JPS6210514B2 - - Google Patents
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- JPS6210514B2 JPS6210514B2 JP14848679A JP14848679A JPS6210514B2 JP S6210514 B2 JPS6210514 B2 JP S6210514B2 JP 14848679 A JP14848679 A JP 14848679A JP 14848679 A JP14848679 A JP 14848679A JP S6210514 B2 JPS6210514 B2 JP S6210514B2
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Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セフアロスポリン化合物の製造方法
に関するものである。さらに詳しく述べると、酸
安定性を有し、又広範囲の微生物(グラム陽性、
グラム陰性病原体を含む)に対して強力な殺菌作
用を有し、優れた抗生物質として知られている 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、スルホン酸メチル基である) で示される化合物、又はその医薬上許容しうる塩
を、極めて安全に効率良く製造する方法を提供す
るものである。
に関するものである。さらに詳しく述べると、酸
安定性を有し、又広範囲の微生物(グラム陽性、
グラム陰性病原体を含む)に対して強力な殺菌作
用を有し、優れた抗生物質として知られている 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、スルホン酸メチル基である) で示される化合物、又はその医薬上許容しうる塩
を、極めて安全に効率良く製造する方法を提供す
るものである。
これまで、一般式()で示される化合物は、
7−アミノセフアロスポラン酸を原料として2工
程で製造されていた。本発明の目的化合物()
を得る方法として、例えば7−アミノセフアロス
ポラン酸とマンデル酸から一旦7−マンデルアミ
ドセフアロスポラン酸を得た(特公昭52−31879
号公報)後、例えば1−メチル−テトラゾール−
5−チオール類を反応させる(特開昭49−117487
号公報)ことによつて目的の一般式()の化合
物を得るか、7−アミノセフアロスポラン酸と、
例えば1−メチル−テトラゾール−5−チオール
類を反応させて、7−アミノ−3−(1−メチル
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸を合成(特公昭49−
45880号公報)した後、マンデル酸を反応させて
目的の一般式()の化合物を得る(特公昭49−
45880号公報)方法等がある。
7−アミノセフアロスポラン酸を原料として2工
程で製造されていた。本発明の目的化合物()
を得る方法として、例えば7−アミノセフアロス
ポラン酸とマンデル酸から一旦7−マンデルアミ
ドセフアロスポラン酸を得た(特公昭52−31879
号公報)後、例えば1−メチル−テトラゾール−
5−チオール類を反応させる(特開昭49−117487
号公報)ことによつて目的の一般式()の化合
物を得るか、7−アミノセフアロスポラン酸と、
例えば1−メチル−テトラゾール−5−チオール
類を反応させて、7−アミノ−3−(1−メチル
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸を合成(特公昭49−
45880号公報)した後、マンデル酸を反応させて
目的の一般式()の化合物を得る(特公昭49−
45880号公報)方法等がある。
これらの方法は、全く独立した二つの反応の組
合わせである。すなわち、7−アミノセフアロス
ポラン酸の7位アミノ基へのアシル化反応と、あ
と一つは3位アセトキシメチル基におけるアセト
キシ基と、テトラゾールチオ基の置換反応であ
る。この二つの反応は反応条件が異り、仮に連続
して反応を行う場合でも条件の変更による反応の
中断は避けられない。又PH6.5で60℃というセフ
アロスポリン化合物の安定性に関して過酷な条件
下で前記した2段反応の前工程に3〜6時間、後
工程に4〜8時間もさらすことになる。反応収率
の低下は経済性の観点から大きな問題である。又
連続反応した目的物を精製する場合、未反応原料
化合物と分解により生じた化合物等の夾雑物の影
響が無視できず、結果的に製品の純度に問題を残
すことが考えられる。更に従来法で通常7位アシ
ル化反応に用いられる酸クロリド法、混酸無水物
法、DCC縮合法での7位アシル化反応はそれら
のアシル化剤が本来有している湿気に対する分
解、人体の皮膚刺激性等、作業性、安全面で著し
い欠点を有している。
合わせである。すなわち、7−アミノセフアロス
ポラン酸の7位アミノ基へのアシル化反応と、あ
と一つは3位アセトキシメチル基におけるアセト
キシ基と、テトラゾールチオ基の置換反応であ
る。この二つの反応は反応条件が異り、仮に連続
して反応を行う場合でも条件の変更による反応の
中断は避けられない。又PH6.5で60℃というセフ
アロスポリン化合物の安定性に関して過酷な条件
下で前記した2段反応の前工程に3〜6時間、後
工程に4〜8時間もさらすことになる。反応収率
の低下は経済性の観点から大きな問題である。又
連続反応した目的物を精製する場合、未反応原料
化合物と分解により生じた化合物等の夾雑物の影
響が無視できず、結果的に製品の純度に問題を残
すことが考えられる。更に従来法で通常7位アシ
ル化反応に用いられる酸クロリド法、混酸無水物
法、DCC縮合法での7位アシル化反応はそれら
のアシル化剤が本来有している湿気に対する分
解、人体の皮膚刺激性等、作業性、安全面で著し
い欠点を有している。
本発明者らは、これら従来法のもつ欠点を克服
し安全かつ効率良く、一般式()で示される化
合物又はその医薬上許容しうる塩を製造する方法
について鋭意検討を重ねた結果、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される活性エステルを、7−アミノセフアロ
スポラン酸誘導体、又はその塩と反応させること
により目的とする一般式()を容易にかつ安全
に製造できる方法を発明するに至つた。この方法
は、一般式()で示される目的化合物の7位と
3位の置換基を、単一の条件下で同時にかつ効率
良く導入する極めて優れた方法である。
し安全かつ効率良く、一般式()で示される化
合物又はその医薬上許容しうる塩を製造する方法
について鋭意検討を重ねた結果、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される活性エステルを、7−アミノセフアロ
スポラン酸誘導体、又はその塩と反応させること
により目的とする一般式()を容易にかつ安全
に製造できる方法を発明するに至つた。この方法
は、一般式()で示される目的化合物の7位と
3位の置換基を、単一の条件下で同時にかつ効率
良く導入する極めて優れた方法である。
すなわち本発明は
一般式()
(式中のR1は、ハロゲン、アジド基、アセトキシ
基又はベンズイミダゾールチオ基である)で示さ
れる7−アミノセフアロスポラン酸誘導体、又は
その塩と、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される化合物を反応させることにより、 一般式() (式中のR2は、前記と同じである)で示されるセ
フアロスポリン化合物、又はその医薬上許容しう
る塩の製造方法を提供するものである。
基又はベンズイミダゾールチオ基である)で示さ
れる7−アミノセフアロスポラン酸誘導体、又は
その塩と、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される化合物を反応させることにより、 一般式() (式中のR2は、前記と同じである)で示されるセ
フアロスポリン化合物、又はその医薬上許容しう
る塩の製造方法を提供するものである。
更に詳しく述べると、一般式()で示される
R1のハロゲン、アジド基、アセトキシ基、又は
ベンズイミダゾールチオ基の中で効率等で特に好
ましいのは、アセトキシ基とベンズイミダゾール
チオ基である。
R1のハロゲン、アジド基、アセトキシ基、又は
ベンズイミダゾールチオ基の中で効率等で特に好
ましいのは、アセトキシ基とベンズイミダゾール
チオ基である。
一般式()で示される文献上未知の新規化合
物は単なるアシル化剤ではない。単一化合物でセ
フアロスポラン酸の7位アシル化反応と3位置換
反応の両反応基を有し、かつ極めて高い活性を有
する為効率良く反応を進行させ、目的とする化合
物である一般式()を高収率でかつ安全に取得
できるという大きな利点を有している。
物は単なるアシル化剤ではない。単一化合物でセ
フアロスポラン酸の7位アシル化反応と3位置換
反応の両反応基を有し、かつ極めて高い活性を有
する為効率良く反応を進行させ、目的とする化合
物である一般式()を高収率でかつ安全に取得
できるという大きな利点を有している。
又一般式()で示される新規化合物の反応性
は、従来最もアシル化反応性が高い方法と言われ
ている酸クロリド法や混酸無水物法の反応性にほ
ぼ等しい。従来法での欠点、つまり厳しく温度コ
ントロールをしないと副反応が起き効率が低下す
ることが知られているが、一般式()では通常
容易に実施できる温度範囲、例えば室温から80℃
までの範囲において重合反応、分解反応等を含む
何らの副反応も生じない。又従来から知られてい
る活性チオエステル法、例えばカルボン酸のフエ
ニルチオエステル法があるが、この方法では反応
条件が強アリカリの条件下、高温、数時間という
過酷な条件であり、実際上セフアロスポリン化合
物には適用できない。又一方、反応を緩和な条件
で行うと、アシル化反応は進行しない。一般式
()は一種のチオエステルであるが、緩和な条
件下で最も反応性の高い反応試薬であるという事
実は全く従来予想し得なかつた正に驚くべきこと
である。
は、従来最もアシル化反応性が高い方法と言われ
ている酸クロリド法や混酸無水物法の反応性にほ
ぼ等しい。従来法での欠点、つまり厳しく温度コ
ントロールをしないと副反応が起き効率が低下す
ることが知られているが、一般式()では通常
容易に実施できる温度範囲、例えば室温から80℃
までの範囲において重合反応、分解反応等を含む
何らの副反応も生じない。又従来から知られてい
る活性チオエステル法、例えばカルボン酸のフエ
ニルチオエステル法があるが、この方法では反応
条件が強アリカリの条件下、高温、数時間という
過酷な条件であり、実際上セフアロスポリン化合
物には適用できない。又一方、反応を緩和な条件
で行うと、アシル化反応は進行しない。一般式
()は一種のチオエステルであるが、緩和な条
件下で最も反応性の高い反応試薬であるという事
実は全く従来予想し得なかつた正に驚くべきこと
である。
本発明の原料化合物である一般式()、例え
ば7−アミノセフアロスポラン酸の3位メチル基
に結合するアセトキシ基の場合は含水の有機溶媒
中、PH6.0〜8.5、反応温度50℃〜80℃で、最も高
い脱離基となる。その他3位に結合するハロゲ
ン、アジド基の場合も同様な条件で脱離可能あ
る。
ば7−アミノセフアロスポラン酸の3位メチル基
に結合するアセトキシ基の場合は含水の有機溶媒
中、PH6.0〜8.5、反応温度50℃〜80℃で、最も高
い脱離基となる。その他3位に結合するハロゲ
ン、アジド基の場合も同様な条件で脱離可能あ
る。
又7−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸はその3位メチル基に結合するベンズイミダ
ゾール−2−イル−チオ基がプロトン存在下で極
めて反応性の高い脱離基であることが特徴であ
る。脱離反応にはプロトンが触媒すると考えら
れ、反応系中に存在するチオール類のプロトンが
活用される為、特に新しく酸触媒を加えることは
必ずしも必要でない。3位メチル基に結合する同
系統の置換基としてベンズチアゾールチオ基、ベ
ンズオキサゾールチオ基等があり、事実これらの
置換基でも反応は進行するが、安定性、反応性の
点で特にベンズイミダゾール−2−イル−チオ基
が優れた効果を発揮する。この置換基はセフアロ
スポリン化合物の安定な酸性領域において極めて
置換反応が早い為に、例えばアセトキシ基と比較
すると収率の点で1.5倍の効果を発揮する。
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸はその3位メチル基に結合するベンズイミダ
ゾール−2−イル−チオ基がプロトン存在下で極
めて反応性の高い脱離基であることが特徴であ
る。脱離反応にはプロトンが触媒すると考えら
れ、反応系中に存在するチオール類のプロトンが
活用される為、特に新しく酸触媒を加えることは
必ずしも必要でない。3位メチル基に結合する同
系統の置換基としてベンズチアゾールチオ基、ベ
ンズオキサゾールチオ基等があり、事実これらの
置換基でも反応は進行するが、安定性、反応性の
点で特にベンズイミダゾール−2−イル−チオ基
が優れた効果を発揮する。この置換基はセフアロ
スポリン化合物の安定な酸性領域において極めて
置換反応が早い為に、例えばアセトキシ基と比較
すると収率の点で1.5倍の効果を発揮する。
一般式()、例えば7−アミノセフアロスポ
ラン酸は市販品を容易に入手できる。又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸は市販の
7−アミノセフアロスポラン酸と高分子劣化防止
剤としてすでに用いられ安価に市販されている2
−メルカプトベンズイミダゾールを公知方法によ
り反応させることによつて得られる。又は7−
(グルタルアミド)−セフアロスポラン酸と2−メ
ルカプトベンズイミダゾールを反応させ、次いで
例えば特開昭50−101584号公報に開示されている
コマモナスアシラーゼによつて7位側鎖のアミド
結合を切断することによつても得られる。
ラン酸は市販品を容易に入手できる。又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸は市販の
7−アミノセフアロスポラン酸と高分子劣化防止
剤としてすでに用いられ安価に市販されている2
−メルカプトベンズイミダゾールを公知方法によ
り反応させることによつて得られる。又は7−
(グルタルアミド)−セフアロスポラン酸と2−メ
ルカプトベンズイミダゾールを反応させ、次いで
例えば特開昭50−101584号公報に開示されている
コマモナスアシラーゼによつて7位側鎖のアミド
結合を切断することによつても得られる。
もう一方の原料である一般式()で示される
化合物は、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される1−置換、又は非置換−テトラゾール
−5−チオール類、又はその誘導体をマンデル
酸、又はその誘導体と溶液中で−50℃〜100℃で
反応させることによつて高収率で製造することが
できる。
化合物は、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される1−置換、又は非置換−テトラゾール
−5−チオール類、又はその誘導体をマンデル
酸、又はその誘導体と溶液中で−50℃〜100℃で
反応させることによつて高収率で製造することが
できる。
この様にして得た一般式()で示される化合
物、又はその塩と一般式()で示される化合物
を溶媒中で反応させ、容易にかつ効率良く目的化
合物である一般式()で示されるセフアロスポ
ラン化合物、又はその医薬上許容しうる塩に導く
ことができる。
物、又はその塩と一般式()で示される化合物
を溶媒中で反応させ、容易にかつ効率良く目的化
合物である一般式()で示されるセフアロスポ
ラン化合物、又はその医薬上許容しうる塩に導く
ことができる。
一般式()で示される化合物の量は、一般式
()で示される化合物に対して等モル以上であ
れば良く経済性の点から1.0モルから2.0モルが好
ましい。
()で示される化合物に対して等モル以上であ
れば良く経済性の点から1.0モルから2.0モルが好
ましい。
溶媒としては、N・N−ジメチルホルムアミ
ド、N・N−ジエチルホルムアミド、N・N−ジ
メチルアセトアミド、N・N−ジエチルアセトア
ミド等のアミド類、メチルアルコール、エチルア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン等の脂肪酸ケトン類、メチルセロソル
ブ等のエーテル類、ジクロルメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド等類があり、これらは単独又は混合溶媒、又は
含水溶媒として用いることができるが、これらの
溶媒の中で7−アミノセフアロスポラン酸の場
合、特にアセトン、アセトニトリル、メチルアル
コール、又はその含水溶媒の使用が、又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸の場合
は、特にN・N−ジメチルホルムアミド、N・N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、又はそれ
らの含水溶媒の使用が、溶解性、反応率、経済性
の点で特に好ましい。
ド、N・N−ジエチルホルムアミド、N・N−ジ
メチルアセトアミド、N・N−ジエチルアセトア
ミド等のアミド類、メチルアルコール、エチルア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン等の脂肪酸ケトン類、メチルセロソル
ブ等のエーテル類、ジクロルメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド等類があり、これらは単独又は混合溶媒、又は
含水溶媒として用いることができるが、これらの
溶媒の中で7−アミノセフアロスポラン酸の場
合、特にアセトン、アセトニトリル、メチルアル
コール、又はその含水溶媒の使用が、又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸の場合
は、特にN・N−ジメチルホルムアミド、N・N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、又はそれ
らの含水溶媒の使用が、溶解性、反応率、経済性
の点で特に好ましい。
一般式()で示される化合物、例えば7−ア
ミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用い
る場合は特徴として、反応系中にはこの化合物か
ら生ずるチオール化合物と、置換反応によつて生
じたチオール化合物が存在する為、特に新たな酸
触媒の添加は必ずしも必要でないが、反応時間の
短縮、反応収率の向上の点から酸触媒を加えたほ
うがよい。例えば塩酸、硫酸等の鉱酸類、パラト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホ
ン酸類、プロピオン酸等の脂肪酸類、2−メルカ
プト−テトラゾール類のチオール類等の有機酸を
あげることができるが、特に収率と反応時間の短
縮の点で鉱酸類とチオール類が好ましい。
ミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用い
る場合は特徴として、反応系中にはこの化合物か
ら生ずるチオール化合物と、置換反応によつて生
じたチオール化合物が存在する為、特に新たな酸
触媒の添加は必ずしも必要でないが、反応時間の
短縮、反応収率の向上の点から酸触媒を加えたほ
うがよい。例えば塩酸、硫酸等の鉱酸類、パラト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホ
ン酸類、プロピオン酸等の脂肪酸類、2−メルカ
プト−テトラゾール類のチオール類等の有機酸を
あげることができるが、特に収率と反応時間の短
縮の点で鉱酸類とチオール類が好ましい。
この酸触媒の量は、7−アミノ−3−(ベンズ
イミダゾール−2−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸に対して、実質的に0.05倍
モル以上あれば十分である。
イミダゾール−2−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸に対して、実質的に0.05倍
モル以上あれば十分である。
反応温度は、溶媒の種類等によつて異なるが、
通常10℃から100℃の範囲で十分であり、反応
率、セフアロスポリン骨格の安定性等から考え
て、特に好ましいのは40℃から80℃の範囲であ
る。
通常10℃から100℃の範囲で十分であり、反応
率、セフアロスポリン骨格の安定性等から考え
て、特に好ましいのは40℃から80℃の範囲であ
る。
反応時間は、一般式()の3位メチル基に結
合するR1の種類、溶媒の種類等によつて異なる
が、通常30分から10時間の範囲で十分である。例
えば7−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸を用いた場合、含水のN・N−ジメチルホル
ムアミド中、酸触媒下60℃の反応では30分から3
時間で十分である。従来7位アシル化反応と3位
置換反応を連続した場合、8時間から18時間を必
要とし、反応試薬との副反応と生成物の分解の点
を考えると、本発明方法は極めて簡便で経済性に
優れている。
合するR1の種類、溶媒の種類等によつて異なる
が、通常30分から10時間の範囲で十分である。例
えば7−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸を用いた場合、含水のN・N−ジメチルホル
ムアミド中、酸触媒下60℃の反応では30分から3
時間で十分である。従来7位アシル化反応と3位
置換反応を連続した場合、8時間から18時間を必
要とし、反応試薬との副反応と生成物の分解の点
を考えると、本発明方法は極めて簡便で経済性に
優れている。
本発明においては、この様にして得られた一般
式()で示されるセフアロスポリン化合物を、
所望に応じ医薬上許容しうる塩に変換することが
できる。この塩への変換は常法によつてアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、アルカリ土類金属塩類
に導くことができる。これらの塩類は、例えば水
への溶解性の点で製剤上優れた性質を示す。
式()で示されるセフアロスポリン化合物を、
所望に応じ医薬上許容しうる塩に変換することが
できる。この塩への変換は常法によつてアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、アルカリ土類金属塩類
に導くことができる。これらの塩類は、例えば水
への溶解性の点で製剤上優れた性質を示す。
本発明における一般式()の化合物は、淡茶
色の結晶であり、吸湿性、刺激性、及び腐蝕性が
ない為に製造上の取扱いが極めて容易で、作業環
境及び作業者の安全、装置の保安性が極めて高
い。この為本発明の化合物のみが実用上真に優れ
た化合物であり、本発明方法によつて強力な抗菌
活性を有する優れた抗生物質である一般式()
で示されるセフアロスポラン化合物、又はその医
薬上許容できる塩を、高収率で安全に製造するこ
とができる。
色の結晶であり、吸湿性、刺激性、及び腐蝕性が
ない為に製造上の取扱いが極めて容易で、作業環
境及び作業者の安全、装置の保安性が極めて高
い。この為本発明の化合物のみが実用上真に優れ
た化合物であり、本発明方法によつて強力な抗菌
活性を有する優れた抗生物質である一般式()
で示されるセフアロスポラン化合物、又はその医
薬上許容できる塩を、高収率で安全に製造するこ
とができる。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例によつて限定さ
れるものではない。
するが、本発明はこれらの実施例によつて限定さ
れるものではない。
実施例 1
温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルホルムアミド500mlと水500
mlを投入し、60℃に加熱撹拌する。次にマンデル
酸−1H−テトラゾール−2−イル−チオールエ
ステル14.2gを添加する。さらに反応触媒とし
て、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃のまま2時間
撹拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロ
マトグラフイーにて定量すると、反応率88%であ
つた。この反応液を冷却し常法によりエーテルで
夾雑物を除去した後、1N−塩酸水にてPH1.5に下
げ1の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に
溶媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−
(1H−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸15.7gの白色粉末を
得た(純度97%)。
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルホルムアミド500mlと水500
mlを投入し、60℃に加熱撹拌する。次にマンデル
酸−1H−テトラゾール−2−イル−チオールエ
ステル14.2gを添加する。さらに反応触媒とし
て、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃のまま2時間
撹拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロ
マトグラフイーにて定量すると、反応率88%であ
つた。この反応液を冷却し常法によりエーテルで
夾雑物を除去した後、1N−塩酸水にてPH1.5に下
げ1の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に
溶媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−
(1H−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸15.7gの白色粉末を
得た(純度97%)。
元素分析値
実測値 理論値
C 45.7% 45.5%
H 3.3% 3.6%
N 18.7% 18.8%
S 14.1% 14.3%
NMRスペクトル(D2O−NaHCO3中)δppm
3.5(s 2H)
4.5(s 2H)
5.0(d 1H)
5.6(d 1H)
6.1(s 1H)
7.3(m 5H)
9.2(s 1H)
10.7(s 1H)
実施例 2
温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水0.9を投入し60℃に加熱撹拌する。次に
マンデル酸−1H−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル28.3gを添加する。反応液を60℃
のまま4.5時間撹拌し反応を完結させた。反応液
を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、
反応率57%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1H−テトラゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸20.4
gの白色粉末を得た(純度96%)。
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水0.9を投入し60℃に加熱撹拌する。次に
マンデル酸−1H−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル28.3gを添加する。反応液を60℃
のまま4.5時間撹拌し反応を完結させた。反応液
を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、
反応率57%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1H−テトラゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸20.4
gの白色粉末を得た(純度96%)。
実施例 3
温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸36.2
g、N・N−ジメチルホルムアミド1と水1
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−
1−メチル−テトラゾール−2−イル−チオール
エステル30.0gを添加する。さらに反応触媒とし
て0.5N−塩酸水100mlを加え60℃のまま3時間撹
拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロマ
トグラフイーにて定量すると反応率93%であつ
た。この反応液を冷却し常法によりエーテルで夾
雑物を除去した後、1H−塩酸水にてPH1.5に下げ
2の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に溶
媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−(1
−メチル−テトラゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸33.1gの白色粉
末を得た(純度97%)。
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸36.2
g、N・N−ジメチルホルムアミド1と水1
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−
1−メチル−テトラゾール−2−イル−チオール
エステル30.0gを添加する。さらに反応触媒とし
て0.5N−塩酸水100mlを加え60℃のまま3時間撹
拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロマ
トグラフイーにて定量すると反応率93%であつ
た。この反応液を冷却し常法によりエーテルで夾
雑物を除去した後、1H−塩酸水にてPH1.5に下げ
2の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に溶
媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−(1
−メチル−テトラゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸33.1gの白色粉
末を得た(純度97%)。
元素分析値
実測値 理論値
C 46.5% 46.8%
H 3.7% 3.9%
N 18.5% 18.2%
S 14.1% 13.9%
NMRスペクトル(D2O−NaHCO3中)δppm
3.5(s 2H) 5.6(d 1H)
3.8(s 3H) 6.1(s 1H)
4.5(s 2H) 7.3(m 5H)
5.0(d 1H) 10.7(s 1H)
実施例 4
温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水1を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマ
ンデル酸−1−メチル−テトラゾール−2−イル
−チオールエステル30.0gを添加する。反応液を
60℃のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応
液を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると
反応率53%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−メチル−テトラゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸18.4gの白色粉末を得た(純度98%)。
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水1を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマ
ンデル酸−1−メチル−テトラゾール−2−イル
−チオールエステル30.0gを添加する。反応液を
60℃のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応
液を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると
反応率53%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−メチル−テトラゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸18.4gの白色粉末を得た(純度98%)。
実施例 5
温度計を付した300mlの3つ口フラスコに、7
−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
3.62g、N・N−ジメチルホルムアミド100mlと
水100mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマン
デル酸−1−カルボキシメチル−テトラゾール−
2−イル−チオールエステル3.5gを添加する。
さらに反応触媒として0.5N−塩酸水10mlを加え
60℃のまま2.5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率89%であつた。この反応液を冷却し常
法によりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−
塩酸水にてPH1.5に下げ200mlの酢酸エチルエステ
ルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し減圧下に溶媒を留すると、7−マン
デルアミド−3−(1−カルボキシメチル−テト
ラゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸3.5gの白色粉末を得た(純度
98%)。
−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
3.62g、N・N−ジメチルホルムアミド100mlと
水100mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマン
デル酸−1−カルボキシメチル−テトラゾール−
2−イル−チオールエステル3.5gを添加する。
さらに反応触媒として0.5N−塩酸水10mlを加え
60℃のまま2.5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率89%であつた。この反応液を冷却し常
法によりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−
塩酸水にてPH1.5に下げ200mlの酢酸エチルエステ
ルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し減圧下に溶媒を留すると、7−マン
デルアミド−3−(1−カルボキシメチル−テト
ラゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸3.5gの白色粉末を得た(純度
98%)。
元素分析値
実測値 理論値
C 45.5% 45.1%
H 3.3% 3.6%
N 16.8% 16.6%
S 12.9% 12.6%
実施例 6
温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸12.4g、アセトン500mlと水500mlを投
入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−1−
カルボキシメチル−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル17.6gを添加する。反応液を60℃
のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると反応
率51%であつた。この反応液を冷却し常法により
エーテルで夾雑物を除去した後、1N−酸水にて
PH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3回抽
出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデルアミ
ド−3−(1−カルボキシメチル−テトラゾール
−2−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸10.3gの白色粉末を得た(純度97%)。
アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸12.4g、アセトン500mlと水500mlを投
入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−1−
カルボキシメチル−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル17.6gを添加する。反応液を60℃
のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると反応
率51%であつた。この反応液を冷却し常法により
エーテルで夾雑物を除去した後、1N−酸水にて
PH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3回抽
出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデルアミ
ド−3−(1−カルボキシメチル−テトラゾール
−2−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸10.3gの白色粉末を得た(純度97%)。
実施例 7
温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルアセトアミド500mlと水500
mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル16.5gを添加する。さらに
反応触媒として、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃
のまま3時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、反
応率91%であつた。この反応液を冷却し常法によ
りエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸水
にてPH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3
回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し減圧下に溶媒を留去させると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−スルホン酸メチル−テトラ
ゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン19.3gの白色粉末を得た(純度97
%)。
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルアセトアミド500mlと水500
mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル16.5gを添加する。さらに
反応触媒として、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃
のまま3時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、反
応率91%であつた。この反応液を冷却し常法によ
りエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸水
にてPH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3
回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し減圧下に溶媒を留去させると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−スルホン酸メチル−テトラ
ゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン19.3gの白色粉末を得た(純度97
%)。
元素分析値
実測値 理論値
C 39.7% 39.9%
H 3.1% 3.3%
N 15.7% 15.5%
S 17.9% 17.7%
実施例 8
温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−アジドメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸25.5g、アセトニトリル1と水0.9
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデン酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル33.0gを添加する。反応液
を60℃のまま5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率52%であつた。この反応液を冷却を冷
却し常法によりエーテルで夾雑物を除去した後、
1N−塩酸水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエ
ステルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7
−マンデルアミド−3−(1−スルホン酸メチル
−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸17.6gのの白色粉末を得
た(純度98%)。
アミノ−3−アジドメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸25.5g、アセトニトリル1と水0.9
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデン酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル33.0gを添加する。反応液
を60℃のまま5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率52%であつた。この反応液を冷却を冷
却し常法によりエーテルで夾雑物を除去した後、
1N−塩酸水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエ
ステルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7
−マンデルアミド−3−(1−スルホン酸メチル
−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸17.6gのの白色粉末を得
た(純度98%)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中のR1は、ハロゲン、アジド基、アセトキシ
基又はベンズイミダゾールチオ基である) で示される7−アミノセフアロスポラン酸誘導体
又はその塩と 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基又はスルホン酸メチル基である) で示されるマンデル酸の1−置換又は非置換−テ
トラゾール−5−イル−チオールエステル類とを
反応させることを特徴とする 一般式() (式中のR2は、前記と同じである) で示されるセフアロスポリン化合物又はその医薬
上許容しうる塩の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14848679A JPS5671095A (en) | 1979-11-16 | 1979-11-16 | Preparation of cephalosphorin compound |
| DE8080106952T DE3062779D1 (en) | 1979-11-16 | 1980-11-11 | Novel tetrazole-5-thiol esters and process for preparing cefamandole using same |
| AT80106952T ATE3044T1 (de) | 1979-11-16 | 1980-11-11 | Tetrazol-5-thiol-ester und sie verwendendes verfahren zur herstellung von cephamandol. |
| EP19800106952 EP0029202B1 (en) | 1979-11-16 | 1980-11-11 | Novel tetrazole-5-thiol esters and process for preparing cefamandole using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14848679A JPS5671095A (en) | 1979-11-16 | 1979-11-16 | Preparation of cephalosphorin compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5671095A JPS5671095A (en) | 1981-06-13 |
| JPS6210514B2 true JPS6210514B2 (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=15453825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14848679A Granted JPS5671095A (en) | 1979-11-16 | 1979-11-16 | Preparation of cephalosphorin compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5671095A (ja) |
-
1979
- 1979-11-16 JP JP14848679A patent/JPS5671095A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5671095A (en) | 1981-06-13 |
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