JPS632267B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は一般式 （式中R₁及びR₂は同一でも異なつてもよく、そ
れぞれ水素原子又はメチル基、R₃は水素原子又
はアシル基を示し、そしてアミノ基及び／又は水
酸基は保護されていてもよい）で表わされる新規
なアミノ配糖体及びその酸付加塩に関する。 アシル基R₃としては、アミノ酸好ましくはグ
リシン、アラニン、バリン等から誘導されるもの
が好ましく、アミノ酸のアミノ基は例えば低級ア
ルキル基、カルバモイル基、ホルミル基等により
置換されていてもよい。 本発明者らは先に、サツカロポリスポラ・ヒル
スタ・KC−6606株ならびにストレプトミセスsp.
KC−7038株の代謝産物として、それぞれ抗生物
質として有用な数種の化合物（KA−6606物質群
ならびにKA−7038物質群）を見い出した。これ
らの化合物は、特開昭53−127401号、同54−
66603号、同54−141701号、同55−11541号、同55
−111497号及び同55−162795号各明細書に詳記さ
れており、これらの抗生物質は次の構造式で表わ
される。

【表】 KA−6606、及び、KA−7038及び
ならびにKA−7038及びは、それぞれ１位、
４位もしくは５位における立体異性体である。 本発明者らは、これらの化合物の誘導体を種々
合成してその活性を検討したところ、５位のメチ
ルエーテルを開裂した５−デーＯ−メチル体が優
れた抗菌作用を有することを見い出した（特開昭
55−55198号及び同56−2997号明細書参照）。本発
明者らは更に研究を進めた結果、前記の５−デ−
Ｏ−メチル体の５位の水酸基を脱離した化合物、
すなわち５−デ−メトキシ体が更に優れた抗菌作
用を示すことを見い出して本発明に到達した。 式(1)の化合物は、例えば一般式 （式中R₁、R₂及びR₃は前記の意味を有する）で
表わされる化合物の５位の水酸基の脱離（又はデ
オキシ化）により製造される。このデオキシ化の
前に、式(3)の化合物の各アミノ基及び３位の水酸
基を常法により保護することが好ましい。 式(3)の化合物は、一般式 （式中R₁、R₂及びR₃は前記の意味を有する）で
表わされる化合物（KA−6606物質ならびにKA
−7038物質）に、特開昭55−55198号明細書に記
載の方法により、鉱酸例えば臭化水素酸、沃化水
素酸、弗化水素酸等又はルイス酸例えば三塩化硼
素、三弗化硼素等、あるいはアルカリ金属及びア
ミンを作用させて５位のメチルエーテルを開裂す
ることによつて製造できる。メチルエーテルの開
裂（デーＯ−メチル化）の前に好ましくは各アミ
ノ基及び／又は水酸基を保護する。R₃がアシル
基である式(4)の化合物を用いると、デ−Ｏ−メチ
ル化と同時にアシル基R₃及び場合により存在す
るアミノ保護基も離脱して、R₃が水素原子であ
る式(3)の化合物が得られる。次いで所望によりア
シル基R₃を導入することができる。 式(3)の化合物の５位のデオキシ化には種々の方
法を適用することができ、例えば下記の方法が好
ましい。 (A) ５位の水酸基をスルフアモイル化例えばＮ・
Ｎ−ジメチルスルフアモイル化し又はスルホニ
ル化例えばトリフルオロメタンスルホニル化し
たのち、アミノ基の保護基を脱離し又は脱離し
ないので、例えば液体アンモニア中で金属ナト
リウムと反応させて炭素−酸素結合を開裂する
方法。 (B) ５位の水酸基をハロゲン原子により置換して
５−ハロ（好ましくは５−クロロ）化合物とな
し、次いで例えばトリ−ｎ−ブチルスタナンを
作用させて脱ハロゲン化する方法。 (C) ５位の水酸基を燐酸好ましくは置換燐酸例え
ばビス−ジメチルアミノ燐酸でエステル化した
のち、例えばエチルアミンの存在下にリチウム
で還元する方法。 (D) ５位の水酸基をカルボニル化したのちヒドラ
ゾン例えばトシルヒドラゾンとなし、次いで例
えばソデイウムシアノボロヒドリドで還元する
方法。 (E) ５位においてチオベンゾエート、Ｓ−メチル
ジチオカルボネート等を形成し、これにトリ−
ｎ−ブチルスタナンを作用させる方法。 (F) スルホン酸エステルとしたのちハロゲン置換
（好ましくは沃素置換）し、次いで接触還元す
る方法。 (G) トリフルオロメタンスルホニル化したのち、
光分解する方法。 ５位の水酸基をデオキシ化するための、これら
の反応を行う前に、化合物(3)の各アミノ基及び３
位の水酸基を保護しておくことが好ましい。 アミノ基の保護基としては、従来ペプチド合成
において常用されている公知のアミノ保護基を使
用することができるが、一般式 （式中Ａはアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアルアルキル基を示す）で表わされる
保護基が特に好ましい。これらの保護基として
は、例えば次のものがあげられる。アルキルオキ
シカルボニル基例えばエチルオキシカルボニル
基、三級ブチルオキシカルボニル基、三級アミル
オキシカルボニル基等、シクロアルキルオキシカ
ルボニル基例えばシクロヘキシルオキシカルボニ
ル基等、アリールオキシカルボニル基例えばフエ
ノキシカルボニル基等、アルアルキルオキシカル
ボニル基例えばベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニル基等。 保護基の導入は通常の方法で行われるが、一般
式 Ａ−OCOOH (5) （式中のＡは前記の意味を有する）で表わされる
カルボン酸又はその反応性誘導体を化合物(3)に作
用させる方法が好ましい。カルボン酸の反応性誘
導体としては、例えば酸ハロゲニド、酸アジド化
合物、酸無水物、活性エステルなどがあげられ
る。次いで３位の水酸基のみを選択的に保護す
る。式(3)の化合物には３位の水酸基に隣接して４
位にアミノ基が存在するため、これを利用して環
状カルバメートを形成することにより、３位の水
酸基を４位のアミノ基と共に容易に保護すること
ができる。環状カルバメートは、テトラ−Ｎ−保
護化合物に好ましくは溶媒中でアルカリを作用さ
せることによつて形成される。アルカリとして
は、例えば水素化ナトリウム、水酸化バリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムなど、溶媒
としては、例えばジメチルホルムアミド、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、水など又はこれらの
混合物が用いられる。 R₃が水素原子である式(1)の化合物の４位のメ
チルアミノ基を所望によりアシル化すると、R₃
がアシル基である式(1)の化合物が得られる。 アシル化を実施するには、まず４位のメチルア
ミノ基を遊離させたのちこれをアシル化する。す
なわち、３・４位間の環状カルバメートを加水分
解することにより、容易に４位のメチルアミノ基
を遊離させることができる。この加水分解には通
常の酸加水分解又はアルカリ加水分解を適用する
ことができる。 前記のデオキシ化反応の際に、保護基も同時に
脱離した場合は、まず式(1)の化合物の１位、2′位
及び6′位のアミノ基を保護する。この保護反応は
前記の化合物(3)のアミノ基の保護反応と同様に行
うことができる。このとき４位のメチルアミノ基
も同時に保護されるため、アシル化すべき４位の
メチルアミノ基を遊離させる必要がある。このた
めには、前記と同様にして３位の水酸基と４位の
メチルアミノ基との間で環状カルバメートを形成
し、次いでこれを加水分解することにより、容易
に４位のメチルアミノ基のみを遊離させることが
できる。加水分解には、通常の酸加水分解又はア
ルカリ加水分解を適用することができる。 またテトラ−Ｎ−保護化合物に水を含む溶媒中
でアルカリを作用させると、直接に４位のメチル
アミノ基のみを遊離させることができる。 一方、R₃＝Ｈである式(3)又は(1)の化合物のア
ミノ基を保護する際に、式(5)のカルボン酸の反応
性誘導体として、活性エステル例えば置換フエニ
ルエステル、Ｎ−オキシスクシンイミドエステ
ル、Ｎ−オキシフタルイミドエステルなど、特に
一般式 （式中Ｘは置換されていてもよいフエニル基、こ
はく酸イミジル基又はフタルイミジル基を示す）
で表わされる活性エステルを用いると、１位、
2′位及び6′位のアミノ基だけを選択的に保護する
ことができる。この反応の際に金属化合物、例え
ば酢酸ニツケル、酢酸コバルト、酢酸銅などを存
在させると好ましい結果が得られる。 これらの方法で得られる１位、2′位及び6′位の
アミノ基が保護された式(1)の化合物（R₃＝Ｈ）
の４位のメチルアミノ基をアシル化すると、アミ
ノ基が保護された式(1)の化合物（R₃＝アシル）
が得られる。 アシル化剤としては、アミノ酸例えばグリシ
ン、アラニン、バリン等を用いることが好まし
い。アミノ酸を用いてアシル化するためには、通
常のペプチド合成法を適用することができ、Ｎ−
保護アミノ酸又はその反応性誘導体を作用させ
る。アミノ酸のアミノ基の保護基としては、前記
の保護基のいずれを用いてもよく、また式(1)の化
合物（R₃＝Ｈ）の保護基と同一でも異なつても
よいが、次の工程における脱離反応を容易に行う
ため、同じ保護基を用いることが好ましい。その
ほかアミノ基は例えば低級アルキル基、カルバモ
イル基、ホルミル基等で置換されていてもよい。
アミノ酸の酸反応性誘導体としては式(5)のカルボ
ン酸の反応性誘導体と同様のものを用いることが
できる。 こうして得られるアミノ基及び／又は水酸基が
保護された式(1)の化合物（R₃＝Ｈ又はアシル基）
の保護基を脱離すると、式(1)の遊離化合物が得ら
れる。アミノ基及び水酸基の保護基の脱離には通
常の方法を適用することができるが、接触還元法
及び酸加水分解を用いることが好ましい。接触還
元用触媒としては、例えばパラジウム、白金、ラ
ネーニツケル、ロジウム、ルテニウム、ニツケル
などが用いられる。溶媒としては、例えば水、メ
タノール、エタノール、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、酢酸など又はこれらの混合物を使用で
きる。この反応は、通常は水素圧力１〜５気圧及
び温度０〜100℃で0.1〜10時間以内に終了する。 目的物質である式(1)の化合物ならびにそのアミ
ノ基及び／又は水酸基が保護された化合物の単離
精製は常法により行われるが、カラムクロマトグ
ラフイーを利用することが特に好ましい。吸着剤
としては、例えばCM−セフアデツクス、アンバ
ーライドIRC−50、同IRC−84、同CG−50、カ
ルボキシメチルセルロース等の陽イオン交換樹脂
を用いることが好ましい。展開は、アルカリ性水
溶液例えばアンモニア水、義酸アンモニウム水溶
液などを展開溶媒として用い、濃度勾配法又は濃
度段階法により行うことができる。溶出液より活
性画分を集め、凍結乾燥すると、目的化合物の純
品を得ることができる。 式(1)の化合物は常法に従つて酸付加塩に導くこ
とができる。酸としては無機酸、例えば硫酸、塩
酸、臭化水素酸、沃化水素酸、燐酸、炭酸、硝酸
等ならびに有機酸例えば酢酸、フマル酸、リンゴ
酸、クエン酸、マンデル酸、コハク酸等が用いら
れる。 式(1)の新規化合物の代表例として、５−デメト
キシ−KA−6606 (A)、４−Ｎ−グリシル−５
−デメトキシ−KA−6606 (B)及び５−デメト
キシ−KA−7038 (C)の抗菌スペクトルを、そ
れぞれ５位にメトキシ基を有するKA−6606
（A′）、４−Ｎ−グリシル−KA−6606（B′）及
びKA−7038 （C′）と比較して次表に示す。

【表】

【表】 実施例 １ (a) 次式 で表わされる化合物（５−デ−Ｏ−メチル−
KA−6606）１ｇを水10mlに溶解し、無水炭
酸ナトリウム1.3ｇ及びメタノール40mlを加え
たのち、氷冷下にカルボベンジルオキシクロリ
ド2.6mlを適下する。氷冷下に更に３時間撹拌
を続けたのち、反応液を濃縮乾固する。残査に
クロロホルムを加え、水洗後乾燥し、溶媒を留
去すると、無色結晶2.6ｇが得られる。この結
晶をベンゼンから再結晶すると、融点153〜154
℃の無色針状晶として１・４・2′・6′−テトラ
キス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−５−デ
ーＯ−メチル−KA−6606が得られる。 元素分析値：C₄₆H₅₄N₄O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.62 6.37 6.55 実測値（％） 64.49 6.33 6.61 比旋光度：〔α〕²³ _D＋44゜（c1、CHCl₃） (b) (a)により得られたＮ−保護化合物100mgをジ
オキサン２mlに溶解し、0.1M水酸化バリウム
水溶液1.5mlを加え、60℃で１時間撹拌する。
反応液にドライアイスを加えて中和し、不溶物
を過し、液を濃縮乾固する。残査をプレパ
ラテイブ薄層クロマトグラフイー（クロロホル
ム−メタノール15：１）で分離すると、無色固
体として１・2′・6′−トリス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−３−Ｏ：４−Ｎ−カルボニル
−５−デーＯ−メチル−KA−660668mgが得
られる。 元素分析値：C₃₉H₄₆N₄O₁₁として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 62.72 6.21 7.50 実測値（％） 62.48 6.10 7.28 比旋光度：〔α〕²³ _D＋33゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバメート） PMR値：δ_CDCl3 1.07（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.87（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (c) (b)により得られたＮ・Ｏ−保護化合物223mg
を無水ジメチルホルムアミド５mlに溶解し、50
％油性水素化ナトリウム43mgを氷冷下に加え、
次いでＮ・Ｎ−ジメチルスルフアモイルクロリ
ド0.12mlを加えて氷冷下で１時間撹拌する。反
応液に酢酸0.4mlを加えたのち、氷冷水50mlを
加え、析出物を取して水及びｎ−ヘキサンで
洗浄したのち乾燥する。得られた無色粉末をプ
レパラテイブ薄層クロマトグラフイー（クロロ
ホルム−メタノール20：１）で精製すると、無
色の固体として１・2′・6′−トリス−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−３−Ｏ：４−Ｎ−カル
ボニル−５−デーＯ−メチル−５−Ｏ−（Ｎ・
Ｎ−ジメチルスルフアモイル）−KA−6606
167mgが得られる。 元素分析値：C₄₁H₅₂N₅O₁₃Sとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 57.60 6.13 8.19 3.75 実測値（％） 57.86 6.01 7.93 3.44 比旋光度：〔α〕²³ _D＋35゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1765（環状カルバメート） 1170（スルフアモイル） PMR値：δ_CDCl3 1.08（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.84（6H、ｓ、SO₂N（ＣH₃）₂ ） 2.92（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (d) (c)により得られた５−Ｏ−ジメチルスルフア
モイル化合物135mgを酢酸３mlに溶解し、触媒
としてパラジウム黒を用い常温常圧により接触
還元を行なう。反応液より触媒を去し、液
を濃縮乾固する。残査を水100mlに溶解し、
CM−セフアデツクスＣ−25（NH₄ ⁺型）５mlの
カラムに吸着させ、水洗後0.7Mアンモニア水
で溶出し、溶出液を濃縮乾固する。残査を液体
アンモニア３mlに溶解し、−70℃で金属ナトリ
ウム100mgを加え、３時間撹拌する。反応液に
水を加えてナトリウムを分解したのち濃縮乾固
する。残査を水２mlに溶解し、60℃で３時間加
温したのち水を加えて100mlに希釈し、4N硫酸
で中和する。これをCM−セフアデツクスのカ
ラムに通し、常法により処理すると、無色固体
の次式で表わされる５−デメトキシ−KA−
660615mgが得られる。 元素分析値：C₁₄H₃₀N₄O₃・H₂Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 52.48 10.07 17.49 実測値（％） 52.31 9.83 17.24 比旋光度：〔α〕²² _D＋119゜（c1、H₂O） PMR値：δ_D2O（TMS外部標準） 1.51（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.80（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 5.44（1H、ｄ、Ｊ＝3.7Hz、アノメリツクＨ） 1.7〜2.4（8H、ｍ、Ｃ−ＣH₂ −Ｃ） 実施例 ２ (a) ５−デメトキシ−KA−6606（実施例1d）
30mgをメタノール１mlに溶解し、酢酸ニツケル
（四水塩）75mgを加えて30分間撹拌したのち、
ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミ
ド80mgを加え、室温で３時間撹拌する。反応液
に濃アンモニア水１mlを加え、１時間撹拌した
のち濃縮乾固する。残査にクロロホルム及び
4Nアンモニア水各10mlを加え、クロロホルム
層を分取し、更に4Nアンモニア水で洗浄し、
乾燥して溶媒を留去する。残査をジオキサン
2.3mlに溶解し、トリエチルアミン0.15ml及び
Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシンのＮ−
ヒドロキシスクシンイミドエステル80mgを加
え、60℃で一夜加温する。反応液を濃縮し、残
査をプレパラテイブ薄層クロマトグラフイー
（シリカゲル、クロロホルム−メタノール13：
１）で分離精製すると、無色固体の１・2′・
6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
４−Ｎ−（N′−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル）−５−デメトキシ−KA−6606、すな
わちテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−５−デメトキシ−KA−660661mgが得ら
れる。 元素分析値：C₄₈H₅₇N₅O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.34 6.41 7.82 実測値（％） 64.51 6.43 7.56 比旋光度：〔α〕²³ _D＋38゜（c2、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1635（アミド） PMR値：δ_CDCl3 1.08（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.88（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (b) 得られたＮ−保護化合物60mgを酢酸１mlに溶
解し、パラジウム黒を触媒として接触環元す
る。反応終了後、触媒を去し、水で160mlに
希釈してアンモニア水で中和する。この溶液を
CM−セフアデツクスＣ−25（NH₄ ⁺型）12mlの
カラムに通して目的物質を吸着させ、水洗した
のち0.05Nから0.5Nのアンモニア水の間で濃度
勾配法によつて溶出する。目的物質を含む部分
を凍結乾燥すると、無色固体の次式で表わされ
る５−デメトキシ−KA−660621mgが得られ
る。 元素分析値：C₁₆H₃₃N₅O₄・H₂Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 50.91 9.35 18.55 実測値（％） 50.68 9.21 18.23 比旋光度：〔α〕²² _D＋118゜（c1、H₂O） PMR値：δ_D2O 1.51（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 1.8〜2.4（8H、ｍ、Ｃ−ＣH₂ −Ｃ） 3.45（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 3.99（2H、ｓ、

【式】 ） 5.45（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ３ (a) 次式 で表わされる化合物（５−デ−Ｏ−メチル−
KA−6606）300mgを用い、実施例１(a)と同
様に反応処理すると、無色固体のテトラキス−
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−５−デーＯ−
メチル−KA−6606760mgが得られる。 元素分析値：C₄₆H₅₄N₄O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.62 6.37 6.55 実測値（％） 64.90 6.18 6.48 比旋光度：〔α〕²² _D＋51゜（c1、CHCl₃） PMR値：δ_CDCl3 1.16（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.89（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 7.3〜7.4（20H、ｍ、４×C₆ H₅ ） (b) 上記Ｎ−保護化合物540mgを用い、実施例１
(b)と同様に操作する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフイー（クロロホルム−メタノール20：
１）で分離精製すると、無色固体の１・2′・
6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
３−Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デ−Ｏ−メ
チル−KA−6606384mgが得られる。 元素分析値：C₃₉H₄₆N₄O₁₁として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 62.72 6.21 7.50 実測値（％） 62.70 5.90 7.34 比旋光度：〔α〕²² _D＋48゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバメート） PMR値：δ_CDCl3 1.15（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.87（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (c) 前記のＮ・Ｏ−保護化合物318mgを用い、実
施例１(c)と同様に操作すると、無色固体の１・
2′・6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−３−Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デーＯ
−メチル−５−Ｏ−（Ｎ・Ｎ−ジメチルスルフ
アモイル）−KA−6606275mgが得られる。 元素分析値：C₄₁H₅₂N₅O₁₃Sとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 57.60 6.13 8.19 3.75 実測値（％） 57.51 5.87 7.98 3.63 比旋光度：〔α〕²² _D＋39゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバーメト）、1170〔SO₂N
（CH₃）₂〕 PMR値：δ_CDCl3 1.17（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.85〔6H、ｓ、SO₂N（ＣH₃）₂ 〕 2.89（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (d) 前記の５−Ｏ−ジメチルスルフアモイル化合
物260mgを用い、実施例１(d)と同様に操作する。
CM−セフアデツクスＣ−25（NH₄ ⁺型）イオン
交換クロマトグラフイーで精製すると、無色固
体の次式で表わされる５−デ−メトキシ−KA
−660638mgが得られる。 元素分析値：C₁₅H₃₀N₄O₃・1/2H₂CO₃・H₂O
として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 49.55 9.46 15.94 実測値（％） 49.25 9.18 15.81 比旋光度：〔α〕²² _D＋72゜（c1、H₂O） PMR値：δ_D2O（TMS外部標準） 1.53（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.86（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 5.52（1H、ｄ、Ｊ＝3.5Hz、アノメリツクＨ） 1.7〜2.4（8H、ｍ、CCH₂ −Ｃ） 実施例 ４ (a) ５−デメトキシ−KA−6606（実施例３(d)
26mgを用い、実施例２(a)と同様に操作すると、
無色固体の１・2′・6′−トリス−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−４−Ｎ−（N′−ベンジルオ
キシカルボニルグリシル）−５−デメトキシ−
KA−660658mgが得られる。 元素分析値：C₄₈H₅₇N₅O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.34 6.41 7.82 実測値（％） 64.21 6.19 7.62 比旋光度：〔α〕²² _D＋28゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1640（アミド） PMR値：δ_CDCl3 1.19（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.90（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (b) 前記のＮ−保護化合物48mgを用い、実施例２
(b)と同様に操作すると、無色固体の次式で表わ
される５−デメトキシ−４−Ｎ−グリシル−
KA−660614mgが得られる。 元素分析値：C₁₆H₃₃N₅O₄・3/2H₂Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 49.72 9.39 18.12 実測値（％） 49.97 9.08 18.03 比旋光度：〔α〕²² _D＋108゜（c1、H₂O） PMR：δ_D2O（TMS外部標準） 1.53（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 3.58（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 4.01（2H、ｓ、CO−ＣH₂ −NH₂） 5.40（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ５ (a) 次式 で表わされる化合物（５−デ−Ｏ−メチル−KA
−7038）330mgを用い、実施例１(a)と同様に操
作すると、無色固体のテトラキス−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−５−デ−Ｏ−メチル−KA−
7038820mgが得られる。 元素分析値：C₄₆H₅₄N₄O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.62 6.37 6.55 実測値（％） 64.59 6.21 6.38 比旋光度：〔α〕²² _D＋62゜（c1、CHCl₃） PMR値：δ_CDCl3 2.89（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 2.92（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (b) 前記のＮ−保護化合物795mgを用い、実施例
１(b)と同様に操作すると、無色固体の１・2′・
6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
３−Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デーＯ−メ
チル−KA−7038503mgが得られる。 元素分析値：C₃₉H₄₆N₄O₁₁として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 62.72 6.21 7.50 実測値（％） 62.45 6.02 7.28 比旋光度：〔α〕²² _D＋46゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバメート） PMR値：δ_CDCl3 2.81（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 2.90（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (c) 前記のＮ・Ｏ−保護化合物480mgを用い、実
施例１(c)と同様に操作すると、無色固体の１・
2′・6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−３−Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デーＯ
−メチル−５−Ｏ−（Ｎ・Ｎ−ジメチルスルフ
アモイル）−KA−7038411mgが得られる。 元素分析値：C₄₁H₅₂N₅O₁₃Sとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 57.60 6.13 8.19 3.75 実測値（％） 57.50 5.88 7.86 3.71 比旋光度：〔α〕²² _D＋41゜（c1、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバメート） 1170（スルフアモイル） PMR値：δ_CDCl3 2.82（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 2.91（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (d) 前記の５−Ｏ−スルフアモイル化合物300mg
を用い、実施例１(d)と同様に操作すると、無色
固体の次式で表わされる５−デメトキシ−KA
−703831mgが得られる。 元素分析値：C₁₄H₃₀N₄O₃・H₂Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 52.48 10.07 17.49 実測値（％） 52.24 9.99 17.23 比旋光度：〔α〕²² _D＋36゜（c1、H₂O） PMR値：δ_D2O（TMS外部標準） 2.80（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 2.83（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） 5.54（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ６ (a) ５−デメトキシ−KA−7038（実施例5d）
26mgを用い、実施例２(a)と同様に操作すると、
無色固体の１・2′・6′−トリス−Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−４−Ｎ−（N′−ベンジルオ
キシカルボニルグリシル）−５−デメトキシ−
KA−7038、すなわちテトラキス−Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−５−デメトキシ−KA
−703846mgが得られる。 元素分析値：C₄₈H₅₇N₅O₁₂として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.34 6.41 7.82 実測値（％） 64.08 6.20 7.96 比旋光度：〔α〕²² _D＋32゜（c1、CHCl₃） PMR値：δ_CDCl3 2.91（6H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (b) 前記のＮ−保護化合物40mgを用い、実施例２
(b)と同様に操作すると、無色固体の次式で表わ
される５−デメトキシ−KA−703812mgが得
られる。 元素分析値：C₁₆H₃₃N₅O₄・H₂CO₃として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 48.44 8.37 16.62 実測値（％） 48.21 8.02 16.74 比旋光度：〔α〕²² _D＋112゜（c1、H₂O） PMR値：δ_D2O（TMS外部標準） 2.84（3H、ｓ、6′−Ｎ−ＣH₃ ） 3.61（3H、ｓ、４−Ｎ−ＣH₃ ） 5.40（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ７ (a) 実施例１(b)で得られた１・2′・6′−トリス−
Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−Ｏ：４−
Ｎ−カルボニル−５−デーＯ−メチル−KA−
6606２ｇをジクロロメタン40mlに溶解し、−
10℃でピリジン４ml及びスルフリルクロライド
1.6mlを加え、−10℃で12時間、次いで５℃で４
時間静置する。反応液をクロロホルム及び飽和
重曹水各200mlの混液中に注加する。クロロホ
ルム層を分取し、飽和重曹水で洗浄したのち、
乾燥して溶媒を留去する。残査をベンゼン40ml
に溶解し、70℃で３時間加温し、溶媒を留去す
る。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーに付し、クロロホルム−メタノール（100：
１）で溶出すると、無色固体の１・2′・6′−ト
リス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−クロロ−５−デ
メトキシ−KA−66061.3ｇが得られる。 元素分析値：C₃₉H₄₅ClN₄O₁₀として Ｃ Ｈ Ｎ Cl 計算値（％） 61.21 5.93 7.32 4.63 実測値（％） 60.98 5.81 7.51 4.55 比旋光度：〔α〕²³ _D＋24゜（c2、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1760（環状カルバメート） PMR値：δ_CDCl3 1.06（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.86（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (b) 前記の５−クロル化合物1.2ｇをトルエン24
mlに溶解し、トリ−ｎ−ブチルスタナン1.5ml
を加え、窒素置換したのちアゾビスイソブチロ
ニトリル20mgを加え、80℃で４時間加温する。
反応液を濃縮乾固し、残査をシリカゲルのカラ
ムに付し、クロロホルム−メタノール（100：
１）で溶出すると、無色固体の１・2′・6′−ト
リス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３−
Ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デメトキシ−
KA−66061.13ｇが得られる。 元素分析値：C₃₉H₄₆N₄O₁₀として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 64.10 6.34 7.67 実測値（％） 63.95 6.32 7.61 比旋光度：〔α〕²⁴ _D＋3゜（c2、CHCl₃） IR値：ν^CHCl3 _naxcm^-1 1755（環状カルバメート） PMR値：δ_CDCl3 1.07（3H、ｄ、Ｊ＝７Hz、Ｃ−ＣH₃ ） 2.73（3H、ｓ、Ｎ−ＣH₃ ） (c) 前記の５−デメトキシ体1.1ｇをジオキサン
20mlに溶解し、0.3M水酸化バリウム水溶液25
mlを加え、60℃にて１夜撹拌する。反応液を炭
酸ガスで中和し、不溶物を去し、液を濃縮
乾固する。残査をアセトニトリル10mlに溶解
し、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシン
500mg及びジシクロヘキシルカルボジイミド500
mgを加え、室温で３時間撹拌したのち、不溶物
を去し、液を濃縮乾固する。残査をシリカ
ゲルのカラムに対し、クロロホルム−アセトン
（６：１）で溶出すると、無色固体のテトラキ
ス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−５−デメ
トキシ−KA−6606820mgが得られる。この
化合物は実施例２(a)で得られた標品と、比旋光
度、IR値及びPMR値が一致する。 (d) 前記のＮ−保護化合物から実施例２(b)と同様
にして、５−デメトキシ−KA−6606が得ら
れる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中R₁及びR₂は同一でも異なつてもよく、そ
   れぞれ水素原子又はメチル基、R₃は水素原子又
   はアシル基を示し、そしてアミノ基及び／又は水
   酸基は保護されていてもよい）で表わされる化合
   物又はその酸付加塩。