JPS62231B2 - - Google Patents
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- JPS62231B2 JPS62231B2 JP19787683A JP19787683A JPS62231B2 JP S62231 B2 JPS62231 B2 JP S62231B2 JP 19787683 A JP19787683 A JP 19787683A JP 19787683 A JP19787683 A JP 19787683A JP S62231 B2 JPS62231 B2 JP S62231B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/1608—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from pretreatment step, i.e. selective pre-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
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- Toxicology (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジチオシユウ酸金属錯塩を下地液とし
て無電解メツキを行う方法に関するものである。
て無電解メツキを行う方法に関するものである。
無電解メツキの核としてはパラジウムがすぐれ
ており、選択的無電解メツキには感光性のキノン
化合物と塩化パラジウムを組み合せる方法や、塩
化第一スズと塩化パラジウムを組み合せる方法が
行なわれている。また、パラジウムのシユウ酸塩
とマロン酸塩及び有機酸銀もこの目的に用いられ
ている。しかし塩化パラジウムとキノン化合物の
組み合せでは、この他に更に還元剤を加えること
が必要であり、系が複雑になる欠点がある。塩化
パラジウムと塩化第一スズを用いる方法では未照
射部分にメツキが行なわれる、いわゆるポジ型で
ある。パラジウムのシユウ酸塩、マロン酸塩およ
び有機酸銀は水や有機溶剤に不溶であり、このた
めにこれらの高価な化合物を多量に用いることが
必要であり、更にメツキ後の解像力を高めること
も困難である。
ており、選択的無電解メツキには感光性のキノン
化合物と塩化パラジウムを組み合せる方法や、塩
化第一スズと塩化パラジウムを組み合せる方法が
行なわれている。また、パラジウムのシユウ酸塩
とマロン酸塩及び有機酸銀もこの目的に用いられ
ている。しかし塩化パラジウムとキノン化合物の
組み合せでは、この他に更に還元剤を加えること
が必要であり、系が複雑になる欠点がある。塩化
パラジウムと塩化第一スズを用いる方法では未照
射部分にメツキが行なわれる、いわゆるポジ型で
ある。パラジウムのシユウ酸塩、マロン酸塩およ
び有機酸銀は水や有機溶剤に不溶であり、このた
めにこれらの高価な化合物を多量に用いることが
必要であり、更にメツキ後の解像力を高めること
も困難である。
本発明者らはビス（ジチオオクサラト）パラジ
ウム塩が他の化合物と組み合せることなく、単一
で上記の目的に用いることができ、しかも水溶性
であるので、少量用いるのみで十分に上記の目的
を達することができ、解像力も高めることが可能
であることを見出した。更にパラジウムや銀のよ
うな貴金属の使用は資源の有限性や価格の騰貴の
問題があることを考慮して、安価な金属のジチオ
シユウ酸錯塩を用いる方法についても検討し本発
明に至つた。
ウム塩が他の化合物と組み合せることなく、単一
で上記の目的に用いることができ、しかも水溶性
であるので、少量用いるのみで十分に上記の目的
を達することができ、解像力も高めることが可能
であることを見出した。更にパラジウムや銀のよ
うな貴金属の使用は資源の有限性や価格の騰貴の
問題があることを考慮して、安価な金属のジチオ
シユウ酸錯塩を用いる方法についても検討し本発
明に至つた。
即ち本発明は、ジチオシユウ酸金属錯塩水溶液
を被メツキ物の所要部分に塗布乾燥した後に所要
の画像状に露光し、次いでその露光面を化学メツ
キ液で処理することを特徴とする無電解メツキ方
法である。
を被メツキ物の所要部分に塗布乾燥した後に所要
の画像状に露光し、次いでその露光面を化学メツ
キ液で処理することを特徴とする無電解メツキ方
法である。
本発明に用いる感光性の成分はN3M
（C2S2O2）3の化学構造を有するジチオシユウ酸金
属錯酸塩である。前記構造式中、Ｎはカリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土
類金属、またはこの両方の金属を含むものであ
る。Ｍは遷移金属であり、パラジウム、コバルト
を用いることができる。
（C2S2O2）3の化学構造を有するジチオシユウ酸金
属錯酸塩である。前記構造式中、Ｎはカリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土
類金属、またはこの両方の金属を含むものであ
る。Ｍは遷移金属であり、パラジウム、コバルト
を用いることができる。
これらの錯塩は文献に記載の方法で合成するこ
とができる。（日本化学会編：新実験化学講座、
８、丸善（1977）p.1584、Ｆ、Ａ、Bruger and
Ａ、Ｍ、Sargenson、Ｊ、Am、Chem、81、2335
（1959）これらの錯塩の水溶液をメツキを行う部
分に塗布して乾燥する。この感光層に紫外光で所
要の画像状に露光した後に、化学メツキ液に浸漬
してメツキを行う。
とができる。（日本化学会編：新実験化学講座、
８、丸善（1977）p.1584、Ｆ、Ａ、Bruger and
Ａ、Ｍ、Sargenson、Ｊ、Am、Chem、81、2335
（1959）これらの錯塩の水溶液をメツキを行う部
分に塗布して乾燥する。この感光層に紫外光で所
要の画像状に露光した後に、化学メツキ液に浸漬
してメツキを行う。
本発明に用いるメツキ液は次亜リン酸塩あるい
はホルマリンを還元剤とするが、その詳細な組成
は感光性成分であるジチオシユウ酸金属塩の金属
の種類によつても、又メツキする金属によつても
異なる。メツキは銅およびニツケルメツキを行う
ことができる。
はホルマリンを還元剤とするが、その詳細な組成
は感光性成分であるジチオシユウ酸金属塩の金属
の種類によつても、又メツキする金属によつても
異なる。メツキは銅およびニツケルメツキを行う
ことができる。
本発明に用いるジチオシユウ酸金属錯塩は紫外
光のみに感光し、可視光には感光しないので、通
常のケイ光灯の下で作業を行うことができる。
光のみに感光し、可視光には感光しないので、通
常のケイ光灯の下で作業を行うことができる。
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明
する。
する。
実施例 １
ビス（ジチオオクサラト）パラジウムカリウム
（K2〔pd（C2S2O2）2〕）の0.02ｇを１mlの水に溶解
して、10×20mmのジアゾ用紙に塗布して乾燥し
た。これを100Wの超高圧水銀灯で40cmの距離か
ら15〜20分間露光した。これを以下の組成の一次
浴に室温で６〜10分間浸漬した後水洗した。
（K2〔pd（C2S2O2）2〕）の0.02ｇを１mlの水に溶解
して、10×20mmのジアゾ用紙に塗布して乾燥し
た。これを100Wの超高圧水銀灯で40cmの距離か
ら15〜20分間露光した。これを以下の組成の一次
浴に室温で６〜10分間浸漬した後水洗した。
一次浴組成
硫酸銅５水和物 ２ｇ
酒石酸カリウムナトリウム 10ｇ
水酸化ナトリウム 0.8ｇ
ホルマリン（37％） ６ml
全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH9.5〜10に調節する。次で以下の組成の二次
浴に75℃で15分間浸漬した後に、浴を室温に移
し、10分間メツキを続けて、水洗した。露光部分
に銅メツキが行なわれた。
でPH9.5〜10に調節する。次で以下の組成の二次
浴に75℃で15分間浸漬した後に、浴を室温に移
し、10分間メツキを続けて、水洗した。露光部分
に銅メツキが行なわれた。
二次浴組成
硫酸銅５水和物 ２ｇ
酒石酸カリウムナトリウム 10ｇ
水酸化ナトリウム 1.5ｇ
ホルマリン（37％） ８ml
全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH12.0に調節する。
でPH12.0に調節する。
実施例 ２
実施例１と同様にして作成した試料を同様の方
法で15〜20分間露光した後に、以下の組成の一次
浴に室温で10分間浸漬して水洗した。
法で15〜20分間露光した後に、以下の組成の一次
浴に室温で10分間浸漬して水洗した。
一次浴組成
硫酸ニツケル７水和物 ６ｇ
クエン酸ニアンモニウム ５ｇ
次亜リン酸ナトリウム１水和物 ６ｇ
水酸化ナトリウム ２ｇ
全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH８に調節する。
でPH８に調節する。
これを以下の組成の二次浴に75℃で20分間浸漬
した後に、浴を室温に移し、５分間メツキを続け
て、水洗した。これにより、露光部分にニツケル
メツキが行われた。
した後に、浴を室温に移し、５分間メツキを続け
て、水洗した。これにより、露光部分にニツケル
メツキが行われた。
二次浴組成
硫酸ニツケル７水和物 12ｇ
クエン酸ニアンモニウム 10ｇ
次亜リン酸ナトリウム１水和物 12ｇ
水酸化ナトリウム ２ｇ
全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH11に調節する。
でPH11に調節する。
実施例 ３
トリス（ジチオオクサラト）コバルトカリウム
カルシウム（KCa〔Co（C2S2O2）3〕・6H2O）の
0.03ｇを水１mlに溶解して、実施例１と同様に塗
布し、乾燥した。実施例１と同様の方法で30〜40
分間露光して、以下の組成の一次浴に室温で15分
間浸漬した後に、水洗した。
カルシウム（KCa〔Co（C2S2O2）3〕・6H2O）の
0.03ｇを水１mlに溶解して、実施例１と同様に塗
布し、乾燥した。実施例１と同様の方法で30〜40
分間露光して、以下の組成の一次浴に室温で15分
間浸漬した後に、水洗した。
一次浴組成
塩化ニツケル６水和物 12ｇ
クエン酸ニアンモニウム ９ｇ
次亜リン酸ナトリウム１水和物 11ｇ
水酸化ナトリウム 0.5ｇ
エチレンジアミン四醋酸ニナトリウム 0.1ｇ
全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム又は
塩酸溶液でPH６に調節する。
塩酸溶液でPH６に調節する。
これを以下の組成の二次浴に90℃で10分間浸漬
した後に、浴を室温に移して、更に10分間メツキ
を続けた。これにより露光部分にニツケルメツキ
が行われた。
した後に、浴を室温に移して、更に10分間メツキ
を続けた。これにより露光部分にニツケルメツキ
が行われた。
二次浴組成
塩化ニツケル６水和物又は（硫酸ニツケル７水
和物） 12ｇ クエン酸ニアンモニウム ９ｇ 次亜リン酸ナトリウム１水和物 11ｇ 水酸化ナトリウム 0.8ｇ エチレンジアミン四醋酸ニナトリウム 0.1ｇ 全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH９〜10に調節する。
和物） 12ｇ クエン酸ニアンモニウム ９ｇ 次亜リン酸ナトリウム１水和物 11ｇ 水酸化ナトリウム 0.8ｇ エチレンジアミン四醋酸ニナトリウム 0.1ｇ 全体を水で100mlにし、水酸化ナトリウム溶液
でPH９〜10に調節する。
実施例 ４
実施例３と同様の試料を同様の方法で30分間露
光した。これを１％硫酸銅水溶液に20分間室温で
浸漬した後に、簡単に水洗した。更に以下の組成
の二次浴に室温で2.5時間浸漬した。これにより
露光部分に銅メツキが行われた。
光した。これを１％硫酸銅水溶液に20分間室温で
浸漬した後に、簡単に水洗した。更に以下の組成
の二次浴に室温で2.5時間浸漬した。これにより
露光部分に銅メツキが行われた。
二次浴組成
硫酸銅５水和物 ３ｇ
酒石酸カリウムナトリウム 10ｇ
エチレンジアミン四醋酸ニナトリウム 1.2ｇ
水酸化ナトリウム １ｇ
ホルマリン（37％） ６ml
全体を100mlにし、水酸化ナトリウム溶液でPH
12.5に調節する。
12.5に調節する。
Claims (1)
- １ ジチオシユウ酸金属錯塩水溶液を被メツキ物
の所定部分に塗布乾燥した後、所要の画像状に露
光し、次いでその露光面を化学メツキ液で処理す
ることを特徴とする無電解メツキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19787683A JPS6089576A (ja) | 1983-10-22 | 1983-10-22 | 無電解メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19787683A JPS6089576A (ja) | 1983-10-22 | 1983-10-22 | 無電解メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6089576A JPS6089576A (ja) | 1985-05-20 |
| JPS62231B2 true JPS62231B2 (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=16381784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19787683A Granted JPS6089576A (ja) | 1983-10-22 | 1983-10-22 | 無電解メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6089576A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222707U (ja) * | 1985-07-24 | 1987-02-12 |
-
1983
- 1983-10-22 JP JP19787683A patent/JPS6089576A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222707U (ja) * | 1985-07-24 | 1987-02-12 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6089576A (ja) | 1985-05-20 |
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