JPS6153428B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6153428B2 JPS6153428B2 JP57178763A JP17876382A JPS6153428B2 JP S6153428 B2 JPS6153428 B2 JP S6153428B2 JP 57178763 A JP57178763 A JP 57178763A JP 17876382 A JP17876382 A JP 17876382A JP S6153428 B2 JPS6153428 B2 JP S6153428B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- rod
- rods
- electrode holding
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 24
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は外熱形のプラズマ化学気相生成装置に
使用する電極保持装置に関するものである。
使用する電極保持装置に関するものである。
従来太陽電池用のアモルフアスシリコン膜を生
成する場合、生成効率が良いために外熱形のプラ
ズマ化学気相生成装置が使用されている。しかし
この装置は反応管および内容物が化学気相生成に
最適な温度に保持されているので、プラズマの発
生領域の周辺でも気相成長膜が生成され易く、こ
のために電極周辺部と電極以外の部分との間で異
常放電が起り、部分的にしか気相成長膜が生成し
ない現象がおこることがある。
成する場合、生成効率が良いために外熱形のプラ
ズマ化学気相生成装置が使用されている。しかし
この装置は反応管および内容物が化学気相生成に
最適な温度に保持されているので、プラズマの発
生領域の周辺でも気相成長膜が生成され易く、こ
のために電極周辺部と電極以外の部分との間で異
常放電が起り、部分的にしか気相成長膜が生成し
ない現象がおこることがある。
一般に太陽電池用のアモルフアスシリコン膜は
Ｐ層、Ｉ層、Ｎ層の３種類の膜が必要であるが、
前記のような部分成長が起ると完全な３層構造の
膜が出来ないという問題がおこる。
Ｐ層、Ｉ層、Ｎ層の３種類の膜が必要であるが、
前記のような部分成長が起ると完全な３層構造の
膜が出来ないという問題がおこる。
このため、上記の問題解決のためにとられた対
策の一つとして、電極の保持装置を第１図および
第２図（これは第１図のＡ−A′断面図である）
もしくは第３図および第４図ＡおよびＢ（これら
は第３図のＢ−B′，Ｃ−C′の断面図である）に
示すようなものがある。
策の一つとして、電極の保持装置を第１図および
第２図（これは第１図のＡ−A′断面図である）
もしくは第３図および第４図ＡおよびＢ（これら
は第３図のＢ−B′，Ｃ−C′の断面図である）に
示すようなものがある。
第１図および第２図に示したものは両端に石英
などの耐熱絶縁物の連結板１をおき、その間を連
結板１に固着した２本の石英製などの連結棒２を
設け、この連結棒２に一定間隔で刻まれた溝に電
極３を挿入して保持し（第２図の状態）、図示し
てないリード線で電極３を１枚おきに接続して１
対の電極群を構成する。この場合の連結棒２には
各電極の間に連結棒２の外周に間隔を設けて被う
石英などの短絡防止管４を設けたものである。し
かしこの短絡防止管４により連結棒２の表面へは
膜生成が行なわれず短絡は防げるものの、短絡防
止管４の外周に生成した膜を仲介としても放電が
行なわれるために対向する電極間で一様なプラズ
マが発生しないという問題が起つた。
などの耐熱絶縁物の連結板１をおき、その間を連
結板１に固着した２本の石英製などの連結棒２を
設け、この連結棒２に一定間隔で刻まれた溝に電
極３を挿入して保持し（第２図の状態）、図示し
てないリード線で電極３を１枚おきに接続して１
対の電極群を構成する。この場合の連結棒２には
各電極の間に連結棒２の外周に間隔を設けて被う
石英などの短絡防止管４を設けたものである。し
かしこの短絡防止管４により連結棒２の表面へは
膜生成が行なわれず短絡は防げるものの、短絡防
止管４の外周に生成した膜を仲介としても放電が
行なわれるために対向する電極間で一様なプラズ
マが発生しないという問題が起つた。
第３図および第４図は従来の他の装置で、第１
図の場合と同様に両端に石英などの耐熱絶縁物の
連結板１をおき、その連結板１の外周近傍でほぼ
３等分した位置に３本の導体棒５および６を両端
の連結板１の間に設ける。導体棒５および６は上
側に１本と下側に２本設けてあり、下側の２本は
リード線で接続して同電位としてある。これらの
導体棒のうち下側の２本の導体棒５には前記第１
図および第２図のように電極８を挿入する溝が一
定間隔で刻まれており、この溝に上側の導体棒６
に接触しないような切欠を有する電極８を挿入し
て保持する。上側の１本の導体棒６には下側の２
本の導体棒５に接触しない切欠を設けかつ上側に
導体棒６を貫通する孔を設けた電極７を設けて前
記一定間隔の電極８の中間に吊下げるようにして
配置したものである。このような電極構造では前
記のような短絡は起りにくいが、一つの電極群と
他の電極群の導体棒との間、すなわち７と５およ
び８と６との間での放電によつて一様なプラズマ
発生が困難であるうえ、上側から吊るした電極７
への基板の着脱がむずかしいという問題がある。
図の場合と同様に両端に石英などの耐熱絶縁物の
連結板１をおき、その連結板１の外周近傍でほぼ
３等分した位置に３本の導体棒５および６を両端
の連結板１の間に設ける。導体棒５および６は上
側に１本と下側に２本設けてあり、下側の２本は
リード線で接続して同電位としてある。これらの
導体棒のうち下側の２本の導体棒５には前記第１
図および第２図のように電極８を挿入する溝が一
定間隔で刻まれており、この溝に上側の導体棒６
に接触しないような切欠を有する電極８を挿入し
て保持する。上側の１本の導体棒６には下側の２
本の導体棒５に接触しない切欠を設けかつ上側に
導体棒６を貫通する孔を設けた電極７を設けて前
記一定間隔の電極８の中間に吊下げるようにして
配置したものである。このような電極構造では前
記のような短絡は起りにくいが、一つの電極群と
他の電極群の導体棒との間、すなわち７と５およ
び８と６との間での放電によつて一様なプラズマ
発生が困難であるうえ、上側から吊るした電極７
への基板の着脱がむずかしいという問題がある。
本発明はこのような問題点を解決するためにな
されたもので、各電極への基板の着脱が容易であ
り、電極の対向面以外での放電が起りにくく、か
つ電極保持部分での短絡の起りにくい電極保持装
置を提供するものである。以下図面により詳細に
説明する。
されたもので、各電極への基板の着脱が容易であ
り、電極の対向面以外での放電が起りにくく、か
つ電極保持部分での短絡の起りにくい電極保持装
置を提供するものである。以下図面により詳細に
説明する。
第５図は本発明の電極保持装置に電極を挿入し
た状態の上面図である。第６図は電極面に垂直方
向から見た側面図である。図において９は連結板
で、本実施例では半円弧状の板であるが、半円形
の板でも良い。１０および１１は連結棒、１２お
よび１３は電極保持棒、１４は短絡防止管であ
る。１５は導体棒、１６は接続棒、１７はフレー
ク防止管、１８は電極である。
た状態の上面図である。第６図は電極面に垂直方
向から見た側面図である。図において９は連結板
で、本実施例では半円弧状の板であるが、半円形
の板でも良い。１０および１１は連結棒、１２お
よび１３は電極保持棒、１４は短絡防止管であ
る。１５は導体棒、１６は接続棒、１７はフレー
ク防止管、１８は電極である。
本実施例では、互に平行な平面上にある円弧状
の耐熱絶縁物の連結板９上のほぼ等間隔の位置か
ら平行に配置され、かつ両端をそれぞれの連結板
９に固着した４本の耐熱絶縁物の連結棒１０およ
び１１と、円弧状の連結板９の円弧の両端部に保
持され、連結棒１０に平行に設けた２本の導体棒
１５とよりなる。前記４本の連結棒１０および１
１は１本おきに組とした２組の連結棒を群として
構成させ、それぞれの群の連結棒１０または１１
には両端の連結板９に平行な面上に耐熱絶縁物の
電極保持棒１２または１３を円弧の中心に向う方
向に固着してある。この電極保持棒１２または１
３は連結棒１０または１１と反対側の先端に電極
１８を挿入する切欠が設けてある。さらに１対の
電極保持棒１２または１３を含む面すなわち保持
された電極１８が等間隔に配置される位置に連結
棒１０または１１に交互に固着されている。この
電極保持棒１２または１３の長さは保持される電
極１８の隣接した電極との間隔より長いことが必
要である。また前記連結棒１０または１１の両端
部の連結板９に固着する近傍には連結棒１０また
は１１の外周を間隔を設けて被う耐熱絶縁物の短
絡防止管１４がそれぞれ設けられている。この短
絡防止管１４の内面には連結棒１０または１１の
外周との間の間隔を保持する突起が複数個所設け
られている。前記２本の導体棒１５には前記電極
保持棒１２または１３を含む面上に一つおきに交
互に接続棒１６が前記円弧の中心に向う方向に、
かつ挿入された電極１８に接触するように配設し
てある。
の耐熱絶縁物の連結板９上のほぼ等間隔の位置か
ら平行に配置され、かつ両端をそれぞれの連結板
９に固着した４本の耐熱絶縁物の連結棒１０およ
び１１と、円弧状の連結板９の円弧の両端部に保
持され、連結棒１０に平行に設けた２本の導体棒
１５とよりなる。前記４本の連結棒１０および１
１は１本おきに組とした２組の連結棒を群として
構成させ、それぞれの群の連結棒１０または１１
には両端の連結板９に平行な面上に耐熱絶縁物の
電極保持棒１２または１３を円弧の中心に向う方
向に固着してある。この電極保持棒１２または１
３は連結棒１０または１１と反対側の先端に電極
１８を挿入する切欠が設けてある。さらに１対の
電極保持棒１２または１３を含む面すなわち保持
された電極１８が等間隔に配置される位置に連結
棒１０または１１に交互に固着されている。この
電極保持棒１２または１３の長さは保持される電
極１８の隣接した電極との間隔より長いことが必
要である。また前記連結棒１０または１１の両端
部の連結板９に固着する近傍には連結棒１０また
は１１の外周を間隔を設けて被う耐熱絶縁物の短
絡防止管１４がそれぞれ設けられている。この短
絡防止管１４の内面には連結棒１０または１１の
外周との間の間隔を保持する突起が複数個所設け
られている。前記２本の導体棒１５には前記電極
保持棒１２または１３を含む面上に一つおきに交
互に接続棒１６が前記円弧の中心に向う方向に、
かつ挿入された電極１８に接触するように配設し
てある。
なお他の実施例として上記実施例のほかに導体
棒１５に接続棒１６を配設してある中間の部分に
耐熱絶縁物のフレーク防止管１７を装着したもの
である。
棒１５に接続棒１６を配設してある中間の部分に
耐熱絶縁物のフレーク防止管１７を装着したもの
である。
つぎに本発明の電極保持装置の作用について説
明する。各電極１８にはそれぞれ対向する面に図
示しない方法で被処理基板を装着し、この電極１
８を一対の電極保持棒１２または１３の先端の切
欠部に挿入し、接続棒１６で導体棒１５に接続す
る。このようにして各電極１８を装着した電極保
持装置をすでに所定温度に保持してある外熱形の
プラズマ化学気相生成装置の反応炉に挿入する。
電極保持装置全体が所定温度に保持された状態で
反応ガスを反応炉内に導入し、一定圧力の減圧状
態のもとで高周波電力を導体棒１５、接続棒１６
を通して各群の電極１８に印加する。
明する。各電極１８にはそれぞれ対向する面に図
示しない方法で被処理基板を装着し、この電極１
８を一対の電極保持棒１２または１３の先端の切
欠部に挿入し、接続棒１６で導体棒１５に接続す
る。このようにして各電極１８を装着した電極保
持装置をすでに所定温度に保持してある外熱形の
プラズマ化学気相生成装置の反応炉に挿入する。
電極保持装置全体が所定温度に保持された状態で
反応ガスを反応炉内に導入し、一定圧力の減圧状
態のもとで高周波電力を導体棒１５、接続棒１６
を通して各群の電極１８に印加する。
このようにすると各電極１８の間でプラズマが
発生し、化学気相生成が行なわれる。本実施例の
場合、各電極１８はそれぞれの電極間隔より長い
電極保持棒１２または１３で保持されているの
で、たとえ電極保持棒１２または１３や連結棒１
０または１１に気相生成膜が成長していたとして
も電極相互間の間隔が一番短いために前記のよう
な電極と電極以外の部分との間での異常放電は起
りにくい。
発生し、化学気相生成が行なわれる。本実施例の
場合、各電極１８はそれぞれの電極間隔より長い
電極保持棒１２または１３で保持されているの
で、たとえ電極保持棒１２または１３や連結棒１
０または１１に気相生成膜が成長していたとして
も電極相互間の間隔が一番短いために前記のよう
な電極と電極以外の部分との間での異常放電は起
りにくい。
本実施例では電極群の両端の電極１８と連結板
９との距離は電極間隔にくらべて充分長くとつて
あり、さらに各連結棒１０および１１に設けられ
た短絡防止管１４によつてたとえこれら連結板
９、連結棒１０および１１、短絡防止管１４に気
相成長膜が出来たとしても短絡防止管１４と連結
棒１０および１１との間には気相成長膜は生成し
ないので、互に対向する電極１８の間で短絡する
ことはない。
９との距離は電極間隔にくらべて充分長くとつて
あり、さらに各連結棒１０および１１に設けられ
た短絡防止管１４によつてたとえこれら連結板
９、連結棒１０および１１、短絡防止管１４に気
相成長膜が出来たとしても短絡防止管１４と連結
棒１０および１１との間には気相成長膜は生成し
ないので、互に対向する電極１８の間で短絡する
ことはない。
また他の実施例では接続棒１６相互間の導体棒
１５にかぶせたフレーク防止管１７によつてフレ
ークが発生しにくいとともに、発生したフレーク
はフレーク防止管１７の交換により容易に取り除
くことが出来る。
１５にかぶせたフレーク防止管１７によつてフレ
ークが発生しにくいとともに、発生したフレーク
はフレーク防止管１７の交換により容易に取り除
くことが出来る。
以上のように本発明の電極保持装置は安定した
プラズマを発生させて気相生成膜の品質を確保す
るとともに、電極の着脱も極めて容易な構造であ
る。さらに短絡防止管１４やフレーク防止管１７
のために電極保持装置全体を洗浄する回数を減ら
すことが出来るなど、実用効果は極めて大きい。
プラズマを発生させて気相生成膜の品質を確保す
るとともに、電極の着脱も極めて容易な構造であ
る。さらに短絡防止管１４やフレーク防止管１７
のために電極保持装置全体を洗浄する回数を減ら
すことが出来るなど、実用効果は極めて大きい。
第１図は従来の電極保持装置の平面図、第２図
は第１図のＡ−A′面の断面図、第３図は従来の
他の電極保持装置の平面図、第４図Ａは第３図の
Ｂ−B′面の断面図、第４図Ｂは第３図のＣ−
C′面の断面図、第５図は本発明の電極保持装置
の平面図、第６図は本発明の電極保持装置の電極
面に垂直方向から見た側面図である。 図において、９は連結板、１０および１１は連
結棒、１２および１３は電極保持棒、１４は短絡
防止管、１５は導体棒、１６は接続棒、１７はフ
レーク防止管である。
は第１図のＡ−A′面の断面図、第３図は従来の
他の電極保持装置の平面図、第４図Ａは第３図の
Ｂ−B′面の断面図、第４図Ｂは第３図のＣ−
C′面の断面図、第５図は本発明の電極保持装置
の平面図、第６図は本発明の電極保持装置の電極
面に垂直方向から見た側面図である。 図において、９は連結板、１０および１１は連
結棒、１２および１３は電極保持棒、１４は短絡
防止管、１５は導体棒、１６は接続棒、１７はフ
レーク防止管である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保持
装置において、２枚の連結板と、この連結板の間
に両端をそれぞれの連結板に固着した２組の連結
棒と、前記連結板の間に両端をそれぞれの連結板
で保持した２本の導体棒とよりなり、前記連結棒
には各組ごとに一定間隔をへだてて電極を保持し
かつ電極間隔より長い電極保持棒と両端の連結板
と電極保持棒との間に連結棒の外周を間隔をへだ
てて被う短絡防止管を設け、前記導体棒には一枚
おきの電極に接続する接続棒を設けたことを特徴
とする外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保
持装置。 ２ 外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保持
装置において、２枚の連結板と、この連結板の間
に両端をそれぞれの連結板に固着した２組の連結
棒と、前記連結板の間に両端をそれぞれの連結板
で保持した２本の導体棒とよりなり、前記連結棒
には各組ごとに一定間隔をへだてて電極を保持し
かつ電極間隔より長い電極保持棒と両端の連結板
と電極保持棒との間に連結棒の外周を間隔をへだ
てて被う短絡防止管を設け、前記導体棒には一枚
おきの電極に接続する接続棒とこれらの接続棒の
間の導体棒の外周を被うフレーク防止管とを設け
たことを特徴とする外熱形プラズマ化学気相生成
装置の電極保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57178763A JPS5969141A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57178763A JPS5969141A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969141A JPS5969141A (ja) | 1984-04-19 |
| JPS6153428B2 true JPS6153428B2 (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=16054177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57178763A Granted JPS5969141A (ja) | 1982-10-12 | 1982-10-12 | 外熱形プラズマ化学気相生成装置の電極保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5969141A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227928U (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-20 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6299476A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-08 | Agency Of Ind Science & Technol | プラズマｃｖｄ装置の放電電極 |
-
1982
- 1982-10-12 JP JP57178763A patent/JPS5969141A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6227928U (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5969141A (ja) | 1984-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS55124235A (en) | Plasma generation method | |
| EP0955665B1 (en) | Plasma chemical vapor deposition apparatus | |
| CN214753673U (zh) | 托盘以及载片装置 | |
| JPS6153428B2 (ja) | ||
| AU2002232197B2 (en) | Method of forming silicon thin film and silicon thin film solar cell | |
| KR20110018996A (ko) | 플라즈마 발생 장치 | |
| EP0949352B1 (en) | Plasma CVD apparatus | |
| US12374530B2 (en) | Semiconductor processing apparatus for generating plasma | |
| JPH11340150A (ja) | プラズマ化学蒸着装置 | |
| JP3868217B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH03501138A (ja) | プラズマで高めた化学蒸着ウエーハ保持固定具 | |
| KR102207435B1 (ko) | 화학 기상 증착 반응기 내의 필라멘트들을 안정화시키기 위한 방법들 및 시스템들 | |
| JP4238643B2 (ja) | 薄膜形成装置の電極支持構造 | |
| JPH0250419A (ja) | プラズマｃｖｄ成膜装置 | |
| JPS5946022A (ja) | グロ−放電によるアモルフアスシリコン膜生成用ホツトウオ−ル成長装置の電極装置 | |
| JPS639117A (ja) | 半導体薄膜形成装置 | |
| JPS58204526A (ja) | 化学気相生成装置のプラズマ発生装置 | |
| CN221304608U (zh) | 一种石墨舟片和石墨舟 | |
| KR102442458B1 (ko) | 복수 전극 전기 인가 장치 | |
| JP2003229368A (ja) | 電流導入端子及びこれを有する真空処理装置 | |
| CN117660936B (zh) | 一种双面镀膜管式pecvd石墨舟结构 | |
| CN113130359B (zh) | 托盘以及载片装置 | |
| JPS5843508A (ja) | 量産型成膜装置 | |
| JPS59161828A (ja) | 反応装置 | |
| JPS6299476A (ja) | プラズマｃｖｄ装置の放電電極 |