JPS6161176B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気デイスクに対し表面潤滑剤を適量
塗布せんとする製造方法に関するものである。

最近、電子計算機の利用が質、量ともに進展し
ているため、外部記憶装置に対する記憶容量増加
の要求も日に日に強まつている。これ等の要求に
対応するため、磁気デイスク装置においては、停
止時に磁気ヘツドが磁気記録媒体塗膜面に接触し
運転時磁気デイスクの回転（数千rpm）による風
圧で浮上するいわゆるコンタクトスタートストツ
プ形（略称CSS形）が普及して来た。

このCSS形においては、最近では浮上量が0.4
μｍを下廻る様になつて来ているため、磁気ヘツ
ドと磁気記録媒体との接触による損傷を保護する
ため、表面潤滑剤を塗布している。

この表面潤滑剤は一度塗布した場合、そのデイ
スク装置の寿命丈機能を発揮せねばならぬので、
現在はフツ素系の潤滑剤が主体となつているが、
その適量塗布は非常に困難であつて、一旦過剰に
塗布した後過剰分を除去するのが現在の標準的方
法である。この除去方法として、普通は拭き取り
除去しているが、この方法では時間がかゝり、全
面を均一に拭く事が難かしく、又拭き取りの際拭
き取り紙の一部が異物として磁気デイスク表面に
付着して障害を生ずる恐れもある。

本発明は前記の如き欠点を改善せんとするもの
で、この目的は、磁気デイスクの磁性塗膜上に充
分表面潤滑剤を塗布した後、該表面潤滑剤の過剰
分を除去するに当つて、前記表面潤滑剤に対する
溶剤をスピンコート法を用いて前記表面潤滑剤の
表面に滴下することにより、前記表面潤滑剤の過
剰分を除去する本方式により達成できる。

以下図面を参照して、本発明を詳細に説明す
る。

第１図は本発明の実施例を示す図である。

磁気デイスクは表面に磁気記録媒体の塗膜を形
成した後、表面潤滑剤を充分塗布した状態にあ
る。この表面潤滑剤はフツ素系の潤滑剤が主体
で、本実施例においてはクライトツクス
（KRX）を用いている。クライトツクスは溶剤
（本実施例ではフロリナート即ちFC77）を除去す
るため一旦炉に入れて加熱した後、第１図に示す
如く、クライトツクスの過剰分を除去するため、
表面潤滑剤を塗布してある磁気デイスク表面１を
スピンドル５により300〜1000rpmに回転させ、
磁気デイスクの内周部にクライトツクスの溶剤と
してイソプロピルアルコール又はフレオン系溶剤
のフレオン又はフロリナート（FC77）を表面潤
滑剤の溶剤滴下装置２より滴下し、表面潤滑剤塗
膜の上にスピンコート法により塗布する。この表
面潤滑剤塗膜上に塗布した溶剤３によりクライト
ツクスの過剰分が溶解して、遠心力により４の如
く除去される。

本実施例においては、イソプロピルアルコール
の場合10〜15c.c.程度、又フロリナートの場合５c.c.
程度で好結果を得た。

以上述べた如く、本発明の方式によれば、従来
の拭き取り方式に比し、過剰な表面潤滑剤の除去
を、１ 作業時間の上で３〜10分から数秒に短縮
し、２ 磁気デイスク表面をムラなく均一に過剰
剤を除去し、３ 磁気デイスク表面に拭き取り紙
の場合と違つて異物をつける恐れがなく、容易に
迅速に且つ経済的に作業出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す図である。 図中、１は表面潤滑剤を塗布してある磁気デイ
スク表面、２は表面潤滑剤の溶剤滴下装置、３は
表面潤滑剤塗膜上に塗布された溶剤、４は溶剤に
溶かされて飛散する表面潤滑剤過剰分、５は磁気
デイスクを回転させるスピンドルである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 磁気デイスクの磁性塗膜上に充分表面潤滑剤
   を塗布した後、該表面潤滑剤の過剰分を除去する
   に当つて、前記表面潤滑剤に対する溶剤をスピン
   コート法を用いて前記表面潤滑剤の表面に滴下す
   ることにより、前記表面潤滑剤の過剰分を除去す
   ることを特徴とする磁気デイスク円板の製造方
   法。