JPS6324554B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6324554B2 JPS6324554B2 JP56061135A JP6113581A JPS6324554B2 JP S6324554 B2 JPS6324554 B2 JP S6324554B2 JP 56061135 A JP56061135 A JP 56061135A JP 6113581 A JP6113581 A JP 6113581A JP S6324554 B2 JPS6324554 B2 JP S6324554B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- water
- fluoroalkylsilane
- silanol oligomer
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Description
本発明は、固体表面に撥水性を付与するなど表
面の性質を変えるための表面処理剤に係わり、特
に、耐熱性及び耐久性に優れた膜を作る表面処理
剤に関する。
固体表面を撥水性にして用いられる工業製品は
数多く知られている。表面を撥水性にする目的の
うちには、水滴の付着からくる汚染及びそれによ
る電気絶縁性低下を防止することがある。自動車
のボデイ塗装の保護膜、碍子など屋外で使用され
る電気機器の保護膜などがこの例である。
水付着による結霜を防止する目的で、各種の冷
凍機器にも撥水処理が施されている。
また、調理器具などでは、加熱時の焦げつきを
防止する目的で表面処理が施される。
撥水性の表面処理が大きな効果を発揮する分野
は、その非付着性を利用する分野である。例え
ば、電子工業の分野において、LSIなどのパター
ンを形成する際、ホトエツチング工程がとられ
る。その場合、LSI基板に形成されたホトレジス
ト膜を露光する工程で、パターンマスクがホトレ
ジストと密着させられ、露光処理がなされる。露
光処理後にマスクが除去されるが、マスクとホト
レジスト膜との脱離性が悪いと、マスクにホトレ
ジスト膜が付着し、パターン不良の原因となるた
め、マスクの脱離性を良くする目的で、表面処理
がなされる。他の分野、例えばプラスチツクの成
形加工に用いられる金型も、離型性を良くするた
めに、撥水処理をすることが多い。
また、磁気記録装置におけるテープあるいはデ
イスクと磁気ヘツドとの融着を防止する目的で、
磁気ヘツド表面を撥水処理することが行われる。
従来、これらの撥水処理としては、有機シリコ
ーン系の組成物が用いられてきた。オイル状の組
成物を塗布し、高温で焼付ける方法である。しか
しながら、この方法は、高温で焼付ける工程が入
るために、対象となる基質に限定がある。しかも
高温処理による寸法変化が生じ易く、精度の高い
用途には適用できないという難点があつた。また
高温処理している割には、撥水性膜の耐熱温度が
低く、耐久性に乏しいものであつた。
他の方法として、ポリ四フツ化エチレン焼付膜
がある。熱を使う調理器具の多くは、この処理膜
が用いられる。しかし、この方法は、非常に高い
温度で処理をしなければならず、前述のシリコー
ン系処理以上に材料、用途が限定され、汎用性に
乏しいものである。また、材料が非常に高価であ
るという難点がある。
そして、前記いずれの場合でも、局部的に基質
の一部のみを撥水性にすることが難しく、その点
でも汎用性に乏しいものである。
本発明は、これら従来技術の欠点を改良するた
めになされたものであり、その目的とするところ
は、処理温度が低いにもかかわらず、耐熱性及び
耐久性に優れた表面処理膜を形成し得る処理剤を
提供することにある。本発明のもう1つの目的は
印刷法などにより、簡便に局部的に表面処理膜を
形成し得る処理剤を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は表
面処理剤に関する発明であつて、下記一般式:
(nは、10〜20の数を示す)で表わされるシラ
ノールオリゴマーをフルオロアルキルシランで変
性したフルオロアルキルシラン変性シラノールオ
リゴマーを含むことを特徴とする。)
本発明の第2の発明は、他の表面処理剤に関す
る発明であつて、上記第1の発明におけるフルオ
ロアルキルシラン変性シラノールオリゴマー、及
び膜形成重合体を含むことを特徴とする。
本発明は、表面エネルギーを低くするのに有効
なフルオロアルキル基を有するシラン化合物を、
シラノールオリゴマーと反応させることによつて
得られる、フルオロアルキルシラン変性シラノー
ルオリゴマーを含む物が、代表的には優れた撥水
性を有するものであること、また、このフルオロ
アルキルシラン変性シラノールオリゴマーが、多
くの膜形成性重合体と相溶し合い、均一な成膜性
に優れた溶液となりしかも、重合体が存在するに
もかかわらず、優れた撥水性を示すという発見に
基づいてなされたものである。
本発明の第1の発明における、フルオロアルキ
ルシラン変性シラノールオリゴマー単一膜の利点
としては、耐熱性が高いこと、成膜温度が低く、
低温処理が可能であること、そして透明性が良好
であることが挙げられる。それは、溶剤中の溶液
として塗布し、乾燥して成膜することが可能であ
るからであり、溶剤としては、ブチルセロソルブ
及びカルビトールのようなエーテルアルコール、
またエタノールがある。
また、本発明の第2の発明によれば、印刷法に
よる局部的な膜形成も可能である。それは膜形成
性重合体を選ぶことによつて、印刷に適した粘度
の溶液とすることができるからである。しかも、
この重合体が、基質との結合を媒介するため、従
来のような高温焼付処理が不要となり、溶剤除去
に必要な温度である150℃以下の温度で成膜しう
る。更に意外にも、共存させた重合体自体の耐熱
性にかかわらず、フルオロアルキルシラン本来の
耐熱性が発揮され、約450℃という高温まで撥水
性が保持される。この温度は、熱分析の結果との
対応からみると、フルオロアルキル基がシラノー
ル主鎖から脱離する温度に相当する。
また、フルオロアルキル基が撥水性を支配して
いるため、従来のアルキル基、芳香族基によつて
撥水性を具現していたシラン処理に比べて、格段
と低エネルギー表面化されているので、優れた撥
水性、非付着性、及び耐汚染性の表面を得ること
ができた。
本発明で用いるシラノールオリゴマーは、式:
(nは、10〜20の数を示す)
で表わされるシリコーン系化合物である。
このシラノールオリゴマーの変性に用いられる
フルオロアルキルシランとは、フルオロアルキル
基を含有するシラン化合物を意味し、代表的なも
のは、下記一般式で表わされる。
(ここで、Rfはパーフルオロカーボン基、Z
は、直接結合、―O―、―COO―を、Xは低級
アルキル基を、Yは低級アルコキシ基を表わし、
pは1〜3の数、qは0〜2の数を示す)
具体的に例示すると、下記の化合物が挙げられ
る。
ここで、本発明で使用する、フルオロアルキル
シラン変性シラノールオリゴマーの製造の一例を
示すと、以下のとおりである。
1 シラノールオリゴマーの製造例
溶液重合法により、以下の手順で合成する。
温度計、撹拌機、冷却管付の200mlフラスコ中
に、エチルシリケートSi(OC2H5)4を20.5g、エ
タノール37.4g、酢酸エチル14.4g、無水酢酸1.5
g、五酸化リン150mgを同時に仕込み、70℃で1.5
時間反応させる。その後、イオン交換水7gを添
加し、70℃で1.5時間反応させ、シラノールオリ
ゴマー溶液とする。
2 変性シラノールオリゴマーの製造例1
上例1で合成したシラノールオリゴマー溶液を
53.3g、8Dシランを0.62g、100mlフラスコにと
り、撹拌しながら、20℃で5時間反応させて、
8Dシラン変性シラノールオリゴマー溶液とする。
3 変性シラノールオリゴマーの製造例2
シラノールオリゴマーの8%ブチルセロソルブ
溶液を10g秤量し、これに8Dシランを0.3g秤量
添加する。これを50mlの三角フラスコに入れ、フ
ラスコの口に冷却管を付け水冷しながらスターラ
ーで液を撹拌し、70℃恒温水槽中で2時間反応さ
せて、8Dシラン変性シラノールオリゴマーを得
た。
本発明で使用する、フルオロアルキルシラン変
性シラノールオリゴマーの構造は、モデル的に示
すと下式のようになつていると推定される。
シラノールオリゴマー中に結合させるフルオロ
アルキルシランの量は、10〜80%が適当であり、
これは、シラノールオリゴマー中のケイ素対フル
オロアルキルシラン中のケイ素の数の比で、20対
1〜1対1に相当する。
本発明で用いる膜形成性重合体としては、市販
の多くのものが、使用可能である。一般的な選定
基準としては、成膜性の良いことを必要とする。
また、基質との密着性に優れていること、耐熱性
が高いこと、及び耐摩耗性に優れていることなど
も必要なことである。下記のものに限定されるも
のではないが、例えば、熱処理によつて熱分解反
応を起し消失するような重合体、例えば、ニトロ
セルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポ
リメチルメタクリレートなどが使用可能である。
その他には、耐熱性が高く、低温で成膜可能な脂
肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、芳香族エー
テルポリアミド、ポリエステルイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミド、ポリヒドラジドイミド、
ポリベンゾイミダゾールなどは有用な重合体であ
つた。これらの重合体は、直接に、フルオロアル
キルシラン変性シラノールオリゴマー溶液に添加
されるか、適当な溶媒に溶かした溶液の形で加え
られる。これら重合体の配合量は任意であるが、
満足しうる撥水性をうるためには、50重量%以下
が適量である。
以下、いくつかの実施例を基に本発明の効果を
詳細に説明する。
なお、添付図面は、後で詳述するように、本発
明の後述の例で作成した処理膜面における、水の
接触角と熱処理温度との関係を示すグラフであつ
て、耐熱効果を例証するものである。
以下、本発明の第1の発明に係わる、フルオロ
アルキルシラン変性シラノールオリゴマーの単独
膜の例を示す。
例 1〜9
シラノールオリゴマーに、下表に示すフルオロ
アルキルシランを反応させて、固形分濃度6重量
%のフルオロアルキルシラン変性シラノールオリ
ゴマー溶液を造つた。なお、シラノールオリゴマ
ー中の―OH基の数の1/30がフルオロアルキルシ
ランで置換されている。それぞれを、ガラス基板
にスピンナー塗布し、100℃で1時間、更に200℃
で1時間加熱して、厚さ約1000Åの処理膜を得
た。これら処理膜の水に対する接触角を測定した
結果を、下記表1に示す。
The present invention relates to a surface treatment agent for changing surface properties such as imparting water repellency to a solid surface, and particularly to a surface treatment agent for forming a film with excellent heat resistance and durability. Many industrial products are known that are used to make solid surfaces water repellent. Among the purposes of making the surface water repellent is to prevent contamination caused by adhesion of water droplets and the resulting deterioration of electrical insulation properties. Examples of this include protective films for automobile body paint and protective films for electrical equipment used outdoors, such as insulators. Various types of refrigeration equipment are also treated with water repellent treatment to prevent frost formation due to water adhesion. Additionally, cooking utensils and the like are subjected to surface treatment to prevent them from burning during heating. Fields in which water-repellent surface treatments are highly effective are those in which their non-stick properties are utilized. For example, in the field of electronics industry, a photo-etching process is used to form patterns for LSIs and the like. In that case, in the step of exposing the photoresist film formed on the LSI substrate, a pattern mask is brought into close contact with the photoresist, and exposure processing is performed. The mask is removed after the exposure process, but if the removability between the mask and the photoresist film is poor, the photoresist film will adhere to the mask and cause pattern defects, so in order to improve the removability of the mask, Surface treatment is performed. Molds used in other fields, such as plastic molding, are also often treated with water repellent treatment to improve mold releasability. In addition, for the purpose of preventing fusion between the tape or disk and the magnetic head in a magnetic recording device,
Water repellent treatment is performed on the surface of the magnetic head. Conventionally, organic silicone compositions have been used for these water repellent treatments. This method involves applying an oily composition and baking it at a high temperature. However, this method is limited in the substrates that can be used because it involves a step of baking at a high temperature. Moreover, it has the disadvantage that it is susceptible to dimensional changes due to high-temperature treatment and cannot be applied to high-precision applications. In addition, although the water-repellent film was subjected to high-temperature treatment, the heat resistance of the water-repellent film was low and its durability was poor. Another method is polytetrafluoroethylene baked film. This treated membrane is used in many cooking utensils that use heat. However, this method requires processing at a very high temperature, and is more limited in materials and uses than the silicone-based processing described above, making it less versatile. Another drawback is that the materials are very expensive. In any of the above cases, it is difficult to locally make only a portion of the substrate water repellent, and in this respect, the method lacks versatility. The present invention was made to improve these drawbacks of the prior art, and its purpose is to form a surface treated film with excellent heat resistance and durability despite the low processing temperature. The purpose of this invention is to provide a processing agent that obtains the desired results. Another object of the present invention is to provide a treatment agent that can easily form a surface treatment film locally by a printing method or the like. To summarize the present invention, the first invention of the present invention relates to a surface treatment agent, which has the following general formula: It is characterized by containing a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer obtained by modifying a silanol oligomer represented by (n represents a number from 10 to 20) with a fluoroalkylsilane. ) The second invention of the present invention relates to another surface treatment agent, and is characterized by containing the fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer and film-forming polymer according to the first invention. The present invention uses a silane compound having a fluoroalkyl group that is effective for lowering surface energy.
Products containing fluoroalkylsilane-modified silanol oligomers obtained by reacting with silanol oligomers typically have excellent water repellency; This was based on the discovery that it is compatible with the film-forming polymer of . The advantages of the fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer single film in the first aspect of the present invention include high heat resistance, low film formation temperature,
It can be processed at low temperatures and has good transparency. This is because it can be applied as a solution in a solvent and dried to form a film, and the solvents include ether alcohols such as butyl cellosolve and carbitol,
There is also ethanol. Furthermore, according to the second aspect of the present invention, it is also possible to form a film locally by a printing method. This is because by selecting a film-forming polymer, a solution with a viscosity suitable for printing can be obtained. Moreover,
Since this polymer mediates the bond with the substrate, the conventional high-temperature baking process is not necessary, and the film can be formed at a temperature below 150°C, which is the temperature required to remove the solvent. Furthermore, surprisingly, regardless of the heat resistance of the coexisting polymer itself, the inherent heat resistance of fluoroalkylsilane is exhibited, and water repellency is maintained up to a high temperature of approximately 450°C. In view of the correspondence with the results of thermal analysis, this temperature corresponds to the temperature at which the fluoroalkyl group is detached from the silanol main chain. In addition, since the fluoroalkyl group controls water repellency, the surface is made with much lower energy than conventional silane treatment, which achieves water repellency using alkyl or aromatic groups. A water-repellent, non-stick, and stain-resistant surface could be obtained. The silanol oligomer used in the present invention has the formula: (n is a number from 10 to 20) It is a silicone compound represented by: The fluoroalkylsilane used to modify this silanol oligomer means a silane compound containing a fluoroalkyl group, and a typical one is represented by the following general formula. (Here, R f is a perfluorocarbon group, Z
represents a direct bond, -O-, -COO-, X represents a lower alkyl group, Y represents a lower alkoxy group,
(p represents a number from 1 to 3, and q represents a number from 0 to 2) Specific examples include the following compounds. Here, an example of the production of the fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer used in the present invention is as follows. 1 Production example of silanol oligomer Synthesize using the solution polymerization method according to the following procedure. In a 200 ml flask equipped with a thermometer, stirrer, and condenser, add 20.5 g of ethyl silicate Si (OC 2 H 5 ) 4 , 37.4 g of ethanol, 14.4 g of ethyl acetate, and 1.5 g of acetic anhydride.
g, 150 mg of phosphorus pentoxide were added at the same time, and the temperature was 1.5 at 70℃.
Allow time to react. Thereafter, 7 g of ion-exchanged water is added, and the mixture is reacted at 70° C. for 1.5 hours to obtain a silanol oligomer solution. 2 Production example 1 of modified silanol oligomer The silanol oligomer solution synthesized in Example 1 above was
Add 53.3g and 0.62g of 8D silane to a 100ml flask and react at 20℃ for 5 hours with stirring.
Make an 8D silane-modified silanol oligomer solution. 3 Production Example 2 of Modified Silanol Oligomer Weigh 10 g of an 8% butyl cellosolve solution of silanol oligomer, and add 0.3 g of 8D silane to it. This was placed in a 50 ml Erlenmeyer flask, a cooling tube was attached to the mouth of the flask, the liquid was stirred with a stirrer while cooling with water, and the mixture was reacted for 2 hours in a constant temperature water bath at 70°C to obtain an 8D silane-modified silanol oligomer. The structure of the fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer used in the present invention is estimated to be as shown in the following formula as a model. The appropriate amount of fluoroalkylsilane to be bound into the silanol oligomer is 10 to 80%.
This corresponds to a ratio of silicon in the silanol oligomer to silicon in the fluoroalkylsilane of 20:1 to 1:1. Many commercially available film-forming polymers can be used in the present invention. As a general selection criterion, good film formability is required.
It is also necessary to have excellent adhesion to the substrate, high heat resistance, and excellent abrasion resistance. Although not limited to the following, for example, polymers that undergo a thermal decomposition reaction and disappear upon heat treatment, such as nitrocellulose, hydroxypropyl cellulose, and polymethyl methacrylate, can be used.
In addition, aliphatic polyamides, aromatic polyamides, aromatic ether polyamides, polyester imides, polyamide imides, polyimides, polyhydrazidoimides, which have high heat resistance and can be formed into films at low temperatures,
Polybenzimidazole and the like were useful polymers. These polymers are added directly to the fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer solution or in the form of a solution in a suitable solvent. The blending amount of these polymers is arbitrary, but
In order to obtain satisfactory water repellency, the appropriate amount is 50% by weight or less. Hereinafter, the effects of the present invention will be explained in detail based on some examples. The attached drawing is a graph showing the relationship between the contact angle of water and the heat treatment temperature on the treated film surface prepared in the later-described example of the present invention, and illustrates the heat resistance effect, as will be described in detail later. It is something. An example of a single film of a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer according to the first aspect of the present invention will be shown below. Examples 1 to 9 Silanol oligomers were reacted with the fluoroalkylsilanes shown in the table below to produce fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer solutions with a solid content concentration of 6% by weight. Note that 1/30 of the number of --OH groups in the silanol oligomer are substituted with fluoroalkylsilane. Each was applied to a glass substrate using a spinner, heated at 100℃ for 1 hour, and then heated at 200℃.
After heating for 1 hour, a treated film with a thickness of about 1000 Å was obtained. The results of measuring the contact angle of these treated membranes with respect to water are shown in Table 1 below.
【表】
例 10〜13
シラノールオリゴマーに8Dシランを反応させ
て、固形分濃度6重量%の8Dシラン変性シラノ
ールオリゴマー溶液を造つた。シラノールオリゴ
マー中の―OH基の数に対する、8Dシラン置換量
を、それぞれ1/40(例10)、1/20(例11)、1/10
(例12)、1/5(例13)としたものを造つた。これ
らをガラス基板にスピンナー塗布し、100℃で1
時間加熱し、更に200℃で1時間加熱して、厚さ
約1000Åの処理膜を形成した。これら処理膜の水
に対する接触角は下記表2に示すとおりであつ
た。[Table] Examples 10 to 13 Silanol oligomers were reacted with 8D silane to prepare 8D silane-modified silanol oligomer solutions with a solid content concentration of 6% by weight. The amount of 8D silane substitution relative to the number of -OH groups in the silanol oligomer was 1/40 (Example 10), 1/20 (Example 11), and 1/10, respectively.
(Example 12) and 1/5 (Example 13). Coat these on a glass substrate with a spinner and heat at 100℃ for 1
The mixture was heated for 1 hour and further heated at 200° C. for 1 hour to form a treated film with a thickness of about 1000 Å. The contact angles of these treated membranes with water were as shown in Table 2 below.
【表】
以下、本発明の第2の発明に係わる、フルオロ
アルキルシラン変性シラノールオリゴマーと膜形
成性重合体とを含む処理膜の例を示す。
例 14〜27
8Dシラン変性シラノールオリゴマーの10重量
%ブチルセロセルブ溶液と、ポリイミド系樹脂
(日立化成製PIQ、登録商標)の8重量%N―メ
チル―2―ピロリドン溶液とを混合して、撥水処
理液とした。
シラノールオリゴマー中における8Dシラン含
有量、及び8Dシラン変性シラノールオリゴマー
とPIQの配合量比を種々変えて、14種の処理液を
作成した。これらの処理液を用い、回転塗布法に
より、ソーダガラス板に塗布し、100℃で1時間、
引続き200℃で1時間乾燥して、処理膜を形成さ
せた。しかるのちに、処理膜面の水に対する接触
角を、エルマ型接触角計により測定した。膜の成
分組成と接触角の測定結果を表3に示す。なお、
比較のために、無処理のソーダガラス板、及び市
販のテフロン板における接触角についての測定結
果を併記して表3に示す。[Table] Examples of treated membranes containing a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer and a membrane-forming polymer according to the second aspect of the present invention are shown below. Examples 14 to 27 Water-repellent treatment by mixing a 10% by weight solution of 8D silane-modified silanol oligomer with butylcelloselb and an 8% by weight N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide resin (PIQ, registered trademark, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) It was made into a liquid. Fourteen types of treatment solutions were prepared by varying the 8D silane content in the silanol oligomer and the blending ratio of the 8D silane-modified silanol oligomer to PIQ. Using these treatment solutions, apply the coating onto a soda glass plate using the spin coating method and leave it at 100℃ for 1 hour.
Subsequently, it was dried at 200° C. for 1 hour to form a treated film. Thereafter, the contact angle of the treated membrane surface with water was measured using an Elmer type contact angle meter. Table 3 shows the composition of the film and the measurement results of the contact angle. In addition,
For comparison, Table 3 also shows the measurement results of the contact angle on an untreated soda glass plate and a commercially available Teflon plate.
【表】
これらの結果から、多くの処理液において、テ
フロンと同等又はそれ以上の撥水性を示すことが
わかる。
なお、例17と同じ処理液で処理したソーダガラ
ス板を、各温度で1時間加熱した後に、水の接触
角を測定した。その結果を添付図面に示す。それ
は、ほぼ450℃まで高い接触角を示しているから、
それが耐熱性に優れた撥水処理膜であることがわ
かる。
例 28
4Tシラン含有量が5モル%の4Tシラン変性シ
ラノールオリゴマーの10重量%ブチルセロソルブ
溶液に、2,2―ビス〔4―(4―アミノフエノ
キシ)フエニル〕―プロパンとイソフタル酸塩化
物とから溶液重合法で合成した芳香族エーテルポ
リアミドを、該ポリアミドが固形分中で占める割
合が重量比で50%になるように添加し、撹拌混合
し、一様な溶液として撥水処理剤液とした。
この処理液を用い、回転塗布法により、厚さ
200μmのポリエチレンテレフタレートフイルムに
塗布し、120℃で2時間乾燥して、処理膜を形成
させた。その後、この処理膜面の水に対する接触
角を測定した結果、108±3度となり、テフロン
に匹敵する疎水性を示した。
例 29
例28の処理液に、エチルセルロースを、処理液
100重量部当り1重量部添加して、印刷用処理液
を造つた。この処理液を用いて、凸版印刷法によ
りソーダガラス板に塗布し、100℃で1時間、200
℃で1時間乾燥して、処理膜を形成させた。この
膜面での水の接触角は、104±2度であつた。
例 30〜38
フルオロアルキル基の構造を変えた、フルオロ
アルキルシラン変性シラノールオリゴマーの10重
量%ブチルセロソルブ溶液を造つた。このときの
フルオロアルキルシラン含有量は、11.0モル%と
した。これらのオリゴマー溶液に、脂肪族ポリア
ミド〔ダイナマイト・ノーベル社製トロガミド
(Trogamid)−T〕を、脂肪族ポリアミド含有量
が40%になるように添加し溶解させて、撥水処理
液とした。この処理液を用いて、凸版印刷法によ
り、ソーダガラス板の一部に塗布し、100℃で1
時間、ついで200℃で1時間乾燥して、処理膜を
形成させた。これらの処理板について、処理膜の
付いている面、及び処理膜が付いていない面にお
ける、水の接触角を測定した。その結果は、表4
に示したとおりであり、局部的な撥水処理加工が
可能であることを示している。[Table] From these results, it can be seen that many treatment solutions exhibit water repellency equivalent to or better than Teflon. Note that the contact angle of water was measured after heating soda glass plates treated with the same treatment liquid as in Example 17 at each temperature for 1 hour. The results are shown in the attached drawings. Since it shows a high contact angle up to almost 450℃,
It can be seen that this is a water-repellent membrane with excellent heat resistance. Example 28 A solution of 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-propane and isophthalic acid chloride is added to a 10% butyl cellosolve solution of a 4T silane-modified silanol oligomer with a 4T silane content of 5 mol%. A legally synthesized aromatic ether polyamide was added so that the proportion of the polyamide in the solid content was 50% by weight, and the mixture was stirred and mixed to obtain a uniform solution as a water repellent treatment agent. Using this treatment liquid, the thickness is
It was coated on a 200 μm polyethylene terephthalate film and dried at 120° C. for 2 hours to form a treated film. Thereafter, the contact angle of the surface of this treated membrane with water was measured and found to be 108±3 degrees, indicating hydrophobicity comparable to Teflon. Example 29 Add ethyl cellulose to the treatment solution of Example 28.
A printing processing liquid was prepared by adding 1 part by weight per 100 parts by weight. This treatment solution was applied to a soda glass plate using the letterpress printing method, and then heated at 100°C for 1 hour.
It was dried at ℃ for 1 hour to form a treated film. The contact angle of water on this membrane surface was 104±2 degrees. Examples 30-38 A 10% by weight butyl cellosolve solution of a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer with a different structure of the fluoroalkyl group was prepared. The fluoroalkylsilane content at this time was 11.0 mol%. An aliphatic polyamide (Trogamid-T manufactured by Dynamite Nobel) was added to and dissolved in these oligomer solutions so that the aliphatic polyamide content was 40% to obtain a water repellent treatment liquid. Using this treatment liquid, apply it to a part of a soda glass plate by letterpress printing method, and
The treated film was then dried at 200° C. for 1 hour to form a treated film. For these treated plates, the contact angle of water was measured on the surface with the treated membrane and the surface without the treated membrane. The results are shown in Table 4.
This shows that localized water repellent treatment is possible.
【表】
本発明の表面処理剤は撥水性の他に、非粘着
性、離型性、撥油性、潤滑性あるいは耐汚染性な
どもすぐれており、各種の用途に使用できる。[Table] In addition to water repellency, the surface treatment agent of the present invention has excellent non-adhesive properties, mold releasability, oil repellency, lubricity, and stain resistance, and can be used for various purposes.
添付図面は、本発明による例17で作成した処理
膜面における、水の接触角と熱処理温度との関係
を示すグラフである。
The attached drawing is a graph showing the relationship between the contact angle of water and the heat treatment temperature on the surface of the treated membrane prepared in Example 17 according to the present invention.
Claims (1)
ノールオリゴマーをフルオロアルキルシランで変
性したフルオロアルキルシラン変性シラノールオ
リゴマーを含むことを特徴とする表面処理剤。 2 下記一般式: (nは、10〜20の数を示す)で表わされるシラ
ノールオリゴマーをフルオロアルキルシランで変
性したフルオロアルキルシラン変性シラノールオ
リゴマー、及び膜形成性重合体を含むことを特徴
とする表面処理剤。[Claims] 1. The following general formula: A surface treatment agent comprising a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer obtained by modifying a silanol oligomer represented by (n represents a number from 10 to 20) with a fluoroalkylsilane. 2 General formula below: A surface treatment agent comprising a fluoroalkylsilane-modified silanol oligomer represented by (n represents a number of 10 to 20) modified with a fluoroalkylsilane, and a film-forming polymer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6113581A JPS57177082A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Surface treating agent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6113581A JPS57177082A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Surface treating agent |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57177082A JPS57177082A (en) | 1982-10-30 |
| JPS6324554B2 true JPS6324554B2 (en) | 1988-05-20 |
Family
ID=13162329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6113581A Granted JPS57177082A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Surface treating agent |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57177082A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2502061B2 (en) * | 1986-03-18 | 1996-05-29 | 旭硝子株式会社 | Highly flexible water and oil repellent |
| JPH05170486A (en) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Central Glass Co Ltd | Water repellent for glass surface and water-repellent glass |
| DE69926093T2 (en) * | 1998-02-13 | 2006-05-11 | Central Glass Co., Ltd., Ube | Water-repellent solution and method for producing a water-repellent layer on a substrate by means of this solution |
| JP4951248B2 (en) * | 2006-02-22 | 2012-06-13 | 三洋電機株式会社 | Open showcase |
| JP2016098189A (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-30 | セントラル硝子株式会社 | Fluorine-containing ether compound, non-aqueous electrolyte, and non-aqueous electrolyte battery |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1418465A (en) * | 1972-03-09 | 1975-12-17 | Ici Ltd | Fluorine-containing organosilicon compounds |
| US3808249A (en) * | 1973-04-02 | 1974-04-30 | Minnesota Mining & Mfg | Fluoroaliphaticthiomethylsilanes |
| JPS5097616A (en) * | 1973-12-28 | 1975-08-02 | ||
| JPS519739A (en) * | 1974-07-10 | 1976-01-26 | Nikken Chemicals Co Ltd | MARUTOTORIOOSUOSHUSEIBUNTOSURU DENPUNTONO SEIZOHOHO |
| JPS53147029A (en) * | 1977-05-26 | 1978-12-21 | Central Glass Co Ltd | Fluoroorganosilicon compounds having hexafluoropropene oligomer residue and their uses |
-
1981
- 1981-04-24 JP JP6113581A patent/JPS57177082A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57177082A (en) | 1982-10-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0330456B1 (en) | Preparation of silicon-containing polyimide precursor and cured polyimides obtained therefrom | |
| US5304626A (en) | Polyimide copolymers containing 3,3',4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride (BPDA) moieties | |
| JPS6270423A (en) | Organosilicon-terminated polyimide precursor and method for producing polyimide | |
| EP0526650A1 (en) | Photosensitive polymer composition and pattern formation | |
| JPS6324554B2 (en) | ||
| JP3395269B2 (en) | Polyimide siloxane film with low thermal conductivity | |
| KR100955570B1 (en) | Composition for forming a low-temperature curing type protective film, a protective film prepared therefrom, and a substrate comprising the same | |
| JP2024541562A (en) | Coating composition containing polyamide-imide polymer | |
| GB2101149A (en) | Process for producing polyamide acid silicon type intermediate and polyimide silicon copolymer resin | |
| JPH01115931A (en) | Polyimide reaction product | |
| KR890003971B1 (en) | Process for the prepararion of silicone-polyimide precursor | |
| JPS6342656B2 (en) | ||
| EP0304022A2 (en) | Polyimide coating composition | |
| EP0260833B1 (en) | Process for producing polyamide acid having siloxane bonds and polyimide having siloxane bonds and isoindoloquinazolinedione rings | |
| KR920004605B1 (en) | Process for preparing soluble imide oligomer | |
| JPH0931198A (en) | Preparation of siloxane-modified polyamide-imide resin | |
| JPH0670136B2 (en) | Method for producing modified polyimide composition | |
| JPS62265326A (en) | Production of soluble polyimidosiloxane precursor of good film property and production of its cured product | |
| JP2000103961A (en) | Heat-resistant resin composition, coating material and aluminum substrate | |
| JP2515306B2 (en) | Method for producing polyamic acid having siloxane bond and polyimide having siloxane bond and isoindoloquinazolinedione ring | |
| JP3134488B2 (en) | Siloxane-polyimide cocondensate | |
| JPH07118392A (en) | Organic silicic acid polycondensate having quaternary ammonium group | |
| JP3435720B2 (en) | Silicon-containing polyamide (acid) amide, method for producing the same, and cured product thereof | |
| JPS62227473A (en) | Method for improving adhesiveness of polyimide resin | |
| JPS62270625A (en) | Polyether-amide-imide polymer composition |