.002、ベンゼン）で
光学収率78％であつた。
光学収率78％であつた。
実施例 ６
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−イソブチリル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用いた他は実施例１と同様に行ない、（Ｒ）−
２−ヒドロキシ−２−フエニル−３−メチルブチ
ルアルデヒドを得た（収率75％）。〔α〕Ｄ＝−
308゜（Ｃ＝1.340、ベンゼン）で光学収率は94％
以上であつた。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンに代
えて５−（Ｓ）−２−イソブチリル−３−フエニル
−１・３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタ
ンを用いた他は実施例１と同様に行ない、（Ｒ）−
２−ヒドロキシ−２−フエニル−３−メチルブチ
ルアルデヒドを得た（収率75％）。〔α〕Ｄ＝−
308゜（Ｃ＝1.340、ベンゼン）で光学収率は94％
以上であつた。
実施例 ７
５−（Ｓ）−２−（5′−メチル−5′−ヘキセノイ
ル）−３−フエニル−１・３−ジアザビシクロ
〔３・３・０〕オクタン528mgを10mlのエーテルに
溶解し−70℃に冷却し、1.5倍当量のメチルマグ
ネシウムブロミドのエーテル溶液を滴下した。−
70℃で１時間反応させた後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液５mlを加え室温まで昇温させた。エーテ
ル層を分離し、２％塩酸17mlを加え、０℃で３時
間反応させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水
で洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留
去し、250mg（収率90％）の（Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−２・６−ジメチル−６−ヘプテナールを得
た。光学収率は88％であり、nmrピークはδ
（ppm）＝1.3（3H、シングレツト）、1.7（3H、シ
ングレツト）、1.4〜1.8（4H、マルチプレツト）、
2.0（2H、トリプレツト）、3.3（1H、シングレツ
ト）、4.6（2H、ブロードシングレツト）、9.4
（1H、シングレツト）であつた。
ル）−３−フエニル−１・３−ジアザビシクロ
〔３・３・０〕オクタン528mgを10mlのエーテルに
溶解し−70℃に冷却し、1.5倍当量のメチルマグ
ネシウムブロミドのエーテル溶液を滴下した。−
70℃で１時間反応させた後、飽和塩化アンモニウ
ム水溶液５mlを加え室温まで昇温させた。エーテ
ル層を分離し、２％塩酸17mlを加え、０℃で３時
間反応させた。エーテル層を分離し、飽和食塩水
で洗浄後、芒硝で乾燥した。減圧下エーテルを留
去し、250mg（収率90％）の（Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−２・６−ジメチル−６−ヘプテナールを得
た。光学収率は88％であり、nmrピークはδ
（ppm）＝1.3（3H、シングレツト）、1.7（3H、シ
ングレツト）、1.4〜1.8（4H、マルチプレツト）、
2.0（2H、トリプレツト）、3.3（1H、シングレツ
ト）、4.6（2H、ブロードシングレツト）、9.4
（1H、シングレツト）であつた。
実施例 ８
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン643
mgを15mlのエーテルに溶解し−73℃に冷却し、４
−メチル−４−ペンテニルマグネシウムブロミド
のエーテル溶液1.5倍当量を加えた。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン643
mgを15mlのエーテルに溶解し−73℃に冷却し、４
−メチル−４−ペンテニルマグネシウムブロミド
のエーテル溶液1.5倍当量を加えた。
反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え室
温まで昇温させた。水層を分離し、エーテル層を
０℃に冷却し２％塩酸30mlを加え2.5時間反応さ
せた。エーテル層を分離し、水層をエーテルで抽
出した。得られたエーテル層を混合し、これを飽
和食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥した。
温まで昇温させた。水層を分離し、エーテル層を
０℃に冷却し２％塩酸30mlを加え2.5時間反応さ
せた。エーテル層を分離し、水層をエーテルで抽
出した。得られたエーテル層を混合し、これを飽
和食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥した。
減圧下にエーテルを留去し405（収率93％）mg
の（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２・６−ジメチル−
６−ヘプテナールを得た。光学収率は100％であ
つた。
の（Ｒ）−２−ヒドロキシ−２・６−ジメチル−
６−ヘプテナールを得た。光学収率は100％であ
つた。
実施例 ９
５−（Ｓ）−２−〔３−（２・５−ジメトキシ−
３・４・６−トリメチルフエニル）プロパノイ
ル〕−３−フエニル−１・３−ジアザビシクロ
〔３・３・０〕オクタン505mgをエーテルに溶解
し、−100℃に冷却した。次で約３倍当量のメチル
マグネシウムアイオダイトを加えた後、30分後飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え分液した。
３・４・６−トリメチルフエニル）プロパノイ
ル〕−３−フエニル−１・３−ジアザビシクロ
〔３・３・０〕オクタン505mgをエーテルに溶解
し、−100℃に冷却した。次で約３倍当量のメチル
マグネシウムアイオダイトを加えた後、30分後飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え分液した。
エーテル層に２％塩酸13mlを加え、０℃で２時
間撹拌した。酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥後、溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムで精製し、
181mg（54％）の（Ｓ）−４−（２・５−ジメトキ
シ−３・４・６−トリメチルフエニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルブタナールを得た。
間撹拌した。酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥後、溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムで精製し、
181mg（54％）の（Ｓ）−４−（２・５−ジメトキ
シ−３・４・６−トリメチルフエニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルブタナールを得た。
nmr（CCl4）ピークはδ（ppm）＝1.20（3H、
シングレツト）、1.56〜1.85（2H、マルチプレツ
ト）、2.05（9H、シングレツト）、2.16〜2.80
（2H、マルチプレツト）、3.40（1H、シングレツ
ト）、3.46（3H、シングレツト）、3.51（3H、シ
ングレツト）、9.25（1H、シングレツト） 〔α〕D＋39.6゜（C0.53、ベンゼン） 光学収率は96％であつた。
シングレツト）、1.56〜1.85（2H、マルチプレツ
ト）、2.05（9H、シングレツト）、2.16〜2.80
（2H、マルチプレツト）、3.40（1H、シングレツ
ト）、3.46（3H、シングレツト）、3.51（3H、シ
ングレツト）、9.25（1H、シングレツト） 〔α〕D＋39.6゜（C0.53、ベンゼン） 光学収率は96％であつた。
実施例 10
５−（Ｓ）−２−アセチル−３−フエニル−１・
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン709
mgをエーテルに溶解した後、−100℃に冷却した。
次で約３倍当量の２−（２・５−ジメトキシ−
３・４・６−トリメチルフエニル）エチルマグネ
シウムブロミドを加えた。30分後飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加え分液した。
３−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタン709
mgをエーテルに溶解した後、−100℃に冷却した。
次で約３倍当量の２−（２・５−ジメトキシ−
３・４・６−トリメチルフエニル）エチルマグネ
シウムブロミドを加えた。30分後飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加え分液した。
得られたエーテル層に２％塩酸30mlを加え、０
℃で２時間撹拌した。次で酢酸エチルで抽出し飽
和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルカラムで精製し、451mg
（52％）の（Ｒ）−４−（２・５−ジメトキシ−
３・４・６−トリメチルフエニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルブタナールを得た。
℃で２時間撹拌した。次で酢酸エチルで抽出し飽
和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルカラムで精製し、451mg
（52％）の（Ｒ）−４−（２・５−ジメトキシ−
３・４・６−トリメチルフエニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルブタナールを得た。
〔α〕D−38.0（Ｃ＝0.52、ベンゼン）、光学収
率は93％であつた。
率は93％であつた。
参考例 １
（Ｓ）−２−（アニリノメチル）ピロリジン2.64
ｇとヒドロキシメトキシ酢酸メチル1.89ｇを30ml
のベンゼンに溶解し、共沸で水を除去しながら30
分間加熱還流した。減圧下溶媒を留去し、得られ
た残留物を75mlのテトラヒドロフランに溶解し
た。無水塩化マグネシウム1.57ｇを10分間加熱還
流した後、−70℃に冷却した。メチルマグネシウ
ムブロミドのエーテル溶液1.36倍当量を滴下し１
時間反応させた後、飽和塩化アンモニウム水溶液
10mlを加え室温まで昇温させた。反応液をエーテ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後芒硝で乾燥させ
た。減圧下溶媒を留去し得られた残留物をアルミ
ナカラムで精製して2.499ｇ（72％）の５−（Ｓ）
−２−アセチル−３−フエニル−１・３−ジアザ
ビシクロ〔３・３・０〕オクタンを得た。
ｇとヒドロキシメトキシ酢酸メチル1.89ｇを30ml
のベンゼンに溶解し、共沸で水を除去しながら30
分間加熱還流した。減圧下溶媒を留去し、得られ
た残留物を75mlのテトラヒドロフランに溶解し
た。無水塩化マグネシウム1.57ｇを10分間加熱還
流した後、−70℃に冷却した。メチルマグネシウ
ムブロミドのエーテル溶液1.36倍当量を滴下し１
時間反応させた後、飽和塩化アンモニウム水溶液
10mlを加え室温まで昇温させた。反応液をエーテ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後芒硝で乾燥させ
た。減圧下溶媒を留去し得られた残留物をアルミ
ナカラムで精製して2.499ｇ（72％）の５−（Ｓ）
−２−アセチル−３−フエニル−１・３−ジアザ
ビシクロ〔３・３・０〕オクタンを得た。
参考例 ２
グリニアル試薬としてエチルマグネシウムブロ
ミドを用いた他は参考例１と同様に行ない、５−
（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル−１・３
−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンを得た
（収率28％）。
ミドを用いた他は参考例１と同様に行ない、５−
（Ｓ）−２−プロピオニル−３−フエニル−１・３
−ジアザビシクロ〔３・３・０〕オクタンを得た
（収率28％）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式(1) （式中、Ａはアリール基、Ｂはアルキル基、アル
ケニル基、アルキニール基、アラルキル基もしく
はこれらの有機部分に官能基を含むものを表わ
す） で示される光学活性の化合物に一般式(2) Ｒ−Mg−Ｘ (2) （式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニール基、アラルキル基、アリール基もしくはこ
れらの有機部分に官能基を含むものを、Ｘはハロ
ゲンを表わす） で示され、かつＲが上記一般式(1)におけるＢより
も大きいグリニヤル試薬もしくはＢよりも小さい
グリニヤル試薬を反応させ、次で加水分解するこ
とを特徴とする一般式(3) （式中、ＢおよびＲは上記と同じ意味を表わす） で示され、ＲがＢよりも大きい場合は一般式(1)の
化合物とは逆の、ＲがＢよりも小さい場合は一般
式(1)の化合物と同一の絶対立体配置を有する光学
活性α−ヒドロキシアルデヒド類の製造法。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7036779A JPS55162729A (en) | 1979-06-04 | 1979-06-04 | Alpha-hydroxyaldehyde and its preparation |
| US06/089,356 US4337346A (en) | 1978-11-02 | 1979-10-30 | α-Hydroxyaldehyde and a process for preparing the same |
| DE8181108507T DE2966001D1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic diazabicyclooctane derivatives |
| EP81108507A EP0048501B1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic diazabicyclooctane derivatives |
| DE7979302419T DE2965322D1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic aminal derivatives, process for preparing same and for converting same to alpha-hydroxyaldehydes |
| DE8181108506T DE2967419D1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic alpha-hydroxyaldehydes and benzyl derivatives thereof |
| EP81108506A EP0050351B1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic alpha-hydroxyaldehydes and benzyl derivatives thereof |
| EP79302419A EP0011417B1 (en) | 1978-11-02 | 1979-11-02 | Optically active or racemic aminal derivatives, process for preparing same and for converting same to alpha-hydroxyaldehydes |
| US06/257,587 US4383122A (en) | 1978-11-02 | 1981-04-27 | Process for preparing α-hydroxyaldehyde |
| US06/457,666 US4584387A (en) | 1978-11-02 | 1983-01-13 | Acyl and ester derivatives of 1,3-diazabicyclo[3,3,0]octane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7036779A JPS55162729A (en) | 1979-06-04 | 1979-06-04 | Alpha-hydroxyaldehyde and its preparation |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23053585A Division JPS6187636A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | α‐置換アルデヒド類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55162729A JPS55162729A (en) | 1980-12-18 |
| JPS6148488B2 true JPS6148488B2 (ja) | 1986-10-24 |
Family
ID=13429390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7036779A Granted JPS55162729A (en) | 1978-11-02 | 1979-06-04 | Alpha-hydroxyaldehyde and its preparation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55162729A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193393A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Hitachi Maxell Ltd | テ−プカ−トリツジ |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2005095317A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-02-21 | 株式会社クラレ | ハロゲン化不飽和カルボニル化合物の製造方法 |
-
1979
- 1979-06-04 JP JP7036779A patent/JPS55162729A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193393A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Hitachi Maxell Ltd | テ−プカ−トリツジ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55162729A (en) | 1980-12-18 |
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