JPS631541B2 - - Google Patents
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- JPS631541B2 JPS631541B2 JP54017312A JP1731279A JPS631541B2 JP S631541 B2 JPS631541 B2 JP S631541B2 JP 54017312 A JP54017312 A JP 54017312A JP 1731279 A JP1731279 A JP 1731279A JP S631541 B2 JPS631541 B2 JP S631541B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- section
- ion source
- evacuation means
- leak
- low vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は質量分析計の排気およびリーク法に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to mass spectrometer pumping and leak methods.
質量分析計の分析部は、イオンの飛行、質量分
散を効率良く行うため10-6〜10-7Torrに真空排
気する。この領域の真空を得るための真空ポンプ
としては油拡散ポンプ、イオンポンプ、分子ポン
プ等があるが価格の面より油拡散ポンプ(以下
DPと略す)が最も多く使用されている。一方ガ
スクロマトグラフ(以下GCと略す)と質量分折
計(以下MS)とを結合したGC−MS装置におい
てはGCよりMSへ流入するキヤリヤガスのため
分析部を上記の真空度に保つことは困難であるた
め第1図の如く差動排気を行つている。GC−
MS装置においてもGC1の他に直接試料導入装
置3を有していることが多く、このため第1図の
如くイオン源部2の排気系5、直接試料導入部3
の排気系6、分析部4の排気系7と多系統の排気
系を有している。DPは価格面で有利であること
から多く使用されているが、電源投入後動作状態
まで、および電源遮断後動作停止まで時間がかか
る、DP油の逆拡散により高真空室、真空計の汚
染を起す等の欠点を有している。特に誤操作の場
合の汚染は顕著である。第2図は前記排気系の他
に独立した予備排気系8を有したもので、イオン
源部2および分析部4をリークする場合、第1図
に示す排気系でDPを停止したのに対し高真空側
遮断バルブを閉じるだけで各DP排気系は動作さ
せたままイオン源部または分析部を独立に、予備
排気系からリークおよび予備排気を行えるため時
間短縮ができる利点があるが、一系統排気系が増
えるため高価となるばかりか操作が複雑となる欠
点を有している。 The analysis section of the mass spectrometer is evacuated to 10 -6 to 10 -7 Torr in order to efficiently carry out ion flight and mass dispersion. There are oil diffusion pumps, ion pumps, molecular pumps, etc. as vacuum pumps to obtain a vacuum in this region, but due to the price, oil diffusion pumps (hereinafter referred to as
DP) is the most commonly used. On the other hand, in a GC-MS device that combines a gas chromatograph (hereinafter abbreviated as GC) and a mass spectrometer (hereinafter referred to as MS), it is difficult to maintain the analysis section at the above vacuum level because the carrier gas flows into the MS from the GC. Therefore, differential exhaust is used as shown in Figure 1. GC−
MS devices also often have a direct sample introduction device 3 in addition to the GC 1, so as shown in FIG.
It has multiple exhaust systems, including an exhaust system 6 for the analysis section 4 and an exhaust system 7 for the analysis section 4. DP is widely used because it is advantageous in terms of price, but it takes time for it to become operational after the power is turned on, and for it to stop operating after the power is turned off, and back diffusion of DP oil can contaminate high vacuum chambers and vacuum gauges. It has disadvantages such as causing In particular, contamination caused by erroneous operation is significant. In addition to the exhaust system described above, Fig. 2 has an independent pre-evacuation system 8, and when leaking from the ion source section 2 and analysis section 4, the DP is stopped using the evacuation system shown in Fig. 1. By simply closing the high-vacuum side shutoff valve, you can independently perform leakage and preliminary evacuation from the preliminary evacuation system while leaving each DP evacuation system operating, which has the advantage of saving time. Since the number of exhaust systems increases, it is not only expensive but also complicated to operate.
本発明は、各真空室のリークおよび予備排気を
直接試料導部(以下DI部と略す)に設けた共通
のリーク孔および排気系により行うことにより従
来技術の欠点をなくした質量分析計の排気および
リーク法を提供するにある。 The present invention eliminates the drawbacks of the prior art by performing leakage and preliminary evacuation of each vacuum chamber directly through a common leak hole and exhaust system provided in the sample introduction section (hereinafter abbreviated as DI section). and provide leakage methods.
第3図は本発明の方法を実施するための質量分
析計の排気系統を示したものである。DI部3、
イオン源部2および分析部4の各真空室には低真
空計14と高真空計15を備え広範囲の圧力を検
出できる様になつている。またDI部3には共通
リーク孔22を有し各真空室のリークはこのリー
ク孔より行う。今、分析部4をリークする場合を
考えるとまず分析部4のリーク指令により高真空
計15を遮断し、バルブB17、バルブC18お
よびバルブD19を閉じ、共通リーク孔22を開
く。リークされて圧力の上つた事を低真空計14
にて検出し、次にイオン源部2の高真空計15お
よびイオン源電源を遮断し、バルブA16を閉
じ、バルブB17を開く。共通リーク孔22は開
いているためイオン源部がリークされ低真空計1
4により検出される。リーク検出信号により同様
にバルブE20を開いて分析部4をリークする。
リークの指令はスイツチにより行うことができ
る。第4図はこのリーク動作を行う制御回路の一
実施例である。23,24,25はそれぞれDI
用,イオン源部用,分析部用操作スイツチで、
NC接点の時真空排気状態とするといずれか一ケ
のスイツチがNO接点いわゆるリーク状態指令と
なるとゲート回路27の出力B点は第5図の如く
レベルが変りバルブ制御回路28を動作させ、バ
ルブB17,C18,D19を閉じ、高真空計回
路29を遮断する。B点の信号はタイマーT13
0へ入力される。タイマーT1は出力C点の如く
T1時間後リークバルブ制御回路31を動作させ
リークを開始する。次に出力D点の如く低真空計
26がリーク状態を検出し、タイマーT232を
経由し、出力F点の如くリーク終了指令33を発
する。以上によりDI部のリークを終了する。図
示を省略したが、操作スイツチ23の状態を判断
し、DIリーク終了指令と合致したときイオン源
部のリークをすることが出来る。このときバルブ
A16は閉じ、バルブB17は開かれる。同様に
操作スイツチ24の状態を判断し、イオン源部リ
ーク終了指令と一致したとき分析部をリークさせ
ることが出来る。このときはバルブ21は閉じ、
バルブE20は開かれる。一方各真空計の圧力検
出および操作スイツチの位置検出により状態表示
をすることが出来る。第6図は表示回路の一実施
例を示すもので操作スイツチ34をNC側から
NO側にするとゲート回路35は発振器36の出
力を通過させ、表示素子37を発振器36の有す
る発振周波数で点滅する。一方リークまたは排気
終了信号が38から入ると表示素子を点燈するこ
とができる。この間の各部のレベルを第7図に示
す。以上の如く操作スイツチによる指令で、状態
表示をしながらリーク状態にすることができる。
次に再び真空排気をする場合について述べる。 FIG. 3 shows the exhaust system of a mass spectrometer for carrying out the method of the present invention. DI part 3,
Each vacuum chamber of the ion source section 2 and the analysis section 4 is equipped with a low vacuum gauge 14 and a high vacuum gauge 15 so that a wide range of pressure can be detected. Further, the DI section 3 has a common leak hole 22, and leakage from each vacuum chamber is performed through this leak hole. Now, considering the case where the analysis section 4 leaks, first, the high vacuum gauge 15 is shut off in response to a leak command from the analysis section 4, the valve B17, the valve C18, and the valve D19 are closed, and the common leak hole 22 is opened. Low vacuum gauge 14 indicates that the pressure has increased due to a leak.
Then, the high vacuum gauge 15 of the ion source section 2 and the ion source power supply are shut off, the valve A16 is closed, and the valve B17 is opened. Since the common leak hole 22 is open, the ion source leaks and the low vacuum gauge 1
Detected by 4. The leak detection signal similarly opens the valve E20 to leak the analysis section 4.
A leak command can be issued by a switch. FIG. 4 shows an embodiment of a control circuit that performs this leakage operation. 23, 24, 25 are DI respectively
operation switch for the ion source section, ion source section, and analysis section.
When the NC contact is set to the vacuum evacuation state, when one of the switches becomes the NO contact, so-called leak state command, the level of the output point B of the gate circuit 27 changes as shown in FIG. 5, and the valve control circuit 28 is operated, and the valve B17 , C18, and D19, and the high vacuum gauge circuit 29 is cut off. The signal at point B is timer T 1 3
Input to 0. Timer T1 is like output point C
T After 1 hour, the leak valve control circuit 31 is activated to start leaking. Next, the low vacuum gauge 26 detects a leak state as at the output point D, and issues a leak end command 33 as the output point F via the timer T 2 32. This completes the leak of the DI part. Although not shown, the state of the operation switch 23 can be judged and the ion source can be leaked when it matches the DI leak end command. At this time, valve A16 is closed and valve B17 is opened. Similarly, the state of the operation switch 24 can be determined, and when it matches the ion source leak termination command, the analyzer can be caused to leak. At this time, the valve 21 is closed,
Valve E20 is opened. On the other hand, the status can be displayed by detecting the pressure of each vacuum gauge and the position of the operating switch. Figure 6 shows an example of the display circuit, in which the operation switch 34 is connected from the NC side.
When set to the NO side, the gate circuit 35 passes the output of the oscillator 36 and causes the display element 37 to blink at the oscillation frequency of the oscillator 36. On the other hand, when a leak or exhaust end signal is received from 38, the display element can be turned on. The levels of each part during this time are shown in FIG. As described above, it is possible to enter the leak state while displaying the status by commands from the operation switch.
Next, the case where vacuum evacuation is performed again will be described.
第3図において分析部4がリーク状態にある時
から排気をする場合、イオン源部2およびDI部
3を介してロータリポンプRP排気系12で予備
排気をする。分析部の真空度を低真空計26で検
出し所定の圧力になつたら出力Lの如くバルブE
20を閉じ、出力Mの如くバルブF21を開き
DP排気系13に切り替える。第8図は本排気回
路の一実施例であり、39はゲート回路、40は
バルブE制御回路、41はタイマーT3、42は
バルブF制御回路である。第9図は各部のレベル
を示す。イオン源部2を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系12でDI部3を介し
て予備排気した後その系を遮断し、排気系11に
より本排気する。DI部を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系12で予備排気した
後この系を遮断し、バルブ18を開いて排気系1
1により本排気する。かくして、イオン源部2、
DI部3および分析部4は互いに独立に本排気さ
れ得る。 In FIG. 3, when the analysis section 4 is in a leak state and is to be evacuated, preliminary evacuation is performed by the rotary pump RP exhaust system 12 via the ion source section 2 and the DI section 3. The degree of vacuum in the analysis section is detected by the low vacuum gauge 26, and when the predetermined pressure is reached, the valve E is activated as shown in the output L.
20 and open valve F21 like output M.
Switch to DP exhaust system 13. FIG. 8 shows an embodiment of this exhaust circuit, in which 39 is a gate circuit, 40 is a valve E control circuit, 41 is a timer T 3 , and 42 is a valve F control circuit. Figure 9 shows the levels of each part. The same applies when evacuating the ion source section 2.
After the rotary pump RP exhaust system 12 performs preliminary exhaust through the DI section 3, the system is shut off, and the exhaust system 11 performs main exhaust. The same goes for exhausting the DI section.
After preliminary evacuation with the rotary pump RP exhaust system 12, this system is shut off, and the valve 18 is opened to exhaust the exhaust system 1.
Main exhaust is performed by 1. Thus, the ion source section 2,
The DI section 3 and the analysis section 4 can be fully evacuated independently of each other.
以上の如く構成することにより本実施例によれ
ば、従来の欠点をなくし次の様な特長を得ること
が出来る。 By configuring as described above, according to this embodiment, the drawbacks of the conventional system can be eliminated and the following features can be obtained.
(1) リークまたは排気を1ケのスイツチ操作で行
えるため操作性が大巾に向上する。(1) Leak or exhaust can be performed with a single switch, greatly improving operability.
(2) 1つのリーク孔だけで装置全体のリークが出
来るため構造が単純化出来る。(2) The structure can be simplified because the entire device can be leaked with just one leak hole.
(3) スイツチ指令と圧力検出により判断する機能
を有しているので誤操作がなくなる。(3) Equipped with a function that makes decisions based on switch commands and pressure detection, eliminating erroneous operations.
(4) リークおよび排気動作状態を表示するため、
各状態を容易に把握できる。(4) To display leak and exhaust operating status,
Each status can be easily understood.
(5) リークおよび排気動作中無人化が可能であり
省力化出来る。(5) Leak and exhaust operations can be unmanned, resulting in labor savings.
等の性能向上がある。There are performance improvements such as
本発明によれば、排気時間の短縮が図られ、ま
たDI部、イオン源部および分析部の予備排気お
よびリークを直列的に行うことが出来るようにし
たため、装置全体が安価となり、操作も簡単にな
る。 According to the present invention, the evacuation time is shortened, and preliminary evacuation and leakage of the DI section, ion source section, and analysis section can be performed in series, making the entire device inexpensive and easy to operate. become.
第1図および第2図は、従来の質量分析計の排
気装置のブロツク図であり、第3図は、本発明の
方法を実施するための質量分析計の排気装置の一
実施例のブロツク図であり、第4図は、リーク回
路の一実施例であり、第5図は、リーク回路各部
のレベルを示し、第6図は、表示回路の一実施例
であり、第7図は、表示回路各部のレベルを示
し、第8図は、排気回路の一実施例であり、第9
図は、排気回路各部のレベルを示す。
2……イオン源部、3……直接試料導入部、4
……分析部、11,13……DP排気系、12…
…RP排気系、14……低真空計、15……高真
空計、22……共通リーク孔、16,17,1
8,19,20,21……バルブ。
1 and 2 are block diagrams of a conventional mass spectrometer exhaust system, and FIG. 3 is a block diagram of an embodiment of a mass spectrometer exhaust system for carrying out the method of the present invention. FIG. 4 shows an example of the leak circuit, FIG. 5 shows the levels of each part of the leak circuit, FIG. 6 shows an example of the display circuit, and FIG. 7 shows the display circuit. The levels of each part of the circuit are shown. FIG. 8 is an example of an exhaust circuit, and FIG.
The diagram shows the levels of each part of the exhaust circuit. 2...Ion source section, 3...Direct sample introduction section, 4
...Analysis department, 11, 13...DP exhaust system, 12...
...RP exhaust system, 14...Low vacuum gauge, 15...High vacuum gauge, 22...Common leak hole, 16, 17, 1
8, 19, 20, 21... valve.
Claims (1)
イオン源部および分析部から遮断して低真空排気
手段により予備排気し、上記イオン源部を予備排
気するときはこれを上記分析部から遮断して上記
低真空排気手段により上記直接試料導入部を介し
て予備排気し、そして上記分析部を予備排気する
ときはこれを上記低真空排気手段により上記直接
試料導入部および上記イオン源部を介して予備排
気するとともに、上記直接試料導入部を本排気す
るときはこれを上記低真空排気手段から遮断して
本排気手段により上記イオン源部および上記分析
部と独立に排気し、上記イオン源部を本排気する
ときはこれを上記低真空排気手段から遮断して上
記本排気手段により上記直接試料導入部および上
記分析部とは独立に排気し、そして上記分析部を
本排気するときはこれを上記低真空排気手段から
遮断して上記本排気手段により上記直接試料導入
部および上記イオン源部と独立に排気し、更に上
記直接試料導入部をエアリークさせるときはこれ
を上記低真空排気手段,上記本排気手段,上記イ
オン源部および上記分析部から遮断して共通エア
リーク孔からエアリークさせ、上記イオン源部を
エアリークさせるときはこれを上記低真空排気手
段,上記本排気手段および上記分析部から遮断し
て上記共通エアリーク孔から上記直接試料導入部
を介してエアリークさせ、そして上記分析部をエ
アリークさせるときはこれを上記低真空排気手段
および上記本排気手段から遮断して上記共通エア
リーク孔から上記直接試料導入部および上記イオ
ン源部を介してエアリークさせることを特徴とす
る質量分析計の排気およびリーク法。1 When pre-evacuating the direct sample introduction section, isolate it from the ion source section and analysis section and pre-evacuate it using low vacuum evacuation means; when pre-evacuate the ion source section, isolate it from the analysis section. The low vacuum evacuation means preliminarily evacuates the sample through the direct sample introduction section, and when the analysis section is preliminarily evacuated, the low vacuum evacuation means evacuates the sample through the direct sample introduction section and the ion source section. In addition to preliminary evacuation, when main evacuation of the direct sample introduction section is performed, it is isolated from the low vacuum evacuation means, and the main evacuation means is used to evacuate the ion source section and the analysis section independently, and the ion source section is evacuated. When performing main evacuation, this is isolated from the low vacuum evacuation means and is evacuated by the main evacuation means independently of the direct sample introduction section and the analysis section, and when the analysis section is main evacuation, this is The direct sample introduction section and the ion source section are evacuated independently from the low vacuum evacuation means by the main evacuation means, and when the direct sample introduction section is caused to leak air, the main evacuation means is isolated from the low vacuum evacuation means and the main evacuation means. The ion source is isolated from the exhaust means, the ion source section, and the analysis section to allow air to leak from the common air leak hole, and when the ion source is caused to leak air, it is isolated from the low vacuum evacuation means, the main exhaust means, and the analysis section. When air leaks from the common air leak hole through the direct sample introduction section, and when air leaks from the analysis section, it is shut off from the low vacuum evacuation means and the main evacuation means, and the direct sample is introduced from the common air leak hole. An exhaust and leak method for a mass spectrometer, characterized in that air leaks through an introduction section and the ion source section.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1731279A JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1731279A JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55109958A JPS55109958A (en) | 1980-08-23 |
| JPS631541B2 true JPS631541B2 (en) | 1988-01-13 |
Family
ID=11940482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1731279A Granted JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55109958A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60114957U (en) * | 1984-01-13 | 1985-08-03 | 日本電子株式会社 | Gas chromatograph-mass spectrometer |
| JPS60184260U (en) * | 1984-05-17 | 1985-12-06 | 横河電機株式会社 | Differential pumping system for mass spectrometer |
| CN117012610A (en) * | 2022-04-28 | 2023-11-07 | 株式会社岛津制作所 | Mass spectrometer and method for forming vacuum system thereof |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS583589B2 (en) * | 1977-03-30 | 1983-01-21 | 株式会社日立製作所 | Direct sample introduction device for mass spectrometer |
-
1979
- 1979-02-19 JP JP1731279A patent/JPS55109958A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55109958A (en) | 1980-08-23 |
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