JPS629668B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS629668B2 JPS629668B2 JP56022607A JP2260781A JPS629668B2 JP S629668 B2 JPS629668 B2 JP S629668B2 JP 56022607 A JP56022607 A JP 56022607A JP 2260781 A JP2260781 A JP 2260781A JP S629668 B2 JPS629668 B2 JP S629668B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- central axis
- evaporation
- base material
- cooling roller
- molten metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子成形物等の可撓性基材上に単金
属、合金等の被膜を蒸着にて形成する方法の改良
に関するもので、特に機能素子として最近注目さ
れている。磁気記録媒体やエネルギー変換装置を
蒸着にて効率よく作るときにきわめて有効な方法
の提供を目的としている。
属、合金等の被膜を蒸着にて形成する方法の改良
に関するもので、特に機能素子として最近注目さ
れている。磁気記録媒体やエネルギー変換装置を
蒸着にて効率よく作るときにきわめて有効な方法
の提供を目的としている。
従来知られる連続、半連続の巻き取り蒸着機で
とられる蒸着方法においては、溶湯を入れる蒸発
容器が、基材の受け止める熱を効率よく伝達して
冷却する冷却ローラーに直下に配設されているこ
とから指向性について、特に言及されていなかつ
た。
とられる蒸着方法においては、溶湯を入れる蒸発
容器が、基材の受け止める熱を効率よく伝達して
冷却する冷却ローラーに直下に配設されているこ
とから指向性について、特に言及されていなかつ
た。
一般に知られるように、余弦法則が適用される
場合がほとんどで、しかも蒸着量の分布は対称で
あつた。
場合がほとんどで、しかも蒸着量の分布は対称で
あつた。
しかし、磁気テープの製造法で既に提供してい
るように、冷却ローラの中心軸と一致しない蒸発
源の配設が重要になつてきている。
るように、冷却ローラの中心軸と一致しない蒸発
源の配設が重要になつてきている。
本発明は、かかる配置関係において、所望の機
能を低下させることなく、かつ蒸着効率の著しい
向上を果せるものである。このことは、より長尺
の基材に目的とする被膜を形成することを容易に
するという利点を有している。
能を低下させることなく、かつ蒸着効率の著しい
向上を果せるものである。このことは、より長尺
の基材に目的とする被膜を形成することを容易に
するという利点を有している。
以下、本発明の方法の詳細について、図面を用
いて詳細に述べる。
いて詳細に述べる。
真空容器１の内部は排気装置２によつて、
10-4Torr〜10-6Torrの範囲内の圧力に必要に応
じて保持される。あるいは目的により酸素等の反
応性気体を可変リーク弁（図示せず）の調節によ
り、導入し、所定の圧力を保持する。
10-4Torr〜10-6Torrの範囲内の圧力に必要に応
じて保持される。あるいは目的により酸素等の反
応性気体を可変リーク弁（図示せず）の調節によ
り、導入し、所定の圧力を保持する。
冷却ローラー３の周側面に沿つて、ポリエステ
ルフイルム等の高分子成形物基材４が冷却ローラ
ー３の回転と同期して矢印Ａ方向へ移動搬送され
るよう構成される。なお、５は基材４の送り出し
軸であり、６はその巻き取り軸である。蒸発源７
の中心軸すなわち溶湯１２の液面の法線８と冷却
ローラー３の中心軸と交差する鉛直線９と一致し
ないように、すなわち従来の冷却ローラ３直下か
らずらした位置、好ましくは基材４が移動する方
向Ａに対抗する側に配設されている。しかし冷却
ローラー３の直下に蒸発源７を配設した場合にお
いても勿論本発明の効果は充分得られるものであ
ることはいうまでもない。
ルフイルム等の高分子成形物基材４が冷却ローラ
ー３の回転と同期して矢印Ａ方向へ移動搬送され
るよう構成される。なお、５は基材４の送り出し
軸であり、６はその巻き取り軸である。蒸発源７
の中心軸すなわち溶湯１２の液面の法線８と冷却
ローラー３の中心軸と交差する鉛直線９と一致し
ないように、すなわち従来の冷却ローラ３直下か
らずらした位置、好ましくは基材４が移動する方
向Ａに対抗する側に配設されている。しかし冷却
ローラー３の直下に蒸発源７を配設した場合にお
いても勿論本発明の効果は充分得られるものであ
ることはいうまでもない。
１０は蒸発源７からの蒸気流の一部分をさえぎ
るためのマスクであり、磁気テープの製造におい
て高い保磁力を得る場合よく使用されるものであ
るが、これは必ずしも不可欠な要素ではない。１
１は回転ローラーである。図では蒸発源７を模式
的に示してある。すなわち、溶湯１２は蒸発容器
１３内で高温に保持されている。本発明で特に重
要な点は溶湯１２の液面の法線８と、蒸気流の指
向性の中心軸１４もしくは同１５とが一致してい
ないということである。すなわち、それらのなす
角度βが零でない点にある。ここでいう蒸気流の
指向性の中心軸とは蒸気流の単位立体角当りの蒸
気流密度が最大である方向を意味している。な
お、蒸気流の分布が対称であれば中心軸と一致す
る。
るためのマスクであり、磁気テープの製造におい
て高い保磁力を得る場合よく使用されるものであ
るが、これは必ずしも不可欠な要素ではない。１
１は回転ローラーである。図では蒸発源７を模式
的に示してある。すなわち、溶湯１２は蒸発容器
１３内で高温に保持されている。本発明で特に重
要な点は溶湯１２の液面の法線８と、蒸気流の指
向性の中心軸１４もしくは同１５とが一致してい
ないということである。すなわち、それらのなす
角度βが零でない点にある。ここでいう蒸気流の
指向性の中心軸とは蒸気流の単位立体角当りの蒸
気流密度が最大である方向を意味している。な
お、蒸気流の分布が対称であれば中心軸と一致す
る。
角βは、基材４の移動方向Ａに対しそれを追い
かける側になる。
かける側になる。
また、角βを変えた時、蒸着効率のみに注目す
ればβが60゜になるまでその効果が認められるも
のの、前記した磁気テープの保磁力について注目
してみると、β＝10゜〜40゜の範囲で同一保磁力
比較で蒸着効率がβ＝０゜の場合の1.3倍〜1.8倍
に増大する効果を有しているものである。
ればβが60゜になるまでその効果が認められるも
のの、前記した磁気テープの保磁力について注目
してみると、β＝10゜〜40゜の範囲で同一保磁力
比較で蒸着効率がβ＝０゜の場合の1.3倍〜1.8倍
に増大する効果を有しているものである。
また、角β側においても蒸着できるため、高価
な材料を使用する場合、その使用効率上従来スパ
ツタが主な被膜形成法であつたが、本発明の方法
は、マスクなしとすることにより蒸着効率70％以
上を達成することができ、スパツタ法に充分競合
し得る効率のよい方法である。
な材料を使用する場合、その使用効率上従来スパ
ツタが主な被膜形成法であつたが、本発明の方法
は、マスクなしとすることにより蒸着効率70％以
上を達成することができ、スパツタ法に充分競合
し得る効率のよい方法である。
これらの効果をもたらす蒸発源７を得るには、
たとえば蒸発容器１３を誘導加熱源で構成し、容
器１３を傾斜させかつ、煙突効果のでるような構
成にしてやればよい。
たとえば蒸発容器１３を誘導加熱源で構成し、容
器１３を傾斜させかつ、煙突効果のでるような構
成にしてやればよい。
最近進歩のいちぢるしい電子ビーム蒸発源にお
いても電子ビームを効果的に集束し、電力密度を
大きくとれば、ビームの入射方向に傾いた蒸気分
布を得ることができる。すなわち、同軸型のピア
ス型電子銃を所定の角度で配設すればよく、磁場
による偏向技術を組み合わせて利用することも可
能である。
いても電子ビームを効果的に集束し、電力密度を
大きくとれば、ビームの入射方向に傾いた蒸気分
布を得ることができる。すなわち、同軸型のピア
ス型電子銃を所定の角度で配設すればよく、磁場
による偏向技術を組み合わせて利用することも可
能である。
なお、60゜＞β＞40゜の範囲であつても、従来
法に対する改善効果は充分認められ、本発明の範
囲である。
法に対する改善効果は充分認められ、本発明の範
囲である。
蒸着した金属は、前述のほかに、Fe、Ni、
Ti、Ge、Al、Pt、Au、Sn、Ag、Cu、Zn等につ
いても抵抗値、光学特性等に優れた特性を有する
ことが蒸着効率とあわせ確認できた。合金類では
Ni−Cr、Ni−Fe、Fe−Bi、Au−Ag−Cu等につ
いても効果のあることを確認した。本発明は勿
論、酸素中でのIn蒸着により、透明電導膜In2O3
等の酸化物を得る場合についてもその効果は大き
く、本発明の工業的有価値性はきわめておきい。
Ti、Ge、Al、Pt、Au、Sn、Ag、Cu、Zn等につ
いても抵抗値、光学特性等に優れた特性を有する
ことが蒸着効率とあわせ確認できた。合金類では
Ni−Cr、Ni−Fe、Fe−Bi、Au−Ag−Cu等につ
いても効果のあることを確認した。本発明は勿
論、酸素中でのIn蒸着により、透明電導膜In2O3
等の酸化物を得る場合についてもその効果は大き
く、本発明の工業的有価値性はきわめておきい。
図は本発明にかかる真空蒸着法を実施するため
の装置の要部概念図である。 １……真空容器、２……排気装置、３……冷却
ローラー、４……高分子成形物基材、７……蒸発
源、８……溶湯１２の液面に立てた法線、１３…
…蒸発容器、１４，１５……蒸気流の指向性の中
心軸。
の装置の要部概念図である。 １……真空容器、２……排気装置、３……冷却
ローラー、４……高分子成形物基材、７……蒸発
源、８……溶湯１２の液面に立てた法線、１３…
…蒸発容器、１４，１５……蒸気流の指向性の中
心軸。
Claims (1)
- １ 冷却ローラの中心軸を基材の移動方向と対抗
する側にずらした蒸発容器内の溶湯にたてた法線
に対して、蒸発蒸気流の指向性の中心軸の方向
が、移動する基材を追いかける側に傾いた状態で
前記基材上に蒸着をすることを特徴とする真空蒸
着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56022607A JPS57137462A (en) | 1981-02-17 | 1981-02-17 | Vacuum depositing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56022607A JPS57137462A (en) | 1981-02-17 | 1981-02-17 | Vacuum depositing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57137462A JPS57137462A (en) | 1982-08-25 |
| JPS629668B2 true JPS629668B2 (ja) | 1987-03-02 |
Family
ID=12087524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56022607A Granted JPS57137462A (en) | 1981-02-17 | 1981-02-17 | Vacuum depositing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57137462A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1197806B (it) * | 1986-08-01 | 1988-12-06 | Metalvuoto Films Spa | Procedimento ed apparecchiatura per la realizzazione di pellicole metallizzate per condesatori elettrici e prodotti cosi' ottenuti |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5836413B2 (ja) * | 1978-04-25 | 1983-08-09 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置 |
| JPS6014409B2 (ja) * | 1978-07-10 | 1985-04-13 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1981
- 1981-02-17 JP JP56022607A patent/JPS57137462A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57137462A (en) | 1982-08-25 |
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