JPS6252677B2 - - Google Patents
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- JPS6252677B2 JPS6252677B2 JP55041584A JP4158480A JPS6252677B2 JP S6252677 B2 JPS6252677 B2 JP S6252677B2 JP 55041584 A JP55041584 A JP 55041584A JP 4158480 A JP4158480 A JP 4158480A JP S6252677 B2 JPS6252677 B2 JP S6252677B2
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 2
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M1/00—Testing static or dynamic balance of machines or structures
- G01M1/30—Compensating imbalance
- G01M1/34—Compensating imbalance by removing material from the body to be tested, e.g. from the tread of tyres
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高速度で回転する回転体の表面を能
率良くしかも高精度に除去加工し得るようにした
回転体の表面除去加工装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a surface removal processing apparatus for a rotating body that is capable of removing the surface of a rotating body rotating at a high speed efficiently and with high precision.
従来、モータ回転子等のダイナミツクバランス
を調整する一手法として、レーザビームで不平衡
部分を除去加工することが多く行なわれている。
この場合、加工用レーザビームとしては、パルス
出力を大きくできることから、ネオジウムガラス
レーザやルビーレーザにより発生したスパイク波
の連続発振パルス(第1図a)が用いられてい
る。ところが、上記ネオジウムガラスレーザやル
ビーレーザは、各スパイク波の繰り返し発振周期
が比較的長いため、単位時間当りの除去加工量に
限界があり、加工能率の向上を望めないといつた
難点があつた。 Conventionally, as a method for adjusting the dynamic balance of a motor rotor, etc., an unbalanced portion is often removed using a laser beam.
In this case, as the laser beam for processing, a continuous oscillation pulse of spike waves (FIG. 1a) generated by a neodymium glass laser or a ruby laser is used because the pulse output can be increased. However, the above-mentioned neodymium glass laser and ruby laser have a relatively long repetitive oscillation period of each spike wave, so there is a limit to the amount of removal per unit time, and there is a drawback that improvement in processing efficiency cannot be expected. .
そこで、加工能率の向上をはかるため、繰り返
し発振速度の高速化が可能なYAGレーザの使用
が試みられている。しかるに、このYAGレーザ
では、ノーマルパルス波形を得ようとする際に、
パルス幅を一定に保持したまま繰り返し発振速度
を増加すると、スパイク波形が減少して第1図b
に示す如くパルス出力の最大ピーク値が低下し、
除去加工量の低下を招く。この除去加工量の低下
は、特に回転体の回転速度が高速になると急激に
大きくなり、このためYAGレーザは回転体の高
速回転領域には適用できず、このため、加工能率
の向上の要求に応えることができなかつた。 Therefore, in order to improve processing efficiency, attempts are being made to use YAG lasers that can increase the repetition rate of oscillation. However, with this YAG laser, when trying to obtain a normal pulse waveform,
When the oscillation rate is repeatedly increased while keeping the pulse width constant, the spike waveform decreases and is shown in Figure 1b.
As shown in the figure, the maximum peak value of the pulse output decreases,
This results in a decrease in the amount of removal processing. This reduction in the amount of removed machining increases rapidly, especially when the rotational speed of the rotating body increases, and for this reason, YAG lasers cannot be applied to the high-speed rotation region of the rotating body, and for this reason, the demand for improved machining efficiency is I couldn't respond.
本発明は上記事情に着目してなされたもので、
その目的とするところは、スパイク波の少ない高
速繰り返しレーザビームを用いても、除去加工量
を低下させずに特に回転体の高速回転領域におい
て十分な除去加工を行ない得、能率良くしかも高
精度にダイナミツクバランスの調整を行ない得る
回転体の表面除去加工装置を提供することにあ
る。 The present invention has been made focusing on the above circumstances,
The purpose of this is to be able to perform sufficient removal processing, especially in the high-speed rotation region of rotating objects, without reducing the removal amount even if a high-speed repetitive laser beam with few spike waves is used, and to achieve efficient and high-precision removal. An object of the present invention is to provide a surface removal processing device for a rotating body capable of adjusting dynamic balance.
すなわち、本発明はパルスレーザビームの立上
がり部にピーク値の高いパルス波形を形成して回
転体に照射することにより、上記高ピーク波によ
つて被加工部位を十分加熱し光吸収率を高め、そ
の後の低レベルのレーザビームにより被加工部位
を除去加工し、これにより回転体の高速回転領域
においても十分な除去加工を行ない得るように
し、しかも回転体の被加工部位を検出し、この被
加工部位の中心位置検出タイミングよりも所定時
間だけ早めてレーザロツドの励起を開始せしめる
ことにより、被加工部位を片寄ることなく均一に
しかも正確に除去加工し得るようにするものであ
る。 That is, the present invention forms a pulse waveform with a high peak value at the rising edge of a pulsed laser beam and irradiates the rotating body with the pulse waveform, thereby sufficiently heating the processed part with the high peak wave and increasing the light absorption rate. After that, the part to be machined is removed using a low-level laser beam, which enables sufficient removal even in the high-speed rotation region of the rotating body. By starting the excitation of the laser rod a predetermined time earlier than the timing of detecting the center position of the part, it is possible to uniformly and accurately remove the part to be processed without shifting the part.
以下、本発明を図面に示す一実施例を参照して
説明する。第2図は同実施例における回転体の表
面除去加工装置の概略構成図で、図中1は加工用
レーザ装置を示している。この加工用レーザ装置
1は、励起電源2によりフラツシユランプ3を駆
動してレーザ励起光を発光させ、この励起光を集
光反射鏡4で集光反射してYAGレーザロツド5
に供給し、YAGレーザロツド5を励起してい
る。そして、このYAGレーザロツド5から高速
繰り返し速度で発振出力されたパルスレーザビー
ム6を、集光レンズ7を介して回転体8表面の被
加工部位に集光照射している。なお、図中9a,
9bは共振器ミラーを示すものである。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to an embodiment shown in the drawings. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a surface removal processing apparatus for a rotating body in the same embodiment, and numeral 1 in the figure indicates a processing laser apparatus. This processing laser device 1 drives a flash lamp 3 using an excitation power source 2 to emit laser excitation light, and the excitation light is condensed and reflected by a condensing reflector 4 to a YAG laser rod 5.
and excites the YAG laser rod 5. A pulsed laser beam 6 oscillated and output from the YAG laser rod 5 at a high repetition rate is condensed and irradiated onto a part to be processed on the surface of the rotating body 8 via a condensing lens 7. In addition, in the figure, 9a,
9b indicates a resonator mirror.
一方、回転体8は、回転軸10を介して軸受1
1に支持されており、この軸受11は弾性部材1
2を介して基体13に固定されている。そして、
回転体8は図示しない電動機により回転駆動され
ている。ところで、上記軸受11および回転体1
0の側面部には、それぞれ振動検出器14および
回転位相検出器15が近接配置してあり、これら
の各検出器14,15の検出出力はそれぞれ加工
制御回路16に導びかれている。この加工制御回
路16は、上記振動検出器14の検出出力から回
転体8の被加工部位、つまり除去加工すべき部位
を検出するとともに、この被加工部位が前記レー
ザビーム6照射位置上を通過するタイミングを、
上記回転位相検出器15の検出出力に基づいて検
出している。なお、上記回転体8の回転位相は、
回転体8に予め標示してある指標の通過タイミン
グを検出することによりなされる。そして、上記
加工制御回路16は、先に検出した被加工部位の
中心位置検出タイミングよりも所定時間早めてレ
ーザ制御信号を発生し、このレーザ制御信号を前
記加工用レーザ装置1の励起電源2に供給してい
る。 On the other hand, the rotating body 8 is connected to the bearing 1 via the rotating shaft 10.
1, and this bearing 11 is supported by the elastic member 1.
It is fixed to the base body 13 via 2. and,
The rotating body 8 is rotationally driven by an electric motor (not shown). By the way, the bearing 11 and the rotating body 1
A vibration detector 14 and a rotational phase detector 15 are arranged close to each other on the side surface of the machine 0, and the detection outputs of these detectors 14 and 15 are led to a processing control circuit 16, respectively. This processing control circuit 16 detects a part of the rotating body 8 to be processed, that is, a part to be removed, from the detection output of the vibration detector 14, and also detects a part to be processed that is to be removed and passes over the irradiation position of the laser beam 6. timing,
Detection is performed based on the detection output of the rotational phase detector 15. Note that the rotational phase of the rotating body 8 is as follows:
This is done by detecting the passing timing of a mark marked on the rotating body 8 in advance. Then, the processing control circuit 16 generates a laser control signal a predetermined time earlier than the previously detected center position detection timing of the processed part, and sends this laser control signal to the excitation power source 2 of the processing laser device 1. supplying.
ところで、第3図は上記励起電源2の回路構成
を示すもので、図中3はフラツシユランプを示し
ている。このフラツシユランプ3の外周部には起
動用トリガ電極17が巻回してあり、この起動用
トリガ電極17は高圧パルス回路18に接続され
ている。この高圧パルス回路18は、前記加工制
御回路16から加工制御信号が発生されたとき
に、トリガ電極17に対して起動トリガパルスを
発生するものである。一方、この励起電源2は低
圧と高圧の2個の充電用電源19,20を備えて
いる。低圧電源19の出力は、コンデンサ21,
22,23にコイル24,25を通して充電す
る。そして、このコンデンサ23の充電電荷は、
前記フラツシユランプ3のトリガ起動時にダイオ
ード26およびコイル27を介してフラツシユラ
ンプ3に供給され、フラツシユランプ3で放電す
るようになつている。また、高圧電源20の出力
は、一旦コンデンサ28に蓄えられたのち、サイ
リスタ29の点弧によりコイル30を介して前記
フラツシユランプ3に供給され、フラツシユラン
プ3で放電する。ここで、上記サイリスタ29の
点弧タイミングは、前記フラツシユランプ3の起
動タイミングよりも少々遅れて定められる。 By the way, FIG. 3 shows the circuit configuration of the excitation power source 2, and 3 in the figure indicates a flash lamp. A starting trigger electrode 17 is wound around the outer periphery of the flash lamp 3, and this starting trigger electrode 17 is connected to a high voltage pulse circuit 18. This high-voltage pulse circuit 18 generates an activation trigger pulse to the trigger electrode 17 when a machining control signal is generated from the machining control circuit 16. On the other hand, this excitation power source 2 includes two charging power sources 19 and 20, one low voltage and one high voltage. The output of the low voltage power supply 19 is connected to a capacitor 21,
22 and 23 are charged by passing coils 24 and 25 through them. The charge of this capacitor 23 is
When the flash lamp 3 is activated by a trigger, it is supplied to the flash lamp 3 via a diode 26 and a coil 27, and is discharged in the flash lamp 3. Further, the output of the high voltage power supply 20 is temporarily stored in the capacitor 28, and then supplied to the flash lamp 3 via the coil 30 by firing of the thyristor 29, and is discharged in the flash lamp 3. Here, the ignition timing of the thyristor 29 is determined to be a little later than the activation timing of the flash lamp 3.
次に、以上のように構成された装置の作用を説
明する。被加工物としての回転体8を軸受11に
セツトし回転させると、軸受11が弾性部材12
を介して支持されているため、回転体8はその重
量のアンバランスに従つて振動を始める。この振
動は、振動検出器14によりその静電容量変化や
インダクタンス変化を利用した検出器出力等とし
て第4図HSの如く検出され、また同時に回転位
相検出器15によつて回転体8の回転位相が第4
図CSの如く検出される。これにより、加工制御
回路16は、上記振動検出出力HSから所定のス
レツシユホールドレベルX以上となる振動部分、
つまり回転体8の被加工部位を検出し、さらにこ
の被加工部位の中心位置Aがレーザビーム照射位
置を通過するタイミングを、前記回転位相検出出
力CSに基づいて検出する。すなわち、被加工部
位の中心位置Aは、回転位相検出パルスCSの発
生タイミングからT1時間後として検出される。
ここで、この被加工部位の中心位置Aの通過タイ
ミングにおいてレーザビームを照射すると、被加
工部位は上記中心位置以降しか除去されないこと
になる。したがつて、レーザビームの照射開始タ
イミングは、上記中心位置Aの通過タイミングよ
りも所定時間早めて定める必要がある。この早め
る時間は、第4図に示す如く上記中心位置Aの通
過タイミングとスレツシユホールドレベルX以上
となる最初のタイミング(Bに相当)との差T2
に相当する。そこで、加工制御回路16は、前記
中心位置通過時間T1と上記T2との差を算出し、
この差T3だけ前記回転位相検出パルスCSを遅延
させてこの遅延パルスをレーザ制御信号として加
工用レーザ装置1の励起電源2に供給する。この
ようにレーザ制御信号が供給されると、励起電源
2はフラツシユランプ3を発光させ、この結果
YAGレーザロツド5が励起されてスパイク波の
繰り返し発振周期の短かいパルス状レーザビーム
6が回転体8の被加工部位に照射され、除去加工
がなされる。このとき、上記レーザビーム6の照
射開始タイミングは、被加工部位の中心位置A通
過タイミングよりも早めてあるので、回転体8の
表面は第5図に示す如く被加工部位の前後の領域
にわたつて除去加工される。なお、第5図中
A′およびB′はそれぞれ被加工部位の中心位置お
よび最先端に相当する位置を示している。 Next, the operation of the device configured as above will be explained. When the rotating body 8 as a workpiece is set on the bearing 11 and rotated, the bearing 11 is moved to the elastic member 12.
Since the rotating body 8 is supported via the rotating body 8, the rotating body 8 starts to vibrate according to the unbalance of its weight. This vibration is detected by the vibration detector 14 as a detector output using changes in capacitance and inductance, as shown in FIG. is the fourth
It is detected as shown in Figure CS. As a result, the machining control circuit 16 detects a vibrating portion that is equal to or higher than a predetermined threshold level X from the vibration detection output HS,
That is, the machined part of the rotating body 8 is detected, and the timing at which the center position A of the machined part passes through the laser beam irradiation position is detected based on the rotational phase detection output CS. That is, the center position A of the part to be machined is detected as T1 hours after the generation timing of the rotational phase detection pulse CS.
Here, if the laser beam is irradiated at the timing of passing the center position A of the part to be processed, the part to be processed will be removed only after the center position. Therefore, the laser beam irradiation start timing needs to be set a predetermined time earlier than the passing timing of the center position A. This advance time is determined by the difference T 2 between the passing timing of the center position A and the first timing (corresponding to B) at which the threshold level becomes higher than the threshold level X, as shown in Fig. 4.
corresponds to Therefore, the processing control circuit 16 calculates the difference between the center position passing time T1 and the T2 ,
The rotational phase detection pulse CS is delayed by this difference T 3 and this delayed pulse is supplied to the excitation power source 2 of the processing laser device 1 as a laser control signal. When the laser control signal is supplied in this way, the excitation power supply 2 causes the flash lamp 3 to emit light, and as a result,
The YAG laser rod 5 is excited and a pulsed laser beam 6 with a short repeating oscillation cycle of spike waves is irradiated onto the portion of the rotating body 8 to be processed, thereby performing removal processing. At this time, since the irradiation start timing of the laser beam 6 is earlier than the timing of passage of the center position A of the part to be processed, the surface of the rotating body 8 extends over the area before and after the part to be processed, as shown in FIG. It is processed to remove it. In addition, in Figure 5
A' and B' respectively indicate the center position and the position corresponding to the leading edge of the processed part.
さて、前記回転体8に照射されるレーザビーム
6の波形は次のように定められる。すなわち、励
起電源18の高圧パルス回路18に前記加工制御
回路16からレーザ制御信号が供給されると、フ
ラツシユランプ3はトリガ起動され、先ずコンデ
ンサ23,22,21の蓄積電荷が波形整形用の
コイル27を介して第6図aに示す如くフラツシ
ユランプ3に放電される。続いて時刻t2において
サイリスタ29が点弧され、これによりコンデン
サ28の蓄積電荷が第6図bに示す如くフラツシ
ユランプ3で放電する。この結果、フラツシユラ
ンプ3からは、上記各放電電流波形がそれぞれ重
畳された第6図cに示す如き発光パルスが出力さ
れ、またYAGレーザロツド5はこの発光パルス
により第6図dに示す如くパルス状のレーザビー
ム6を発生する。ここで、上記フラツシユランプ
3から出力される発光パルスの立上がり時の高ピ
ーク波形は、時刻t1〜t2においてフラツシユラン
プ3が十分放電してプラズマが充満し、放電抵抗
が低い状態になつているため、立上がりの急峻な
ものとなる。また、レーザロツド5から発振され
るレーザビームの立上がり時の高ピーク波形も、
t1〜t2においてレーザロツド5が発振開始可能な
励起レベルまで引き上げられているので、急峻な
ものとなる。なお、レーザロツド5の発振開始タ
イミングは、上記したようにt2となつてフラツシ
ユランプ3の発光開始タイミングt1よりも多少遅
れることになる。したがつて、励起電源2の動作
開始タイミング、つまり加工制御回路16のレー
ザ制御信号発生タイミングを、第4図B点よりも
上記t2−t1だけさらに早めることにより、上記t2
−t1分のレーザビーム照射開始タイミングの遅れ
は吸収されて回転体8の被加工開始位置がより一
層正確に定まる。 Now, the waveform of the laser beam 6 irradiated onto the rotating body 8 is determined as follows. That is, when a laser control signal is supplied from the processing control circuit 16 to the high-voltage pulse circuit 18 of the excitation power source 18, the flash lamp 3 is triggered and first, the charges accumulated in the capacitors 23, 22, and 21 are used for waveform shaping. It is discharged through the coil 27 to the flash lamp 3 as shown in FIG. 6a. Subsequently, at time t2 , the thyristor 29 is ignited, whereby the charge stored in the capacitor 28 is discharged in the flash lamp 3, as shown in FIG. 6b. As a result, the flash lamp 3 outputs a light emitting pulse as shown in FIG. 6c, in which each of the above-mentioned discharge current waveforms is superimposed, and the YAG laser rod 5 is activated by this light emitting pulse as shown in FIG. 6d. A laser beam 6 of the shape is generated. Here, the high peak waveform at the rise of the light emission pulse output from the flash lamp 3 is caused by the flash lamp 3 being sufficiently discharged and filled with plasma between times t1 and t2 , and the discharge resistance being low. Because it is curved, it has a steep rise. In addition, the high peak waveform at the rise of the laser beam oscillated from the laser rod 5 also
Since the excitation level is raised to the level at which the laser rod 5 can start oscillation between t1 and t2 , the excitation level becomes steep. Incidentally, the oscillation start timing of the laser rod 5 is t2 , which is somewhat delayed from the emission start timing t1 of the flash lamp 3, as described above. Therefore, by advancing the operation start timing of the excitation power source 2, that is, the laser control signal generation timing of the processing control circuit 16, by the above-mentioned t 2 −t 1 from point B in FIG. 4, the above-mentioned t 2
-t The delay in the laser beam irradiation start timing of 1 minute is absorbed, and the processing start position of the rotating body 8 is determined more accurately.
そうして、上記のようにして得たレーザパルス
出力(レーザビーム6)を回転体8表面に照射す
ると、その被照射部は上記立上がり時の急峻な高
ピーク波により十分に加熱されてレーザ光の光吸
収率が高められ、その後のレーザパルスのレベル
が低くスパイク状の波形が生じていなくても、回
転体8表面は十分深く除去加工される。このと
き、上記除去加工量は、レーザビームとして高速
繰り返し発振するYAGレーザを用いた場合、特
に回転体8の回転速度が高速になるに従つて著し
く低下し、第7図ロに示す如く回転速度がνAを
超えると除去加工量m1以下となつて加工不能に
なる。ところが、本実施例のように立上がりに急
峻で高ピークの波形を形成したレーザパルスを使
用すると、回転体8の除去加工量は第7図イに示
す如く大幅に増加し、特に回転体8の高速回転領
域νA〜νBにおいてもm1以上の除去加工が可能
となる。 Then, when the laser pulse output (laser beam 6) obtained as described above is irradiated onto the surface of the rotating body 8, the irradiated part is sufficiently heated by the steep high peak wave at the rise time, and the laser beam is emitted. The light absorption rate of the rotating body 8 is increased, and even if the level of the subsequent laser pulse is low and no spike-like waveform is generated, the surface of the rotating body 8 can be removed sufficiently deeply. At this time, when a YAG laser that repeatedly oscillates at high speed is used as the laser beam, the amount of removed processing decreases significantly as the rotational speed of the rotating body 8 increases, and as shown in FIG. If exceeds ν A , the amount of removal machining becomes less than m 1 and machining becomes impossible. However, when a laser pulse with a steep rise and a high peak waveform is used as in this embodiment, the amount of removal of the rotating body 8 increases significantly as shown in FIG. Even in the high-speed rotation region ν A to ν B , removal of m 1 or more is possible.
このように、本実施例の装置によれば、回転体
8に対して立上がり時に急峻で高ピークの波形を
形成したレーザビームを照射することによつて、
高速繰り返し発振動作によりスパイク状波形が著
しく減少した低出力レベルのレーザビームを使用
しても、十分深い除去加工を行なうことができ、
特に回転体8の高速回転領域においても十分な除
去加工量を得ることができる。この結果、加工速
度を大幅に向上させ得て、加工能率の向上をはか
ることができる。また、レーザビームを回転体8
に照射する際に、回転体8の振動から被加工部位
を検出し、この被加工部位の中心位置通過タイミ
ングよりも所定時間早く励起電源2を起動させて
レーザビーム6を発生させているので、回転体8
の被加工部位全域を片寄ることなく均一にしかも
正確に除去加工することができ、高精度のダイナ
ミツクバランスの調整を行なうことができる。 As described above, according to the apparatus of this embodiment, by irradiating the rotating body 8 with a laser beam that forms a steep, high-peak waveform at the time of startup,
Even using a low-output laser beam with significantly reduced spike-like waveforms due to high-speed repetitive oscillation, sufficiently deep removal can be achieved.
In particular, even in the high speed rotation region of the rotating body 8, a sufficient removal amount can be obtained. As a result, the machining speed can be significantly increased, and machining efficiency can be improved. In addition, the laser beam is
When irradiating the laser beam, the part to be machined is detected from the vibration of the rotating body 8, and the excitation power source 2 is activated a predetermined time earlier than the timing when the part to be machined passes the center position to generate the laser beam 6. Rotating body 8
The entire area to be machined can be removed uniformly and accurately without being biased, and the dynamic balance can be adjusted with high precision.
なお、本発明は上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、回転体8が熱伝導の良い材質の
場合には、高ピークの波形を1ケ所だけではなく
2ケ所以上に形成するようにしてもよい。この場
合には、励起電源2の構成およびフラツシユラン
プ3の駆動タイミングを適宜制御することにより
簡単に実施できる。この結果、加工能率をより高
めることができる。また、除去加工量の調整、つ
まり除去加工深さの調整は、高ピーク波形のパル
ス幅を制御することにより容易に行ない得る。さ
らに、加工用レーザ装置としては、高速繰り返し
発振を行なえるものであれば如何なるものを適用
してもよく、その他高ピーク波を形成したレーザ
ビームを発生させる手段および回転体8の被加工
部位検出手段等についても、本発明の要旨を逸脱
しない範囲で種種変形して実施できる。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments. For example, if the rotating body 8 is made of a material with good thermal conductivity, the high-peak waveform may be formed not only at one location but at two or more locations. In this case, this can be easily implemented by appropriately controlling the configuration of the excitation power source 2 and the drive timing of the flash lamp 3. As a result, processing efficiency can be further improved. Further, the amount of removal processing, that is, the adjustment of the depth of removal processing, can be easily performed by controlling the pulse width of the high peak waveform. Further, as the laser device for processing, any device that can perform high-speed repetitive oscillation may be used, and other means for generating a laser beam with a high peak wave and detecting the portion to be processed on the rotating body 8 may be used. The means and the like can be modified in various ways without departing from the gist of the present invention.
以上詳述したように本発明によれば、高速繰り
返し発振によりスパイク波の減少したYAGレー
ザビームを用いたとしても、加工除去量を減少さ
せずに、特に回転体の高速回転領域において十分
な除去加工を行ない得て加工能率が高く、しかも
高精度のダイナミツクバランスの調整を行ない得
る回転体の表面除去加工装置を、ここに提供する
ことができる。 As detailed above, according to the present invention, even if a YAG laser beam with reduced spike waves due to high-speed repetitive oscillation is used, sufficient removal can be achieved without reducing the amount of machining removal, especially in the high-speed rotation region of the rotating body. Here, it is possible to provide a surface removal processing apparatus for a rotating body that can perform processing, have high processing efficiency, and also adjust dynamic balance with high accuracy.
第1図a,bは本発明の従来説明に用いるため
のレーザパルス波形図、第2図〜第7図は本発明
の一実施例を説明するための図で、第2図は回転
体の表面除去加工装置の概略構成図、第3図はレ
ーザ励起電源の概略構成図、第4図〜第7図は作
用説明に用いるための図である。
1……加工用レーザ装置、2……励起電源、3
……フラツシユランプ、5……YAGレーザロツ
ド、6……レーザビーム、8……回転体、11…
…軸受、12……弾性部材、14……振動検出
器、15……回転位相検出器、16……加工制御
回路。
Figures 1a and 1b are laser pulse waveform diagrams for use in explaining the conventional method of the present invention, Figures 2 to 7 are diagrams for explaining an embodiment of the present invention, and Figure 2 is a diagram of a rotating body. FIG. 3 is a schematic diagram of the surface removal processing apparatus, FIG. 3 is a schematic diagram of the laser excitation power source, and FIGS. 4 to 7 are diagrams used to explain the operation. 1... laser device for processing, 2... excitation power source, 3
...Flash lamp, 5...YAG laser rod, 6...Laser beam, 8...Rotating body, 11...
... Bearing, 12 ... Elastic member, 14 ... Vibration detector, 15 ... Rotation phase detector, 16 ... Processing control circuit.
Claims (1)
発振器を励起して回転体の表面にレーザビームを
照射し、回転体の表面除去加工を行なう回転体の
表面除去加工装置において、回転体表面の被加工
部位を検出する手段と、この手段により検出した
被加工部位の中心位置検出タイミングよりも所定
時間だけ早めて前記レーザ励起ランプの発光動作
を開始せしめる手段と、前記レーザ励起ランプか
ら発生される発光パルス波形の発光動作開始時に
ピーク値の高い波形を形成する手段とを具備した
ことを特徴とする回転体の表面除去加工装置。1 In a surface removal processing device for a rotating body that excites a solid-state laser oscillator with a light emission pulse of a laser excitation lamp and irradiates the surface of a rotating body with a laser beam to remove the surface of the rotating body, a part to be processed on the surface of the rotating body is removed. means for detecting, means for starting the light emitting operation of the laser excitation lamp a predetermined time earlier than the detection timing of the center position of the processed part detected by the means, and a light emission pulse waveform generated from the laser excitation lamp. 1. A surface removal processing device for a rotating body, comprising means for forming a waveform with a high peak value at the start of a light emission operation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4158480A JPS56138231A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Surface removing and working equipment of rotary body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4158480A JPS56138231A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Surface removing and working equipment of rotary body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56138231A JPS56138231A (en) | 1981-10-28 |
| JPS6252677B2 true JPS6252677B2 (en) | 1987-11-06 |
Family
ID=12612475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4158480A Granted JPS56138231A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Surface removing and working equipment of rotary body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56138231A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5989789U (en) * | 1982-12-08 | 1984-06-18 | 株式会社シマノ | caliper brake |
| EP3139044B1 (en) * | 2015-09-04 | 2020-04-22 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Method for balancing a rotor of a vacuum pump or a rotor of a rotary unit for a vacuum pump |
| CN105108345B (en) * | 2015-09-21 | 2017-06-27 | 北京航天控制仪器研究所 | A laser precision weight removal system and method |
-
1980
- 1980-03-31 JP JP4158480A patent/JPS56138231A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56138231A (en) | 1981-10-28 |
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