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JPS621933B2 - - Google Patents
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JPS621933B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS621933B2
JPS621933B2 JP19568582A JP19568582A JPS621933B2 JP S621933 B2 JPS621933 B2 JP S621933B2 JP 19568582 A JP19568582 A JP 19568582A JP 19568582 A JP19568582 A JP 19568582A JP S621933 B2 JPS621933 B2 JP S621933B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
xylenol
cresol
crystals
trimethylphenol
middle distillate
Prior art date
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Expired
Application number
JP19568582A
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English (en)
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JPS5984832A (ja
Inventor
Shozo Yura
Taku Abe
Takeshi Kimura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honshu Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Honshu Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Honshu Chemical Industry Co Ltd filed Critical Honshu Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPS621933B2 publication Critical patent/JPS621933B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は高純度2,5−キシレノールの製造法
に関するものであつて、更に詳しくはm−クレゾ
ールをメタノールでオルソ位をジメチル化して得
られる反応混合物の中間留分から、高純度の2,
5−キシレノールを分離回収する方法に係る。 2,5−キシレノールはPH指示薬の原料とし
て、あるいはまた抗脂蛋白質過多薬等の医薬品原
料として有用であることが知られている。従来、
2,5−キシレノールの合成には、p−キシレン
を濃硫酸又は発煙硫でスルホン化し、得られた
2,5−キシレノールスルホン酸をアルカリフユ
ージヨンして2,5−キシレノールナトリウム塩
を生成させ、次いでこのナトリウム塩を中和して
2,5−キシレノールとする方法が採用された来
た。しかし、この従来法は石膏や亜硫酸ナトリウ
ムを多量に副生するばかりでなく、大量の廃水を
出す点で、その工業的実施には面倒な問題を抱え
ていた。 本発明はp−キシレンを出発原料とする従来法
とは異なり、m−クレゾールを出発原料としてオ
ルソメチル化反応により、高純度の2,5−キシ
レノールを製造する方法を提案する。本発明の発
明者でもある由良と安部の両名は、特公昭51−
36738号(特許第862905号として登録済)に教示
される如く、フエノール類のオルソアルキル化方
法を先に提案し、この方法を利用してm−クレゾ
ールをメタノールでジオルソメチル化することに
より、ビタミンEの原料として重要な2,3,6
−トリメチルフエノールの合成法を確立した。そ
してこの合成法では副生成物として2,5−キシ
レノールとその異性体たる2,3−キシレノール
が不可避的に生成されることも認めていた。とこ
ろが2,5−キシレノールと2,3−キシレノー
ルは表1にも示す通り、沸点及び融点が極めて近
似している関係で、通常の蒸留操作や単純な再結
晶法では、2,5−キシレノールと2,3−キシ
レノールの異性体混合物から高純度の2,5−キ
シレノールを分離回収することができない。
【表】 然るに、本発明者らの研究によれば、m−クレ
ゾールをメタノールでジオルソメチル化して生成
される反応混合物の中間留分からは、該留分が上
記した異性体混合物を主要成分としているにも拘
らず、2,5−キシレノールと2,3−キシレノ
ールの混合物から2,5−キシレノールを分離回
収する場合とは相違して、高純度の2,5−キシ
レノールを分離回収できることが見い出された。 而して本発明に係る高純度2,5−キシレノー
ルの製造法は、m−クレゾールのメタノールによ
るオルソメチル化反応にて2,3,6−トリメチ
ルフエノールを含有する反応混合物を生成させ、
この反応混合物から未反応メタノール留分、副生
した水留分を初留分とし、次いで未反応のm−ク
レゾールと反応の中間生成物であるキシレノール
類との混合物を中間留分として分取し、最後に
2,3,6−トリメチルフエノール留分を主留分
として収得する際に得られた上記の中間留分を冷
却して結晶を析出させ、その結晶を回収すること
を特徴とする。 本発明に於て、メタノールによるm−クレゾー
ルのオルソメチル化は2,3,6−トリメチルフ
エノールが生成される条件で行なわれることを可
とし、この意味で本発明のオルソメチル化反応に
は特公昭51−36738号に教示されている如く、酸
化マグネシウムと酸化鉄からなる混合触媒の存在
下に、気相状態でメタノールとm−クレゾールを
400〜470℃の温度で反応させる方法を採用するこ
とが好ましい。この方法によれば、2,3,6−
トリメチルフエノールを含有し、さらにキシレノ
ール異性体として2,5−キシレノールと2,3
−キシレノールを含有する反応混合物を得ること
ができるが、その組成は反応条件によつて表2に
示す如く変動する。
【表】 ところが、表2の第6欄から頷ける通り、反応
混合物に含まれるキシレノール異性体中の2,5
−キシレノール含有率は、反応条件にほとんど影
響されることなく、m−クレゾールの極めて広い
反応率の範囲で80%前後の値を保持している。従
つて、本発明のオルソメチル化反応では、2,
3,6−トリメチルフエノールの生成が保証され
る限り、m−クレゾールの反応率を任意に選ぶこ
とができる。しかしながら、反応率が低い場合は
生成反応混合物からキシレノール異性体を含有す
る中間留分を取得する際の蒸留負荷が大きくな
り、得策ではないので、本発明に於けるm−クレ
ゾールの反応率は2,3,6−トリメチルフエノ
ールの製造を目的とする場合と同程度に維持する
ことが一般に好ましい。 本発明のオルソメチル化反応によつて生成され
る反応混合物は、2,3,6−トリメチルフエノ
ールとキシレノール類(2,5−キシレノール+
2,3−キシレノール)を含有し、さらに未反応
のm−クレゾールとメタノールのほか、副生され
た水を含有するのが通常である。本発明によれ
ば、この反応混合物を蒸留操作に付して未反応メ
タノール留分、副生された水留分並びに2,3,
6−トリメチルフエノール留分を反応混合物から
分離することにより、キシレノール異性体と未反
応m−クレゾールを含有する中間留分を取得す
る。本発明者らが得た知見によれば、この中間留
分から高純度の2,5−キシレノールを分離回収
するためには、該中間留分中のm−クレゾール量
を10〜45%程度に保持することを可とする。 前記の中間留分は次いで冷却され、これによつ
て2,5−キシレノールの結晶が析出する。この
結晶はヌツチエ、遠心分離などの濾過手段で回収
することができるが、濾過操作を容易にするた
め、必要に応じてベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族系溶剤、n−ペンタン、n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、リグロレイ
ン、石油エーテル等の脂肪族系溶剤、さらにはメ
タノール、エタノール、イソプロパノール、t−
ブタノール等のアルコール系溶剤を適宜選択して
使用することができる。また中間留分から回収さ
れた結晶を上記した有機溶剤で洗浄すれば、より
一層高純度の2,5−キシレノールを得ることが
できる。 本発明法に従つて高純度の2,5−キシレノー
ルを取得するためには、上述した如く中間留分中
のm−クレゾールの含有率を10〜45%程度に保持
する事が不可欠の条件であるが、更に中間留分中
のm−クレゾールの含有率に依つて中間留分を冷
却濾過する温度を適当に選択する事が望ましい。
即ち、中間留分中のm−クレゾール含有率が10%
程度の場合は30〜37℃、含有率が20%程度の場合
は23〜30℃、30%の場合は18〜25℃、40%の場合
は15〜22℃の冷却濾過温度を選択することが望ま
しい。 上記温度範囲より低温になるときは、2,5−
キシレノールの純度が低下し、又高温になるとき
は2,5−キシレノールの回収量が減少する。 以上詳述して来たところから明らかな通り、本
発明に係る2,5−キシレノールの製造法は、
2,3,6−トリメチルフエノールを合成する方
法の一環として実施できる利点があるばかりでな
く、p−キシレンを出発原料とした従来の2,5
−キシレノール製造法の如く、多量の副生物や廃
水を派生する不利もない。ちなみに、本発明の方
法では、オルソメチル化反応混合物から分離され
る未反応メタノールや2,5−キシレノール結晶
を濾別した濾液をオルソメチル化反応系にリサイ
クルすることができる。 実施例 1 特公昭51−36738号に教示されている方法に準
じてm−クレゾールをメタノールでオルソメチル
化し、2,3,6−トリメチルフエノールを含有
する反応混合物を得た。この反応混合物から未反
応メタノール、水を初留分として、2,3,6−
トリメチルフエノールを主留分として精留で分離
し、初留分と主留分の間の中間留分としてm−ク
レゾール43.9%、2,5−キシレノール37.6%、
2,3−キシレノール7.6%、2,3,6−トリ
メチルフエノール4.7%、その他6.2%の組成を有
する中間留分を得た。 上記の中間留分100gを200mlのガラスフラスコ
中でかきまぜながら冷却したところ、15℃で針状
の2,5−キシレノール結晶が析出した。さらに
冷却を続けて10℃迄冷却し、遠心分離機で析出結
晶を濾過した。次いでシクロヘキサン23.6gを用
いて遠心分離機内で結晶を洗浄した結果、ほとん
ど白色の針状結晶性粉末として2,5−キシレノ
ール17gを得た。このものの融点は74〜75℃であ
り、ガスクロマトグラフによる純度は99.5%であ
つた。 実施例 2 実施例1と同様にして得たオルソメチル化反応
混合物を蒸留して取得される中間留分100g(m
−クレゾール30.7%、2,5−キシレノール50.4
%、2,3−キシレノール5.4%、2,3,6−
トリメチルフエノール1.4%、その他12.1%)を
200mlのガラスフラスコ中でかきまぜながら冷却
したところ、37℃で針状の結晶が析出した。さら
に冷却を続けて25℃迄冷却した後、遠心分離機で
結晶を濾過し、引き続きシクロヘキサン26gで結
晶を洗浄した結果、ほとんど白色の針状結晶性粉
末として2,5−キシレノール24gを得た。この
ものの融点は74〜75℃であり、ガスクロマトグラ
フによる純度は99.8%であつた。 実施例 3 実施例1と同様にして得たオルソメチル化反応
混合物を蒸留して取得される中間留分100g(m
−クレゾール10%、2,5−キシレノール72%、
2,3−キシレノール18%)を200mlのガラスフ
ラスコ中でかきまぜながら冷却したところ、40℃
で針状の結晶が析出した。さらに30℃迄冷却後、
遠心分離機で結晶を濾過し、シクロヘキサン70g
で洗浄した結果、ほとんど白色の針状結晶性粉末
として2,5−キシレノール39gを得た。このも
のの融点は73.8〜75℃であり、ガスクロマトグラ
フによる純度は99.2%であつた。 実施例 4 実施例2で用いた中間留分と同一組成の留分
100gにシクロヘキサン20gを加え、200mlのガラ
スフラスコ中でかきまぜながら冷却したところ、
27℃で針状結晶が析出した。さらに15℃迄冷却し
た後、遠心分離機で結晶を濾過し、シクロヘキサ
ン34gで洗浄して白色を呈する2,5−キシレノ
ールの針状結晶性粉末31.6gを得た。このものの
融点は73.8〜75℃であり、ガスクロマトグラフに
よる純度は99.2%であつた。 実施例 5 実施例2で結晶の洗浄に用いたシクロヘキサン
をn−ペンタンに代えた以外は実施例2と同じ操
作を行ない、純度99.5%の2,5−キシレノール
25gを得た。 比較例 2,5−キシレノール80%、2,3−キシレノ
ール20%の混合物30gをシクロヘキサン80gに加
熱溶解させた後、200mlのガラスフラスコ中でか
きまぜながら冷却したところ、30℃で結晶が析出
した。さらに冷却を続けて15℃迄冷却後、遠心分
離器で結晶を濾過し、シクロヘキサン30gで洗浄
して22.5gの白色針状結晶性粉末を得た。このも
ののガスクロマトグラフによる純度は89.2%であ
つて、2,3−キシレノールの混在が認められ
た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 m−クレゾールのメタノールによるオルソメ
    チル化反応にて2,3,6−トリメチルフエノー
    ルを含有する反応混合物を生成させ、この反応混
    合物から精留により未反応のメタノール留分及び
    副生された水留分を初留分とし、次いで未反応の
    m−クレゾールと反応の中間生成物であるキシレ
    ノール類との混合物を中間留分として分取し、最
    後に2,3,6−トリメチルフエノールを主留分
    として収得する際に得られる上記中間留分を冷却
    して結晶を析出させ、その結晶を回収することを
    特徴とする高純度2,5−キシレノールの製造
    法。
JP19568582A 1982-11-08 1982-11-08 高純度2,5−キシレノ−ルの製造法 Granted JPS5984832A (ja)

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