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JPS6210514B2 - - Google Patents
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JPS6210514B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6210514B2
JPS6210514B2 JP14848679A JP14848679A JPS6210514B2 JP S6210514 B2 JPS6210514 B2 JP S6210514B2 JP 14848679 A JP14848679 A JP 14848679A JP 14848679 A JP14848679 A JP 14848679A JP S6210514 B2 JPS6210514 B2 JP S6210514B2
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acid
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methyl
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Masateru Kobayashi
Kimyo Yamamoto
Kazuyuki Shibuya
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、セフアロスポリン化合物の製造方法
に関するものである。さらに詳しく述べると、酸
安定性を有し、又広範囲の微生物(グラム陽性、
グラム陰性病原体を含む)に対して強力な殺菌作
用を有し、優れた抗生物質として知られている 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、スルホン酸メチル基である) で示される化合物、又はその医薬上許容しうる塩
を、極めて安全に効率良く製造する方法を提供す
るものである。
これまで、一般式()で示される化合物は、
7−アミノセフアロスポラン酸を原料として2工
程で製造されていた。本発明の目的化合物()
を得る方法として、例えば7−アミノセフアロス
ポラン酸とマンデル酸から一旦7−マンデルアミ
ドセフアロスポラン酸を得た(特公昭52−31879
号公報)後、例えば1−メチル−テトラゾール−
5−チオール類を反応させる(特開昭49−117487
号公報)ことによつて目的の一般式()の化合
物を得るか、7−アミノセフアロスポラン酸と、
例えば1−メチル−テトラゾール−5−チオール
類を反応させて、7−アミノ−3−(1−メチル
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸を合成(特公昭49−
45880号公報)した後、マンデル酸を反応させて
目的の一般式()の化合物を得る(特公昭49−
45880号公報)方法等がある。
これらの方法は、全く独立した二つの反応の組
合わせである。すなわち、7−アミノセフアロス
ポラン酸の7位アミノ基へのアシル化反応と、あ
と一つは3位アセトキシメチル基におけるアセト
キシ基と、テトラゾールチオ基の置換反応であ
る。この二つの反応は反応条件が異り、仮に連続
して反応を行う場合でも条件の変更による反応の
中断は避けられない。又PH6.5で60℃というセフ
アロスポリン化合物の安定性に関して過酷な条件
下で前記した2段反応の前工程に3〜6時間、後
工程に4〜8時間もさらすことになる。反応収率
の低下は経済性の観点から大きな問題である。又
連続反応した目的物を精製する場合、未反応原料
化合物と分解により生じた化合物等の夾雑物の影
響が無視できず、結果的に製品の純度に問題を残
すことが考えられる。更に従来法で通常7位アシ
ル化反応に用いられる酸クロリド法、混酸無水物
法、DCC縮合法での7位アシル化反応はそれら
のアシル化剤が本来有している湿気に対する分
解、人体の皮膚刺激性等、作業性、安全面で著し
い欠点を有している。
本発明者らは、これら従来法のもつ欠点を克服
し安全かつ効率良く、一般式()で示される化
合物又はその医薬上許容しうる塩を製造する方法
について鋭意検討を重ねた結果、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される活性エステルを、7−アミノセフアロ
スポラン酸誘導体、又はその塩と反応させること
により目的とする一般式()を容易にかつ安全
に製造できる方法を発明するに至つた。この方法
は、一般式()で示される目的化合物の7位と
3位の置換基を、単一の条件下で同時にかつ効率
良く導入する極めて優れた方法である。
すなわち本発明は 一般式() (式中のR1は、ハロゲン、アジド基、アセトキシ
基又はベンズイミダゾールチオ基である)で示さ
れる7−アミノセフアロスポラン酸誘導体、又は
その塩と、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される化合物を反応させることにより、 一般式() (式中のR2は、前記と同じである)で示されるセ
フアロスポリン化合物、又はその医薬上許容しう
る塩の製造方法を提供するものである。
更に詳しく述べると、一般式()で示される
R1のハロゲン、アジド基、アセトキシ基、又は
ベンズイミダゾールチオ基の中で効率等で特に好
ましいのは、アセトキシ基とベンズイミダゾール
チオ基である。
一般式()で示される文献上未知の新規化合
物は単なるアシル化剤ではない。単一化合物でセ
フアロスポラン酸の7位アシル化反応と3位置換
反応の両反応基を有し、かつ極めて高い活性を有
する為効率良く反応を進行させ、目的とする化合
物である一般式()を高収率でかつ安全に取得
できるという大きな利点を有している。
又一般式()で示される新規化合物の反応性
は、従来最もアシル化反応性が高い方法と言われ
ている酸クロリド法や混酸無水物法の反応性にほ
ぼ等しい。従来法での欠点、つまり厳しく温度コ
ントロールをしないと副反応が起き効率が低下す
ることが知られているが、一般式()では通常
容易に実施できる温度範囲、例えば室温から80℃
までの範囲において重合反応、分解反応等を含む
何らの副反応も生じない。又従来から知られてい
る活性チオエステル法、例えばカルボン酸のフエ
ニルチオエステル法があるが、この方法では反応
条件が強アリカリの条件下、高温、数時間という
過酷な条件であり、実際上セフアロスポリン化合
物には適用できない。又一方、反応を緩和な条件
で行うと、アシル化反応は進行しない。一般式
()は一種のチオエステルであるが、緩和な条
件下で最も反応性の高い反応試薬であるという事
実は全く従来予想し得なかつた正に驚くべきこと
である。
本発明の原料化合物である一般式()、例え
ば7−アミノセフアロスポラン酸の3位メチル基
に結合するアセトキシ基の場合は含水の有機溶媒
中、PH6.0〜8.5、反応温度50℃〜80℃で、最も高
い脱離基となる。その他3位に結合するハロゲ
ン、アジド基の場合も同様な条件で脱離可能あ
る。
又7−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸はその3位メチル基に結合するベンズイミダ
ゾール−2−イル−チオ基がプロトン存在下で極
めて反応性の高い脱離基であることが特徴であ
る。脱離反応にはプロトンが触媒すると考えら
れ、反応系中に存在するチオール類のプロトンが
活用される為、特に新しく酸触媒を加えることは
必ずしも必要でない。3位メチル基に結合する同
系統の置換基としてベンズチアゾールチオ基、ベ
ンズオキサゾールチオ基等があり、事実これらの
置換基でも反応は進行するが、安定性、反応性の
点で特にベンズイミダゾール−2−イル−チオ基
が優れた効果を発揮する。この置換基はセフアロ
スポリン化合物の安定な酸性領域において極めて
置換反応が早い為に、例えばアセトキシ基と比較
すると収率の点で1.5倍の効果を発揮する。
一般式()、例えば7−アミノセフアロスポ
ラン酸は市販品を容易に入手できる。又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸は市販の
7−アミノセフアロスポラン酸と高分子劣化防止
剤としてすでに用いられ安価に市販されている2
−メルカプトベンズイミダゾールを公知方法によ
り反応させることによつて得られる。又は7−
(グルタルアミド)−セフアロスポラン酸と2−メ
ルカプトベンズイミダゾールを反応させ、次いで
例えば特開昭50−101584号公報に開示されている
コマモナスアシラーゼによつて7位側鎖のアミド
結合を切断することによつても得られる。
もう一方の原料である一般式()で示される
化合物は、 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
ル基、又はスルホン酸メチル基である) で示される1−置換、又は非置換−テトラゾール
−5−チオール類、又はその誘導体をマンデル
酸、又はその誘導体と溶液中で−50℃〜100℃で
反応させることによつて高収率で製造することが
できる。
この様にして得た一般式()で示される化合
物、又はその塩と一般式()で示される化合物
を溶媒中で反応させ、容易にかつ効率良く目的化
合物である一般式()で示されるセフアロスポ
ラン化合物、又はその医薬上許容しうる塩に導く
ことができる。
一般式()で示される化合物の量は、一般式
()で示される化合物に対して等モル以上であ
れば良く経済性の点から1.0モルから2.0モルが好
ましい。
溶媒としては、N・N−ジメチルホルムアミ
ド、N・N−ジエチルホルムアミド、N・N−ジ
メチルアセトアミド、N・N−ジエチルアセトア
ミド等のアミド類、メチルアルコール、エチルア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトン等の脂肪酸ケトン類、メチルセロソル
ブ等のエーテル類、ジクロルメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、
プロピオニトリル等のニトリル類、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシ
ド等類があり、これらは単独又は混合溶媒、又は
含水溶媒として用いることができるが、これらの
溶媒の中で7−アミノセフアロスポラン酸の場
合、特にアセトン、アセトニトリル、メチルアル
コール、又はその含水溶媒の使用が、又7−アミ
ノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸の場合
は、特にN・N−ジメチルホルムアミド、N・N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、又はそれ
らの含水溶媒の使用が、溶解性、反応率、経済性
の点で特に好ましい。
一般式()で示される化合物、例えば7−ア
ミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフエム−4−カルボン酸を用い
る場合は特徴として、反応系中にはこの化合物か
ら生ずるチオール化合物と、置換反応によつて生
じたチオール化合物が存在する為、特に新たな酸
触媒の添加は必ずしも必要でないが、反応時間の
短縮、反応収率の向上の点から酸触媒を加えたほ
うがよい。例えば塩酸、硫酸等の鉱酸類、パラト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホ
ン酸類、プロピオン酸等の脂肪酸類、2−メルカ
プト−テトラゾール類のチオール類等の有機酸を
あげることができるが、特に収率と反応時間の短
縮の点で鉱酸類とチオール類が好ましい。
この酸触媒の量は、7−アミノ−3−(ベンズ
イミダゾール−2−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸に対して、実質的に0.05倍
モル以上あれば十分である。
反応温度は、溶媒の種類等によつて異なるが、
通常10℃から100℃の範囲で十分であり、反応
率、セフアロスポリン骨格の安定性等から考え
て、特に好ましいのは40℃から80℃の範囲であ
る。
反応時間は、一般式()の3位メチル基に結
合するR1の種類、溶媒の種類等によつて異なる
が、通常30分から10時間の範囲で十分である。例
えば7−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸を用いた場合、含水のN・N−ジメチルホル
ムアミド中、酸触媒下60℃の反応では30分から3
時間で十分である。従来7位アシル化反応と3位
置換反応を連続した場合、8時間から18時間を必
要とし、反応試薬との副反応と生成物の分解の点
を考えると、本発明方法は極めて簡便で経済性に
優れている。
本発明においては、この様にして得られた一般
式()で示されるセフアロスポリン化合物を、
所望に応じ医薬上許容しうる塩に変換することが
できる。この塩への変換は常法によつてアルカリ
金属塩、アンモニウム塩、アルカリ土類金属塩類
に導くことができる。これらの塩類は、例えば水
への溶解性の点で製剤上優れた性質を示す。
本発明における一般式()の化合物は、淡茶
色の結晶であり、吸湿性、刺激性、及び腐蝕性が
ない為に製造上の取扱いが極めて容易で、作業環
境及び作業者の安全、装置の保安性が極めて高
い。この為本発明の化合物のみが実用上真に優れ
た化合物であり、本発明方法によつて強力な抗菌
活性を有する優れた抗生物質である一般式()
で示されるセフアロスポラン化合物、又はその医
薬上許容できる塩を、高収率で安全に製造するこ
とができる。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例によつて限定さ
れるものではない。
実施例 1 温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルホルムアミド500mlと水500
mlを投入し、60℃に加熱撹拌する。次にマンデル
酸−1H−テトラゾール−2−イル−チオールエ
ステル14.2gを添加する。さらに反応触媒とし
て、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃のまま2時間
撹拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロ
マトグラフイーにて定量すると、反応率88%であ
つた。この反応液を冷却し常法によりエーテルで
夾雑物を除去した後、1N−塩酸水にてPH1.5に下
げ1の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽
出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に
溶媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−
(1H−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸15.7gの白色粉末を
得た(純度97%)。
元素分析値 実測値 理論値 C 45.7% 45.5% H 3.3% 3.6% N 18.7% 18.8% S 14.1% 14.3% NMRスペクトル(D2O−NaHCO3中)δppm 3.5(s 2H) 4.5(s 2H) 5.0(d 1H) 5.6(d 1H) 6.1(s 1H) 7.3(m 5H) 9.2(s 1H) 10.7(s 1H) 実施例 2 温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水0.9を投入し60℃に加熱撹拌する。次に
マンデル酸−1H−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル28.3gを添加する。反応液を60℃
のまま4.5時間撹拌し反応を完結させた。反応液
を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、
反応率57%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1H−テトラゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸20.4
gの白色粉末を得た(純度96%)。
実施例 3 温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸36.2
g、N・N−ジメチルホルムアミド1と水1
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−
1−メチル−テトラゾール−2−イル−チオール
エステル30.0gを添加する。さらに反応触媒とし
て0.5N−塩酸水100mlを加え60℃のまま3時間撹
拌し反応を完結させた。反応液を高速液体クロマ
トグラフイーにて定量すると反応率93%であつ
た。この反応液を冷却し常法によりエーテルで夾
雑物を除去した後、1H−塩酸水にてPH1.5に下げ
2の酢酸エチルエステルで3回抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥し減圧下に溶
媒を留去すると、7−マンデルアミド−3−(1
−メチル−テトラゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸33.1gの白色粉
末を得た(純度97%)。
元素分析値 実測値 理論値 C 46.5% 46.8% H 3.7% 3.9% N 18.5% 18.2% S 14.1% 13.9% NMRスペクトル(D2O−NaHCO3中)δppm 3.5(s 2H) 5.6(d 1H) 3.8(s 3H) 6.1(s 1H) 4.5(s 2H) 7.3(m 5H) 5.0(d 1H) 10.7(s 1H) 実施例 4 温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノセフアロスポラン酸27.2g、アセトン1.1
と水1を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマ
ンデル酸−1−メチル−テトラゾール−2−イル
−チオールエステル30.0gを添加する。反応液を
60℃のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応
液を高速液体クロマトグラフイーにて定量すると
反応率53%であつた。この反応液を冷却し常法に
よりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸
水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエステルで
3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−メチル−テトラゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボ
ン酸18.4gの白色粉末を得た(純度98%)。
実施例 5 温度計を付した300mlの3つ口フラスコに、7
−アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
3.62g、N・N−ジメチルホルムアミド100mlと
水100mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマン
デル酸−1−カルボキシメチル−テトラゾール−
2−イル−チオールエステル3.5gを添加する。
さらに反応触媒として0.5N−塩酸水10mlを加え
60℃のまま2.5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率89%であつた。この反応液を冷却し常
法によりエーテルで夾雑物を除去した後、1N−
塩酸水にてPH1.5に下げ200mlの酢酸エチルエステ
ルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し減圧下に溶媒を留すると、7−マン
デルアミド−3−(1−カルボキシメチル−テト
ラゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸3.5gの白色粉末を得た(純度
98%)。
元素分析値 実測値 理論値 C 45.5% 45.1% H 3.3% 3.6% N 16.8% 16.6% S 12.9% 12.6% 実施例 6 温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸12.4g、アセトン500mlと水500mlを投
入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸−1−
カルボキシメチル−テトラゾール−2−イル−チ
オールエステル17.6gを添加する。反応液を60℃
のまま4時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると反応
率51%であつた。この反応液を冷却し常法により
エーテルで夾雑物を除去した後、1N−酸水にて
PH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3回抽
出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し減圧下に溶媒を留去すると、7−マンデルアミ
ド−3−(1−カルボキシメチル−テトラゾール
−2−イル)チオメチル−3−セフエム−4−カ
ルボン酸10.3gの白色粉末を得た(純度97%)。
実施例 7 温度計を付した2の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオメチル−3−セフエム−4−カルボン酸18.1
g、N・N−ジメチルアセトアミド500mlと水500
mlを投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデル酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル16.5gを添加する。さらに
反応触媒として、0.5N−塩酸水20mlを加え60℃
のまま3時間撹拌し反応を完結させた。反応液を
高速液体クロマトグラフイーにて定量すると、反
応率91%であつた。この反応液を冷却し常法によ
りエーテルで夾雑物を除去した後、1N−塩酸水
にてPH1.5に下げ1の酢酸エチルエステルで3
回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し減圧下に溶媒を留去させると、7−マンデ
ルアミド−3−(1−スルホン酸メチル−テトラ
ゾール−2−イル)チオメチル−3−セフエム−
4−カルボン19.3gの白色粉末を得た(純度97
%)。
元素分析値 実測値 理論値 C 39.7% 39.9% H 3.1% 3.3% N 15.7% 15.5% S 17.9% 17.7% 実施例 8 温度計を付した3の3つ口フラスコに、7−
アミノ−3−アジドメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸25.5g、アセトニトリル1と水0.9
を投入し60℃に加熱撹拌する。次にマンデン酸
−1−スルホン酸メチル−テトラゾール−2−イ
ル−チオールエステル33.0gを添加する。反応液
を60℃のまま5時間撹拌し反応を完結させた。反
応液を高速液体クロマトグラフイーにて定量する
と、反応率52%であつた。この反応液を冷却を冷
却し常法によりエーテルで夾雑物を除去した後、
1N−塩酸水にてPH1.5に下げ2の酢酸エチルエ
ステルで3回抽出した。抽出液を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し減圧下に溶媒を留去すると、7
−マンデルアミド−3−(1−スルホン酸メチル
−テトラゾール−2−イル)チオメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸17.6gのの白色粉末を得
た(純度98%)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中のR1は、ハロゲン、アジド基、アセトキシ
    基又はベンズイミダゾールチオ基である) で示される7−アミノセフアロスポラン酸誘導体
    又はその塩と 一般式() (式中のR2は、水素、メチル基、カルボキシメチ
    ル基又はスルホン酸メチル基である) で示されるマンデル酸の1−置換又は非置換−テ
    トラゾール−5−イル−チオールエステル類とを
    反応させることを特徴とする 一般式() (式中のR2は、前記と同じである) で示されるセフアロスポリン化合物又はその医薬
    上許容しうる塩の製造方法。
JP14848679A 1979-11-16 1979-11-16 Preparation of cephalosphorin compound Granted JPS5671095A (en)

Priority Applications (4)

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