JPS631541B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS631541B2 JPS631541B2 JP54017312A JP1731279A JPS631541B2 JP S631541 B2 JPS631541 B2 JP S631541B2 JP 54017312 A JP54017312 A JP 54017312A JP 1731279 A JP1731279 A JP 1731279A JP S631541 B2 JPS631541 B2 JP S631541B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- section
- ion source
- evacuation means
- leak
- low vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は質量分析計の排気およびリーク法に関
する。
する。
質量分析計の分析部は、イオンの飛行、質量分
散を効率良く行うため10-6〜10-7Torrに真空排
気する。この領域の真空を得るための真空ポンプ
としては油拡散ポンプ、イオンポンプ、分子ポン
プ等があるが価格の面より油拡散ポンプ（以下
DPと略す）が最も多く使用されている。一方ガ
スクロマトグラフ（以下GCと略す）と質量分折
計（以下MS）とを結合したGC−MS装置におい
てはGCよりMSへ流入するキヤリヤガスのため
分析部を上記の真空度に保つことは困難であるた
め第１図の如く差動排気を行つている。GC−
MS装置においてもGC１の他に直接試料導入装
置３を有していることが多く、このため第１図の
如くイオン源部２の排気系５、直接試料導入部３
の排気系６、分析部４の排気系７と多系統の排気
系を有している。DPは価格面で有利であること
から多く使用されているが、電源投入後動作状態
まで、および電源遮断後動作停止まで時間がかか
る、DP油の逆拡散により高真空室、真空計の汚
染を起す等の欠点を有している。特に誤操作の場
合の汚染は顕著である。第２図は前記排気系の他
に独立した予備排気系８を有したもので、イオン
源部２および分析部４をリークする場合、第１図
に示す排気系でDPを停止したのに対し高真空側
遮断バルブを閉じるだけで各DP排気系は動作さ
せたままイオン源部または分析部を独立に、予備
排気系からリークおよび予備排気を行えるため時
間短縮ができる利点があるが、一系統排気系が増
えるため高価となるばかりか操作が複雑となる欠
点を有している。
散を効率良く行うため10-6〜10-7Torrに真空排
気する。この領域の真空を得るための真空ポンプ
としては油拡散ポンプ、イオンポンプ、分子ポン
プ等があるが価格の面より油拡散ポンプ（以下
DPと略す）が最も多く使用されている。一方ガ
スクロマトグラフ（以下GCと略す）と質量分折
計（以下MS）とを結合したGC−MS装置におい
てはGCよりMSへ流入するキヤリヤガスのため
分析部を上記の真空度に保つことは困難であるた
め第１図の如く差動排気を行つている。GC−
MS装置においてもGC１の他に直接試料導入装
置３を有していることが多く、このため第１図の
如くイオン源部２の排気系５、直接試料導入部３
の排気系６、分析部４の排気系７と多系統の排気
系を有している。DPは価格面で有利であること
から多く使用されているが、電源投入後動作状態
まで、および電源遮断後動作停止まで時間がかか
る、DP油の逆拡散により高真空室、真空計の汚
染を起す等の欠点を有している。特に誤操作の場
合の汚染は顕著である。第２図は前記排気系の他
に独立した予備排気系８を有したもので、イオン
源部２および分析部４をリークする場合、第１図
に示す排気系でDPを停止したのに対し高真空側
遮断バルブを閉じるだけで各DP排気系は動作さ
せたままイオン源部または分析部を独立に、予備
排気系からリークおよび予備排気を行えるため時
間短縮ができる利点があるが、一系統排気系が増
えるため高価となるばかりか操作が複雑となる欠
点を有している。
本発明は、各真空室のリークおよび予備排気を
直接試料導部（以下DI部と略す）に設けた共通
のリーク孔および排気系により行うことにより従
来技術の欠点をなくした質量分析計の排気および
リーク法を提供するにある。
直接試料導部（以下DI部と略す）に設けた共通
のリーク孔および排気系により行うことにより従
来技術の欠点をなくした質量分析計の排気および
リーク法を提供するにある。
第３図は本発明の方法を実施するための質量分
析計の排気系統を示したものである。DI部３、
イオン源部２および分析部４の各真空室には低真
空計１４と高真空計１５を備え広範囲の圧力を検
出できる様になつている。またDI部３には共通
リーク孔２２を有し各真空室のリークはこのリー
ク孔より行う。今、分析部４をリークする場合を
考えるとまず分析部４のリーク指令により高真空
計１５を遮断し、バルブＢ１７、バルブＣ１８お
よびバルブＤ１９を閉じ、共通リーク孔２２を開
く。リークされて圧力の上つた事を低真空計１４
にて検出し、次にイオン源部２の高真空計１５お
よびイオン源電源を遮断し、バルブＡ１６を閉
じ、バルブＢ１７を開く。共通リーク孔２２は開
いているためイオン源部がリークされ低真空計１
４により検出される。リーク検出信号により同様
にバルブＥ２０を開いて分析部４をリークする。
リークの指令はスイツチにより行うことができ
る。第４図はこのリーク動作を行う制御回路の一
実施例である。２３，２４，２５はそれぞれDI
用，イオン源部用，分析部用操作スイツチで、
NC接点の時真空排気状態とするといずれか一ケ
のスイツチがNO接点いわゆるリーク状態指令と
なるとゲート回路２７の出力Ｂ点は第５図の如く
レベルが変りバルブ制御回路２８を動作させ、バ
ルブＢ１７，Ｃ１８，Ｄ１９を閉じ、高真空計回
路２９を遮断する。Ｂ点の信号はタイマーT1３
０へ入力される。タイマーT1は出力Ｃ点の如く
T1時間後リークバルブ制御回路３１を動作させ
リークを開始する。次に出力Ｄ点の如く低真空計
２６がリーク状態を検出し、タイマーT2３２を
経由し、出力Ｆ点の如くリーク終了指令３３を発
する。以上によりDI部のリークを終了する。図
示を省略したが、操作スイツチ２３の状態を判断
し、DIリーク終了指令と合致したときイオン源
部のリークをすることが出来る。このときバルブ
Ａ１６は閉じ、バルブＢ１７は開かれる。同様に
操作スイツチ２４の状態を判断し、イオン源部リ
ーク終了指令と一致したとき分析部をリークさせ
ることが出来る。このときはバルブ２１は閉じ、
バルブＥ２０は開かれる。一方各真空計の圧力検
出および操作スイツチの位置検出により状態表示
をすることが出来る。第６図は表示回路の一実施
例を示すもので操作スイツチ３４をNC側から
NO側にするとゲート回路３５は発振器３６の出
力を通過させ、表示素子３７を発振器３６の有す
る発振周波数で点滅する。一方リークまたは排気
終了信号が３８から入ると表示素子を点燈するこ
とができる。この間の各部のレベルを第７図に示
す。以上の如く操作スイツチによる指令で、状態
表示をしながらリーク状態にすることができる。
次に再び真空排気をする場合について述べる。
析計の排気系統を示したものである。DI部３、
イオン源部２および分析部４の各真空室には低真
空計１４と高真空計１５を備え広範囲の圧力を検
出できる様になつている。またDI部３には共通
リーク孔２２を有し各真空室のリークはこのリー
ク孔より行う。今、分析部４をリークする場合を
考えるとまず分析部４のリーク指令により高真空
計１５を遮断し、バルブＢ１７、バルブＣ１８お
よびバルブＤ１９を閉じ、共通リーク孔２２を開
く。リークされて圧力の上つた事を低真空計１４
にて検出し、次にイオン源部２の高真空計１５お
よびイオン源電源を遮断し、バルブＡ１６を閉
じ、バルブＢ１７を開く。共通リーク孔２２は開
いているためイオン源部がリークされ低真空計１
４により検出される。リーク検出信号により同様
にバルブＥ２０を開いて分析部４をリークする。
リークの指令はスイツチにより行うことができ
る。第４図はこのリーク動作を行う制御回路の一
実施例である。２３，２４，２５はそれぞれDI
用，イオン源部用，分析部用操作スイツチで、
NC接点の時真空排気状態とするといずれか一ケ
のスイツチがNO接点いわゆるリーク状態指令と
なるとゲート回路２７の出力Ｂ点は第５図の如く
レベルが変りバルブ制御回路２８を動作させ、バ
ルブＢ１７，Ｃ１８，Ｄ１９を閉じ、高真空計回
路２９を遮断する。Ｂ点の信号はタイマーT1３
０へ入力される。タイマーT1は出力Ｃ点の如く
T1時間後リークバルブ制御回路３１を動作させ
リークを開始する。次に出力Ｄ点の如く低真空計
２６がリーク状態を検出し、タイマーT2３２を
経由し、出力Ｆ点の如くリーク終了指令３３を発
する。以上によりDI部のリークを終了する。図
示を省略したが、操作スイツチ２３の状態を判断
し、DIリーク終了指令と合致したときイオン源
部のリークをすることが出来る。このときバルブ
Ａ１６は閉じ、バルブＢ１７は開かれる。同様に
操作スイツチ２４の状態を判断し、イオン源部リ
ーク終了指令と一致したとき分析部をリークさせ
ることが出来る。このときはバルブ２１は閉じ、
バルブＥ２０は開かれる。一方各真空計の圧力検
出および操作スイツチの位置検出により状態表示
をすることが出来る。第６図は表示回路の一実施
例を示すもので操作スイツチ３４をNC側から
NO側にするとゲート回路３５は発振器３６の出
力を通過させ、表示素子３７を発振器３６の有す
る発振周波数で点滅する。一方リークまたは排気
終了信号が３８から入ると表示素子を点燈するこ
とができる。この間の各部のレベルを第７図に示
す。以上の如く操作スイツチによる指令で、状態
表示をしながらリーク状態にすることができる。
次に再び真空排気をする場合について述べる。
第３図において分析部４がリーク状態にある時
から排気をする場合、イオン源部２およびDI部
３を介してロータリポンプRP排気系１２で予備
排気をする。分析部の真空度を低真空計２６で検
出し所定の圧力になつたら出力Ｌの如くバルブＥ
２０を閉じ、出力Ｍの如くバルブＦ２１を開き
DP排気系１３に切り替える。第８図は本排気回
路の一実施例であり、３９はゲート回路、４０は
バルブＥ制御回路、４１はタイマーT3、４２は
バルブＦ制御回路である。第９図は各部のレベル
を示す。イオン源部２を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系１２でDI部３を介し
て予備排気した後その系を遮断し、排気系１１に
より本排気する。DI部を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系１２で予備排気した
後この系を遮断し、バルブ１８を開いて排気系１
１により本排気する。かくして、イオン源部２、
DI部３および分析部４は互いに独立に本排気さ
れ得る。
から排気をする場合、イオン源部２およびDI部
３を介してロータリポンプRP排気系１２で予備
排気をする。分析部の真空度を低真空計２６で検
出し所定の圧力になつたら出力Ｌの如くバルブＥ
２０を閉じ、出力Ｍの如くバルブＦ２１を開き
DP排気系１３に切り替える。第８図は本排気回
路の一実施例であり、３９はゲート回路、４０は
バルブＥ制御回路、４１はタイマーT3、４２は
バルブＦ制御回路である。第９図は各部のレベル
を示す。イオン源部２を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系１２でDI部３を介し
て予備排気した後その系を遮断し、排気系１１に
より本排気する。DI部を排気する場合も同様で、
ロータリーポンプRP排気系１２で予備排気した
後この系を遮断し、バルブ１８を開いて排気系１
１により本排気する。かくして、イオン源部２、
DI部３および分析部４は互いに独立に本排気さ
れ得る。
以上の如く構成することにより本実施例によれ
ば、従来の欠点をなくし次の様な特長を得ること
が出来る。
ば、従来の欠点をなくし次の様な特長を得ること
が出来る。
(1) リークまたは排気を１ケのスイツチ操作で行
えるため操作性が大巾に向上する。
えるため操作性が大巾に向上する。
(2) １つのリーク孔だけで装置全体のリークが出
来るため構造が単純化出来る。
来るため構造が単純化出来る。
(3) スイツチ指令と圧力検出により判断する機能
を有しているので誤操作がなくなる。
を有しているので誤操作がなくなる。
(4) リークおよび排気動作状態を表示するため、
各状態を容易に把握できる。
各状態を容易に把握できる。
(5) リークおよび排気動作中無人化が可能であり
省力化出来る。
省力化出来る。
等の性能向上がある。
本発明によれば、排気時間の短縮が図られ、ま
たDI部、イオン源部および分析部の予備排気お
よびリークを直列的に行うことが出来るようにし
たため、装置全体が安価となり、操作も簡単にな
る。
たDI部、イオン源部および分析部の予備排気お
よびリークを直列的に行うことが出来るようにし
たため、装置全体が安価となり、操作も簡単にな
る。
第１図および第２図は、従来の質量分析計の排
気装置のブロツク図であり、第３図は、本発明の
方法を実施するための質量分析計の排気装置の一
実施例のブロツク図であり、第４図は、リーク回
路の一実施例であり、第５図は、リーク回路各部
のレベルを示し、第６図は、表示回路の一実施例
であり、第７図は、表示回路各部のレベルを示
し、第８図は、排気回路の一実施例であり、第９
図は、排気回路各部のレベルを示す。 ２……イオン源部、３……直接試料導入部、４
……分析部、１１，１３……DP排気系、１２…
…RP排気系、１４……低真空計、１５……高真
空計、２２……共通リーク孔、１６，１７，１
８，１９，２０，２１……バルブ。
気装置のブロツク図であり、第３図は、本発明の
方法を実施するための質量分析計の排気装置の一
実施例のブロツク図であり、第４図は、リーク回
路の一実施例であり、第５図は、リーク回路各部
のレベルを示し、第６図は、表示回路の一実施例
であり、第７図は、表示回路各部のレベルを示
し、第８図は、排気回路の一実施例であり、第９
図は、排気回路各部のレベルを示す。 ２……イオン源部、３……直接試料導入部、４
……分析部、１１，１３……DP排気系、１２…
…RP排気系、１４……低真空計、１５……高真
空計、２２……共通リーク孔、１６，１７，１
８，１９，２０，２１……バルブ。
Claims (1)
- １ 直接試料導入部を予備排気するときはこれを
イオン源部および分析部から遮断して低真空排気
手段により予備排気し、上記イオン源部を予備排
気するときはこれを上記分析部から遮断して上記
低真空排気手段により上記直接試料導入部を介し
て予備排気し、そして上記分析部を予備排気する
ときはこれを上記低真空排気手段により上記直接
試料導入部および上記イオン源部を介して予備排
気するとともに、上記直接試料導入部を本排気す
るときはこれを上記低真空排気手段から遮断して
本排気手段により上記イオン源部および上記分析
部と独立に排気し、上記イオン源部を本排気する
ときはこれを上記低真空排気手段から遮断して上
記本排気手段により上記直接試料導入部および上
記分析部とは独立に排気し、そして上記分析部を
本排気するときはこれを上記低真空排気手段から
遮断して上記本排気手段により上記直接試料導入
部および上記イオン源部と独立に排気し、更に上
記直接試料導入部をエアリークさせるときはこれ
を上記低真空排気手段，上記本排気手段，上記イ
オン源部および上記分析部から遮断して共通エア
リーク孔からエアリークさせ、上記イオン源部を
エアリークさせるときはこれを上記低真空排気手
段，上記本排気手段および上記分析部から遮断し
て上記共通エアリーク孔から上記直接試料導入部
を介してエアリークさせ、そして上記分析部をエ
アリークさせるときはこれを上記低真空排気手段
および上記本排気手段から遮断して上記共通エア
リーク孔から上記直接試料導入部および上記イオ
ン源部を介してエアリークさせることを特徴とす
る質量分析計の排気およびリーク法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1731279A JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1731279A JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55109958A JPS55109958A (en) | 1980-08-23 |
| JPS631541B2 true JPS631541B2 (ja) | 1988-01-13 |
Family
ID=11940482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1731279A Granted JPS55109958A (en) | 1979-02-19 | 1979-02-19 | Mass spectrometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55109958A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60114957U (ja) * | 1984-01-13 | 1985-08-03 | 日本電子株式会社 | ガスクロマトグラフ−質量分析装置 |
| JPS60184260U (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-06 | 横河電機株式会社 | 質量分析計用差動排気系 |
| CN117012610A (zh) * | 2022-04-28 | 2023-11-07 | 株式会社岛津制作所 | 质谱仪及其真空系统的形成方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS583589B2 (ja) * | 1977-03-30 | 1983-01-21 | 株式会社日立製作所 | 質量分析計の直接試料導入装置 |
-
1979
- 1979-02-19 JP JP1731279A patent/JPS55109958A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55109958A (en) | 1980-08-23 |
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