JPS6313293B2 - - Google Patents
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- JPS6313293B2 JPS6313293B2 JP53032705A JP3270578A JPS6313293B2 JP S6313293 B2 JPS6313293 B2 JP S6313293B2 JP 53032705 A JP53032705 A JP 53032705A JP 3270578 A JP3270578 A JP 3270578A JP S6313293 B2 JPS6313293 B2 JP S6313293B2
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- layer
- wiring
- photoresist
- phosphor
- insulating layer
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- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蛍光表示管、特にドツトマトリツクス
蛍光表示管の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a fluorescent display tube, particularly a dot matrix fluorescent display tube.
蛍光表示管とは、電子を放射するフイラメント
と、表面に蛍光体が塗布された複数個の電極から
なり、この電極のうち任意のものを選択し、これ
に前記フイラメントからの電子を受けるようにす
れば、この電極表面の蛍光体が発光し、所望のパ
ターンまたはキヤラクターを表示させるものであ
る。このような蛍光表示管のうち、ドツトマトリ
ツクス蛍光表示管は、単位発光部分が碁盤目に配
置分布されたドツトで形成され、この発光ドツト
の組合せで、特にアルフアベツトや仮名文字を自
由に表示するのに都合のよい蛍光表示管である。 A fluorescent display tube consists of a filament that emits electrons and a plurality of electrodes whose surfaces are coated with phosphor. Any one of these electrodes can be selected to receive the electrons from the filament. Then, the phosphor on the surface of the electrode emits light to display a desired pattern or character. Among such fluorescent display tubes, dot matrix fluorescent display tubes have unit light-emitting parts formed by dots arranged and distributed in a grid pattern, and the combination of these light-emitting dots can freely display alphanumeric characters and kana characters. This is a convenient fluorescent display tube.
このようなドツトマトリツクス蛍光表示管は、
従来つぎのようにして作られていた。すなわち、
ガラスまたはセラミツクのような絶縁基板表面に
印刷技術により、例えば銀のような導電材料でも
つて配線層を形成し、これを焼成した後、この配
線層のうちのドツトマトリツクスの蛍光体が塗布
される部分を残してガラス質からなる絶縁層を前
記基板表面に印刷し、焼成する。すなわち、配線
層の一部に、ドツトマトリツクスが形成されるた
めのスルーホールをもつ絶縁層を形成する。更に
このスルーホールを通して配線層の一部と接続さ
れた状態でカーボン及び蛍光体を印刷技術により
形成し、乾燥する。その後は前記蛍光体パターン
上方にフイラメントとなる細線を張設し、前記絶
縁基板上面にガラス容器を封じ、この中を真空状
態にする。 This kind of dot matrix fluorescent display tube is
Conventionally, it was made as follows. That is,
A wiring layer is formed using a conductive material such as silver by printing technology on the surface of an insulating substrate such as glass or ceramic, and after this is fired, a dot matrix phosphor of this wiring layer is applied. An insulating layer made of glass is printed on the surface of the substrate, leaving the remaining portion, and then baked. That is, an insulating layer having through holes for forming a dot matrix is formed in a part of the wiring layer. Furthermore, carbon and phosphor are formed by printing technology in a state where they are connected to a part of the wiring layer through this through hole, and then dried. Thereafter, a thin wire serving as a filament is stretched above the phosphor pattern, a glass container is sealed on the top surface of the insulating substrate, and the inside of the container is placed in a vacuum state.
しかしながら、上述のような印刷技術を駆使し
た蛍光表示管の製造方法においては、ドツトマト
リツクスのドツト密度および配線密度を上げるの
に限度があり、良質の画像あるいはキヤラクター
を得ることは困難であつた。 However, in the manufacturing method of fluorescent display tubes that makes full use of the above-mentioned printing technology, there is a limit to increasing the dot density and wiring density of the dot matrix, and it has been difficult to obtain high-quality images or characters. .
従つて、本発明はこのような不都合を克服した
もので、良質の画像あるいはキヤラクターを得る
ことのできるドツト密度および配線密度の高いド
ツトマトリツクス表示の蛍光表示管を提供するも
のである。 Therefore, the present invention overcomes these disadvantages and provides a dot matrix display fluorescent display tube with high dot density and wiring density, which can provide high-quality images or characters.
このような目的を達成するために、本発明の基
本的な製法は、絶縁基板上にマスクを用いて配線
パターンを蒸着により形成する工程と、前記配線
パターン上にのみフオトレジストを形成する工程
と、前記フオトレジスト上および露出している絶
縁基板表面に絶縁層を共通に形成する工程と、前
記絶縁基板表面上の絶縁層を残して前記フオトレ
ジストと該フオトレジスト上の絶縁層とを共に除
去する工程と、前記配線パターン上に蛍光体を電
着する工程とを有することを特徴とする。一例を
挙げてみると、絶縁基板上に所望のパターンをも
つマスクを用いてアルミニウム、続いてニツケル
を蒸着することにより配線パターンを形成し、更
に、前記アルミニウム・ニツケル配線パターン上
のドツト部分にフオトレジスト技術を用いてドツ
トマトリツクス状のパターンのレジスト膜を形成
し、これを利用して黒色の絶縁層、例えばTiO層
を蒸着形成するのである。 In order to achieve such an object, the basic manufacturing method of the present invention includes a step of forming a wiring pattern on an insulating substrate by vapor deposition using a mask, and a step of forming a photoresist only on the wiring pattern. , forming an insulating layer in common on the photoresist and the exposed surface of the insulating substrate, and removing the photoresist and the insulating layer on the photoresist while leaving the insulating layer on the surface of the insulating substrate. and a step of electrodepositing a phosphor on the wiring pattern. For example, a wiring pattern is formed by vapor depositing aluminum and then nickel using a mask with a desired pattern on an insulating substrate, and then a photo is placed on the dots on the aluminum/nickel wiring pattern. A resist film with a dot matrix pattern is formed using resist technology, and a black insulating layer, such as a TiO layer, is formed by vapor deposition using this resist film.
つぎに図により本発明を詳細に説明する。図は
本発明方法を説明するための断面工程図であり、
まずa図において、例えばガラスの絶縁基板1上
にスリツト状のマスクを介してアルミニウム、続
いてニツケルを蒸着し、アルミニウム・ニツケル
の配線パターン2を形成する。次にb図の段階で
フオトレジスト膜3をかけ、さらにc図で、アル
ミニウム・ニツケルの配線パターン2のドツト形
成部分にレジスト膜3′が残るように感光除去す
る。次いでd図のように黒色のTiO絶縁層4を全
面に蒸着し、e図で、アルミニウム・ニツケルの
配線パターン2上のドツト部分のレジスト膜3′
を除去すると、レジスト膜3′上のTiO層4も共
に除去される。最後に、露出されたアルミニウ
ム・ニツケルパターン上にカーボン5、次いで蛍
光体6をf図のように電着する。その後、蛍光体
6の上方にグリツド電極およびフイラメントを設
置し(図示は省略)、ガラス容器密封しその内部
を真空状態にして完了する。なお、配線層2およ
び図示を省略したフイラメントとグリツト電極の
端子部は、前記ガラス容器外に引出される。 Next, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings. The figure is a cross-sectional process diagram for explaining the method of the present invention,
First, in Fig. a, aluminum and then nickel are deposited on an insulating substrate 1 made of, for example, glass through a slit-shaped mask to form an aluminum/nickel wiring pattern 2. Next, a photoresist film 3 is applied at the stage shown in FIG. b, and further, as shown in FIG. Next, as shown in figure d, a black TiO insulating layer 4 is deposited over the entire surface, and as shown in figure e, the resist film 3' is deposited on the dot portions on the aluminum/nickel wiring pattern 2.
When the TiO layer 4 on the resist film 3' is removed, the TiO layer 4 on the resist film 3' is also removed. Finally, carbon 5 and then phosphor 6 are electrodeposited on the exposed aluminum/nickel pattern as shown in figure f. After that, a grid electrode and a filament are installed above the phosphor 6 (not shown), the glass container is sealed, and the inside of the glass container is brought into a vacuum state to complete the process. Note that the wiring layer 2 and terminal portions of the filament and grit electrodes (not shown) are drawn out of the glass container.
なお上記で、配線層2が、アルミニウムに続い
てニツケルを蒸着して形成したのは、ガラス基板
上に直接ニツケルを蒸着したのでは付着力が小さ
いので、付着力増加のため下地にアルミニウムを
用いているのである。また、アルミニウムだけで
は、ガラス容器の封着時に酸化が起り、配線の抵
抗が大きくなること、およびリードの半田付に普
通のハンダが用いられないためにさらにニツケル
を被着させているのである。 In the above, wiring layer 2 was formed by vapor-depositing nickel after aluminum, because if nickel was vapor-deposited directly on the glass substrate, the adhesion force would be small, so aluminum was used as the base to increase the adhesion force. -ing Further, if aluminum alone is used, oxidation occurs when the glass container is sealed, increasing the resistance of the wiring, and because ordinary solder cannot be used to solder the leads, nickel is additionally coated.
このようにして作製したドツトマトリツクス表
示の蛍光表示管は、密度高くドツトおよび配線パ
ターンが形成され、さらに、バツクプレートが
TiO層の黒色であるため、鮮明なキヤラクター表
示を得ることができた。また、他の利点として、
配線がアルミニウム・ニツケルであるため、従来
の銀プリント配線で問題となるような高温、高湿
下でのマイグレーシヨン(移行)による端子間の
短絡は起り難いということを挙げることができ
る。 The dot matrix display fluorescent display tube manufactured in this way has a highly dense dot and wiring pattern, and also has a back plate.
Because of the black color of the TiO layer, clear character display could be obtained. In addition, other benefits include:
Since the wiring is made of aluminum/nickel, short circuits between terminals due to migration under high temperature and high humidity conditions, which is a problem with conventional silver printed wiring, are unlikely to occur.
上述のとおり、本発明方法により製造されたド
ツトマトリツクス蛍光表示管は、ドツト密度が高
いので良質のキヤラクター表示が可能であり、か
つ高温、高湿下での印加電圧による端子間におけ
る導電材のマイグレーシヨンが起らないので信頼
性に勝れている。 As mentioned above, the dot matrix fluorescent display tube manufactured by the method of the present invention has a high dot density, so it is possible to display high-quality characters, and the conductive material between the terminals is not affected by the applied voltage under high temperature and high humidity. It has superior reliability because migration does not occur.
図のa〜fは本発明による製造工程を説明する
ための断面図である。
1……ガラス基板、2……配線層、3,3′…
…フオトレジスト層、4……TiO絶縁層、5……
カーボン電着層、6……蛍光体層。
Figures a to f are cross-sectional views for explaining the manufacturing process according to the present invention. 1... Glass substrate, 2... Wiring layer, 3, 3'...
...Photoresist layer, 4...TiO insulating layer, 5...
Carbon electrodeposition layer, 6...phosphor layer.
Claims (1)
蒸着により形成する工程と、前記配線パターン上
にのみにフオトレジストを形成する工程と、前記
フオトレジスト上および露出している絶縁基板表
面に絶縁層を共通に形成する工程と、前記絶縁基
板表面上の絶縁層を残して前記フオトレジストと
該フオトレジスト上の絶縁層とを共に除去する工
程と、前記配線パターン上に蛍光体を電着する工
程とを有することを特徴とする蛍光表示管の製造
方法。1. A step of forming a wiring pattern on an insulating substrate by vapor deposition using a mask, a step of forming a photoresist only on the wiring pattern, and a step of forming an insulating layer on the photoresist and the exposed surface of the insulating substrate. a step of removing the photoresist and the insulating layer on the photoresist while leaving an insulating layer on the surface of the insulating substrate; and a step of electrodepositing a phosphor on the wiring pattern. A method for manufacturing a fluorescent display tube, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270578A JPS54124671A (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Production of fluorescent display tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3270578A JPS54124671A (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Production of fluorescent display tube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54124671A JPS54124671A (en) | 1979-09-27 |
| JPS6313293B2 true JPS6313293B2 (en) | 1988-03-24 |
Family
ID=12366250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3270578A Granted JPS54124671A (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Production of fluorescent display tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54124671A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS617858U (en) * | 1984-06-19 | 1986-01-17 | 鹿児島日本電気株式会社 | fluorescent display tube |
| JPS617854U (en) * | 1984-06-19 | 1986-01-17 | 鹿児島日本電気株式会社 | fluorescent display tube |
| JPH0640472B2 (en) * | 1985-10-17 | 1994-05-25 | 伊勢電子工業株式会社 | Method for manufacturing substrate for fluorescent display tube |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5171670A (en) * | 1974-12-18 | 1976-06-21 | Fujitsu Ltd | Denkyokuno seisakuho |
| JPS5234667U (en) * | 1975-09-02 | 1977-03-11 |
-
1978
- 1978-03-20 JP JP3270578A patent/JPS54124671A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54124671A (en) | 1979-09-27 |
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