JPS6340179B2 - - Google Patents
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- JPS6340179B2 JPS6340179B2 JP55012108A JP1210880A JPS6340179B2 JP S6340179 B2 JPS6340179 B2 JP S6340179B2 JP 55012108 A JP55012108 A JP 55012108A JP 1210880 A JP1210880 A JP 1210880A JP S6340179 B2 JPS6340179 B2 JP S6340179B2
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- methyl
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
- C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
- C07D295/182—Radicals derived from carboxylic acids
- C07D295/185—Radicals derived from carboxylic acids from aliphatic carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
- C07D209/08—Indoles; Hydrogenated indoles with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/04—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D215/08—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms with acylated ring nitrogen atom
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
- C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
本発明は、除草剤製造のための中間体として使
用され得る或種のα−ヒドロキシカルボン酸アミ
ド(そのあるものは既知である)の新規な製法に
関する。 クロロ酢酸アニリドを酢酸塩と反応させてアセ
トキシ酢酸アニリドを生じその後にアルカリ性条
件下で鹸化すると、グリコール酸アニリドが得ら
れることは既に開示されている(DE−OS(独国
特許出願公開公報)第2201432号参照)。 当業界の教示によると、アセトキシ酢酸アニリ
ドは、例えば対応クロロ酢酸アニリドを環流下に
希酢酸中の大過剰量の酢酸カリウムと20時間反応
させることによつて製造され得る。 混合物を冷却した後に、形成されたアセトキシ
酢酸アニリドは次に全般に過により単離され得
る。酢酸カリウムが大量に消費されること、およ
び母液が過剰量の酢酸塩および付随的生成物とし
て形成される塩化カリウムによつて汚染されるこ
とは、この方法の欠点として認められるべきであ
る。 当業界の教示によると、アセトキシ酢酸アニリ
ドの鹸化は、メタノール中にて1〜2モル当量の
アルカリ金属水酸化物を用いて実施される。全般
に、中和後に例えば希塩酸を用いて、グリコール
酸アニリドが結晶形態にて分離される。この場合
にもまた母液は比較的大量の塩を含む。さらに、
斯くして得られる生成物の収率および純度は常に
完全に満足なものとは限らない。 本発明は今や一般式 (式中R1は水素またはアルキルを示し、R2お
よびR3は同一であるかまたは異なり、各々水素、
またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アル
アルキル、シクロアルキルまたはアリールを示し
これらは各々任意的には置換されてもよく、また
は窒素含有複素環式基を示し、またはR2および
R3はこれらが結合している窒素原子と共に、任
意的には置換されてもよく、任意的には部分的に
不飽和であつてよくそして任意的にはベンゾ−融
合されてもよい単環式または二環式の環を形成
し、この環は任意的には1つまたはそれ以上のヘ
テロ原子をさらに含んでもよい) にて示されるアミドの製法において、第1段階に
て一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有し、
Halは塩素または臭素を示す) にて示されるα−ハロゲノカルボン酸アミドとア
ルカリ金属酢酸塩とを、第四級アンモニウム塩の
存在下にそして適切ならば希釈剤を用いて、20〜
200℃にて反応させ、そして第2段階にて、斯く
して製造された一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有する)
にて示されるα−アセトキシカルボン酸アミド
を、触媒量のアルカリ金属水酸化物の存在下にて
20〜150℃にて一般式 R4−OH () (式中R4はアルキルを示す) にて示されるアルコールと反応させて脱アシル化
することを特徴とする製法を提供する。 α−ハロゲノカルボン酸アミドと当モル量の酢
酸塩との反応において、対応α−アセトキシカル
ボン酸アミドが高純度および殆んど定量的収率に
て形成され得ることは意外であり、何故ならば当
業界の教示によれば大過剰量の酢酸塩を用いるべ
きであり、そして中程度の収率が達成されるだけ
であると言われているからである。また触媒量の
水酸化物を用いてα−ヒドロキシカルボン酸アミ
ドを生ずるα−アセトキシカルボン酸アミドの脱
アシル化がまた、非常に純粋な生成物を実質的に
定量的収率にて生じ得ることも意外である。 本発明の製法は、簡単に実施され得ることの外
にも、試薬を理論量にて用いること、副反応がな
いこと、および仕上げが容易であるという長所を
有する。付随的生成物および溶剤は容易に分離さ
れ純粋な形にて単離され得るから、廃棄物による
環境汚染は大幅に回避される。 第1段階における出発化合物として例えばクロ
ロ酢酸モルホリドおよび酢酸ナトリウムを用い、
第2段階において試薬としてメタノールを用いた
場合の反応経路は次式により表わされ得る: 式()は出発化合物として用いられるべきα
−ハロゲノカルボン酸アミドを定義する。好適に
は該式において、R1は水素またはメチルを示し、
R2およびR3は同一であるかまたは異なることが
でき、各々水素、炭素原子数1〜20の直鎖または
枝分れアルキル、炭素原子数2〜5のシアノアル
キル、炭素原子数2〜8のアルコキシアルキル、
炭素原子数2〜8のアルキルチオアルキル、炭素
原子数3〜10のアルケニル、炭素原子数3〜10の
アルキニル、炭素原子数3〜12のシクロアルキ
ル、アルキル部分の炭素原子数が1〜2でアリー
ル部分の炭素原子数が6または10のアルアルキ
ル、炭素原子数6または10のアリール〔最後に記
載の2つの基は、1〜3のハロゲン原子(特に弗
素および/または塩素および/または臭素)、1
〜3の各場合に炭素原子数1〜4のアルキル基、
ニトロおよびシアノから選択される1つまたはそ
れ以上の置換基を有し得る〕、モルホリニルまた
はテトラヒドロフルフリルを示し、またはR2お
よびR3は、それらが結合している窒素原子と共
に、任意的には部分的に不飽和であつてよくおよ
び/または任意的にはベンゾ−融合されてもよい
炭素原子数3〜15の単環式または二環式の環を形
成し、この環は任意的には各場合に炭素原子数1
〜5の1〜3のアルキル基(炭素原子数4までで
酸素原子数2までのスピロ−結合置換基もまた可
能である)により置換されてもよく、そしてHal
は好適には塩素を示す。 特に好適な出発物質は、式(){式中R1は水
素を示し、R2およびR3は同一であるかまたは異
なることができ、各々炭素原子数1〜10の直鎖ま
たは枝分れアルキル、シアノエチル、アルコキシ
基の炭素原子数が1〜5(特に1〜3)の2−ア
ルコキシエチル、アリル、プロパルギル、1−メ
チル−プロパルギル、1,1−ジメチルプロパル
ギル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フエニ
ル、ニトロフエニル、トリル、ニトロトリル、ク
ロロフエニル、ナフチル、ベンジル、クロロベン
ジル、クロロトリル、モルホリニルまたはテトラ
ヒドロフルフリルを示し、またはR2およびR3は、
これらが結合している窒素原子と共に、ピロリジ
ル、アルキル基当りの炭素原子数1〜5(特に1
〜3)のモノアルキル−またはジアルキル−ピロ
リジル、モルホリニル、アルキル基当りの炭素原
子数が1〜5(特に1〜3)のモノアルキル−ま
たはジアルキル−モルホリニル、ピペリジル、各
場合にアルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特
に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキル−また
はトリアルキル−ピペリジル、スピロ−置換され
たピペリジル(特に式
用され得る或種のα−ヒドロキシカルボン酸アミ
ド(そのあるものは既知である)の新規な製法に
関する。 クロロ酢酸アニリドを酢酸塩と反応させてアセ
トキシ酢酸アニリドを生じその後にアルカリ性条
件下で鹸化すると、グリコール酸アニリドが得ら
れることは既に開示されている(DE−OS(独国
特許出願公開公報)第2201432号参照)。 当業界の教示によると、アセトキシ酢酸アニリ
ドは、例えば対応クロロ酢酸アニリドを環流下に
希酢酸中の大過剰量の酢酸カリウムと20時間反応
させることによつて製造され得る。 混合物を冷却した後に、形成されたアセトキシ
酢酸アニリドは次に全般に過により単離され得
る。酢酸カリウムが大量に消費されること、およ
び母液が過剰量の酢酸塩および付随的生成物とし
て形成される塩化カリウムによつて汚染されるこ
とは、この方法の欠点として認められるべきであ
る。 当業界の教示によると、アセトキシ酢酸アニリ
ドの鹸化は、メタノール中にて1〜2モル当量の
アルカリ金属水酸化物を用いて実施される。全般
に、中和後に例えば希塩酸を用いて、グリコール
酸アニリドが結晶形態にて分離される。この場合
にもまた母液は比較的大量の塩を含む。さらに、
斯くして得られる生成物の収率および純度は常に
完全に満足なものとは限らない。 本発明は今や一般式 (式中R1は水素またはアルキルを示し、R2お
よびR3は同一であるかまたは異なり、各々水素、
またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アル
アルキル、シクロアルキルまたはアリールを示し
これらは各々任意的には置換されてもよく、また
は窒素含有複素環式基を示し、またはR2および
R3はこれらが結合している窒素原子と共に、任
意的には置換されてもよく、任意的には部分的に
不飽和であつてよくそして任意的にはベンゾ−融
合されてもよい単環式または二環式の環を形成
し、この環は任意的には1つまたはそれ以上のヘ
テロ原子をさらに含んでもよい) にて示されるアミドの製法において、第1段階に
て一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有し、
Halは塩素または臭素を示す) にて示されるα−ハロゲノカルボン酸アミドとア
ルカリ金属酢酸塩とを、第四級アンモニウム塩の
存在下にそして適切ならば希釈剤を用いて、20〜
200℃にて反応させ、そして第2段階にて、斯く
して製造された一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有する)
にて示されるα−アセトキシカルボン酸アミド
を、触媒量のアルカリ金属水酸化物の存在下にて
20〜150℃にて一般式 R4−OH () (式中R4はアルキルを示す) にて示されるアルコールと反応させて脱アシル化
することを特徴とする製法を提供する。 α−ハロゲノカルボン酸アミドと当モル量の酢
酸塩との反応において、対応α−アセトキシカル
ボン酸アミドが高純度および殆んど定量的収率に
て形成され得ることは意外であり、何故ならば当
業界の教示によれば大過剰量の酢酸塩を用いるべ
きであり、そして中程度の収率が達成されるだけ
であると言われているからである。また触媒量の
水酸化物を用いてα−ヒドロキシカルボン酸アミ
ドを生ずるα−アセトキシカルボン酸アミドの脱
アシル化がまた、非常に純粋な生成物を実質的に
定量的収率にて生じ得ることも意外である。 本発明の製法は、簡単に実施され得ることの外
にも、試薬を理論量にて用いること、副反応がな
いこと、および仕上げが容易であるという長所を
有する。付随的生成物および溶剤は容易に分離さ
れ純粋な形にて単離され得るから、廃棄物による
環境汚染は大幅に回避される。 第1段階における出発化合物として例えばクロ
ロ酢酸モルホリドおよび酢酸ナトリウムを用い、
第2段階において試薬としてメタノールを用いた
場合の反応経路は次式により表わされ得る: 式()は出発化合物として用いられるべきα
−ハロゲノカルボン酸アミドを定義する。好適に
は該式において、R1は水素またはメチルを示し、
R2およびR3は同一であるかまたは異なることが
でき、各々水素、炭素原子数1〜20の直鎖または
枝分れアルキル、炭素原子数2〜5のシアノアル
キル、炭素原子数2〜8のアルコキシアルキル、
炭素原子数2〜8のアルキルチオアルキル、炭素
原子数3〜10のアルケニル、炭素原子数3〜10の
アルキニル、炭素原子数3〜12のシクロアルキ
ル、アルキル部分の炭素原子数が1〜2でアリー
ル部分の炭素原子数が6または10のアルアルキ
ル、炭素原子数6または10のアリール〔最後に記
載の2つの基は、1〜3のハロゲン原子(特に弗
素および/または塩素および/または臭素)、1
〜3の各場合に炭素原子数1〜4のアルキル基、
ニトロおよびシアノから選択される1つまたはそ
れ以上の置換基を有し得る〕、モルホリニルまた
はテトラヒドロフルフリルを示し、またはR2お
よびR3は、それらが結合している窒素原子と共
に、任意的には部分的に不飽和であつてよくおよ
び/または任意的にはベンゾ−融合されてもよい
炭素原子数3〜15の単環式または二環式の環を形
成し、この環は任意的には各場合に炭素原子数1
〜5の1〜3のアルキル基(炭素原子数4までで
酸素原子数2までのスピロ−結合置換基もまた可
能である)により置換されてもよく、そしてHal
は好適には塩素を示す。 特に好適な出発物質は、式(){式中R1は水
素を示し、R2およびR3は同一であるかまたは異
なることができ、各々炭素原子数1〜10の直鎖ま
たは枝分れアルキル、シアノエチル、アルコキシ
基の炭素原子数が1〜5(特に1〜3)の2−ア
ルコキシエチル、アリル、プロパルギル、1−メ
チル−プロパルギル、1,1−ジメチルプロパル
ギル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フエニ
ル、ニトロフエニル、トリル、ニトロトリル、ク
ロロフエニル、ナフチル、ベンジル、クロロベン
ジル、クロロトリル、モルホリニルまたはテトラ
ヒドロフルフリルを示し、またはR2およびR3は、
これらが結合している窒素原子と共に、ピロリジ
ル、アルキル基当りの炭素原子数1〜5(特に1
〜3)のモノアルキル−またはジアルキル−ピロ
リジル、モルホリニル、アルキル基当りの炭素原
子数が1〜5(特に1〜3)のモノアルキル−ま
たはジアルキル−モルホリニル、ピペリジル、各
場合にアルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特
に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキル−また
はトリアルキル−ピペリジル、スピロ−置換され
たピペリジル(特に式
【式】にて示
される基)、ペルヒドロ−アゼピニル(=ヘキサ
メチレンイミノ基)、1,2,3,4−テトラヒ
ドロインドリル、各場合にアルキル基当りの炭素
原子数が1〜5(特に1〜3)のモノアルキル−、
ジアルキル−またはトリアルキル−1,2,3,
4−テトラヒドロインドリル、ペルヒドロインド
リル、各場合にアルキル基当りの炭素原子数が1
〜5(特に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキ
ル−またはトリアルキル−ペルヒドロインドリ
ル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリル、各
場合にアルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特
に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキル−また
はトリアルキル−1,2,3,4−テトラヒドロ
−キノリルまたは−イソキノリル、ペルヒドロキ
ノリルまたはペルヒドロイソキノリル、各場合に
アルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特に1〜
3)のモノアルキル−、ジアルキル−またはトリ
アルキル−ペルヒドロ−キノリルまたは−イソキ
ノリル、ペルヒドロチアゾリルまたは式 にて示される基を示し、Halは塩素を示す}にて
示される化合物である。 式()にて示されるハロゲノカルボン酸アミ
ドの例としては、次のものを挙げ得る:クロロ酢
酸メチルアミド、エチルアミド、n−プロピルア
ミド、イソ−プロピルアミド、n−ブチルアミ
ド、イソ−ブチルアミド、ジメチルアミド、ジエ
チルアミド、ジ−n−プロピルアミド、ジ−イソ
−プロピルアミド、N−メチル−N−イソ−プロ
ピルアミド、N−メチル−N−イソ−ブチルアミ
ド、N−メチル−N−第二ブチルアミド、ジ−
(2−エチル−ヘキシル)−アミド、N−メチル−
N−(2−シアノ−エチル)−アミド、ジ−(2−
メトキシ−エチル)−アミド、ジアリルアミド、
N−メチル−N−プロパルギルアミド、N−メチ
ル−N−(1−メチル−プロパルギル)−アミド、
ジプロパルギルアミド、シクロペンチルアミド、
N−メチル−N−シクロペンチルアミド、シクロ
−ヘキシルアミド、N−メチル−N−シクロヘキ
シルアミド、アニリド、2−ニトロ−、3−ニト
ロ−および4−ニトロ−フエニルアミド、2−ク
ロロ−、3−クロロ−および4−クロロ−フエニ
ルアミド、2,4−ジクロロ−、2,5−ジクロ
ロ−、3,4−ジクロロ−および3,5−ジクロ
ロ−フエニルアミド、2−メチル−、3−メチル
−および4−メチル−フエニルアミド、N−メチ
ル−アニリド、N−メチル−N−(2−メチル−
フエニル)−アミド、N−メチル−N−(2−ニト
ロフエニル)−、N−メチル−N−(3−ニトロフ
エニル)−およびN−メチル−N−(4−ニトロフ
エニル)−アミド、N−メチル−N−(2−クロロ
フエニル)−、N−メチル−N−(3−クロロフエ
ニル)−およびN−メチル−N−(4−クロロフエ
ニル)アミド、N−メチル−N−(3−ニトロ−
6−メチル−フエニル)−アミド、N−エチル−
アニリド、N−エチル−N−(2−ニトロ−フエ
ニル)−、N−エチル−N−(3−ニトロ−フエニ
ル)−およびN−エチル−N−(4−ニトロ−フエ
ニル)−アミド、N−エチル−N−(2−クロロ−
フエニル)−、N−エチル−N−(3−クロロ−フ
エニル)−およびN−エチル−N−(4−クロロ−
フエニル)−アミド、N−エチル−N−(3−ニト
ロ−6−メチル−フエニル)−アミド、N−プロ
ピル−アニリド、N−プロピル−N−(2−ニト
ロ−フエニル)−、N−プロピル−N−(3−ニト
ロ−フエニル)−およびN−プロピル−N−(4−
ニトロ−フエニル)−アミド、N−プロピル−N
−(2−クロロ−フエニル)−、N−プロピル−N
−(3−クロロ−フエニル)−およびN−プロピル
−N−(4−クロロ−フエニル)−アミド、N−プ
ロピル−N−(2−メチル−フエニル)−、N−プ
ロピル−N−(3−メチル−フエニル)−およびN
−プロピル−N−(4−メチル−フエニル)−アミ
ド、N−プロピル−N−(3−ニトロ−6−メチ
ル−フエニル)−アミド、N−ブチル−アニリド、
N−ブチル−N−(2−ニトロ−フエニル)−、N
−ブチル−N−(3−ニトロ−フエニル)−および
N−ブチル−N−(4−ニトロ−フエニル)−アミ
ド、N−ブチル−N−(2−クロロ−フエニル)
−、N−ブチル−N−(3−クロロ−フエニル)−
およびN−ブチル−N−(4−クロロ−フエニ
ル))−アミド、N−ブチル−N−(2−メチル−
フエニル)−、N−ブチル−N−(3−メチル−フ
エニル)−およびN−ブチル−N−(4−メチル−
フエニル)−アミド、N−ブチル−N−(3−ニト
ロ−6−メチル−フエニル)−アミド、N−イソ
ブチル−アニリド、N−イソ−ブチル−N−(2
−ニトロ−フエニル)−、N−イソ−ブチル−N
−(3−ニトロ−フエニル)およびN−イソ−ブ
チル−N−(4−ニトロ−フエニル)−アミド、N
−イソ−ブチル−N−(2−クロロ−フエニル)
−、N−イソ−ブチル−N−(3−クロロ−フエ
ニル)−およびN−イソ−ブチル−N−(4−クロ
ロ−フエニル)−アミド、N−イソ−ブチル−N
−(2−メチル−フエニル)−、N−イソ−ブチル
−N−(3−メチル−フエニル)−およびN−イソ
−ブチル−N−(4−メチル−フエニル)−アミ
ド、N−イソ−ブチル−N−(3−ニトロ−6−
メチル−フエニル)−アミド、ナフチ−1−イル
アミド、ナフチ−2−イルアミド、N−メチル−
N−ナフチ−1−イルアミド、N−メチル−N−
ナフチ−2−イルアミド、N−エチル−N−ナフ
チ−1−イルアミド、N−エチル−N−ナフチ−
2−イルアミド、N−n−プロピル−N−ナフチ
−2−イルアミド、N−イソ−プロピル−N−ナ
フチ−2−イルアミド、N−n−ブチル−N−ナ
フチ−2−イルアミド、N−イソ−ブチル−N−
ナフチ−2−イルアミド、ベンジルアミド、ジベ
ンジルアミド、N−メチル−N−ベンジルアミ
ド、N−エチル−N−ベンジルアミド、N−プロ
ピル−N−ベンジルアミド、N−ブチル−N−ベ
ンジルアミド、ピロリジド、2−メチル−ピロリ
ジド、モルホリド、ピペリジド、2−メチル−ピ
ペリジド、4−メチル−ピペリジド、2,4ジメ
チル−ピペリジド、2,4,6−トリメチル−ピ
ペリジド、2−エチル−ピペリジド、4−エチル
−ピペリジド、2,4−ジエチル−ピペリジド、
2,4,6−トリエチル−ピペリジド、2−メチ
ル−4−エチル−ピペリジド、2−エチル−4−
メチル−ピペリジド、2−メチル−5−エチル−
ピペリジド、2−エチル−5−メチル−ピペリジ
ド、2−メチル−6−エチル−ピペリジド、1,
2,3,4−テトラヒドロインドリド、2−メチ
ル−1,2,3,4−テトラヒドロインドリド、
ペルヒドロインドリド、2−メチル−ペルヒドロ
インドリド、2,2−ジメチル−ペルヒドロイン
ドリド、1,2,3,4−テトラヒドロインドリ
ド、2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリド、ペルヒドロキノリド、2−メチル−ペ
ルヒドロキノリド、4−メチル−ペルヒドロキノ
リド、1,2,3,4−テトラヒドロイソ−キノ
リドおよびペルヒドロイソキノリド。 式()にて示されるα−ハロゲノカルボン酸
アミドは既知であるか、または既知法と同様にし
て例えばα−ハロゲノカルボン酸ハライド例えば
クロロアセチルクロリドとアンモニアまたは第一
または第二アミンとを、適切ならば酸受容体例え
ば水酸化カリウムの存在下に反応させることによ
り製造され得る(J.Agric.Food Chem.4(1956)、
518〜522参照)。 第1製法段階における試薬として用いられるべ
きアルカリ金属酢酸塩は既知である。例としては
酢酸ナトリウムおよび酢酸カリウムが挙げられ
る。 第1製法段階における触媒として第四級アンモ
ニウム塩が用いられる。使用可能な第四級アンモ
ニウム塩はテトラアルキルアンモニウム塩であ
り、アルキル基は相互に独立して1〜4の炭素原
子を含み得る。アルキル基当りの炭素原子数が1
〜4でありアルアルキル基のアルキル部分の炭素
原子数が1〜2でありそしてアルアルキル基のア
リール部分の炭素原子数が6または10であるトリ
アルキル−アルアルキルアンモニウム塩をも触媒
として用い得る。 例としてはテトラ−n−ブチル−アンモニウム
ブロミドおよびベンジルトリメチルアンモニウム
クロリドを挙げ得る。 第2製法段階における触媒としてはアルカリ金
属水酸化物が用いられる。 これらの例としては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、が挙げられる。 式()は第2製法段階において試薬としてお
よび同時に希釈剤として用いられるべきアルコー
ルを定義する。該試においてR4は好適には炭素
原子数1〜4の直鎖または枝分れアルキルを示
す。 例としてはメタノール、エタノールおよびn−
およびイソ−プロパノールが挙げられる。 第1製法段階は好適には適切な溶剤または希釈
剤を用いて実施される。適切な溶剤または希釈剤
は実質的に不活性有機溶剤のいずれかである。こ
れらとしては好適には脂肪族および芳香族の、任
意的には塩素化されてもよい炭化水素例えばベン
ジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、エチレン
クロリド、クロロベンゼンおよびo−ジ−クロロ
ベンゼン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオ
キサン、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソプロピルケトンおよびメチルイ
ソブチルケトン、およびニトリル例えばアセトニ
トリルおよびプロピオニトリルが挙げられる。 第1段階の反応温度は全般に20〜200℃、好適
には50〜150℃であり、第2段階の反応温度は20
〜150℃、好適には50〜120℃である。本発明の製
法の両方の段階は全般に常圧下に実施される。 本発明の製法を実施する際には、第1段階にお
いてα−ハロゲノカルボン酸アミド()1モル
当り全般に0.9〜1.5モル、好適には0.95〜1.2モル
の酢酸塩(無水)が用いられ、そして1〜20ミリ
モル、好適には2〜15ミリモルのアンモニウム塩
触媒が用いられる。反応体は全般に前記の希釈剤
の1つの中で所要反応温度に数時間加熱され、そ
して混合物は冷却され、過後に希釈剤が留出せ
しめられる。第二製法段階を実施するためには、
この手順における残渣中に残つているα−アセト
キシカルボン酸アミドを2〜5モル当量の前記の
アルコールの1つの中で、1〜100ミリモル、好
適には5〜50ミリモルの水酸化物または炭酸塩の
存在下に数時間加熱する。過剰量のアルコールお
よび付随的生成物として形成されたエステルを留
出させた後に、α−ヒドロキシカルボン酸アミド
は残渣中に得られそして任意的には再結晶によつ
て精製されてもよい。α−ヒドロキシカルボン酸
アミドは全般に本発明の製法によつて高純度にて
得られ、そして付加的精製工程無しに使用され得
る。 本発明に従つて製造され得るα−ヒドロキシカ
ルボン酸アミドは、除草剤製造のための中間体と
して用いられ得る(例えば米国特許明細書第
3399988号、DE−OS第2201432号およびDE−OS
第2647568号参照)。 製造例 例 1 (a) 中間体 183.5g(1モル)のクロロ酢酸N−メチルア
ニリド、82g(1モル)の無水酢酸ナトリウム、
触媒としての有効量すなわち0.5g(5.4ミリモ
ル)のベンジルトリメチルアンモニウムクロリド
および320mlのトルエンの懸濁液を115〜120℃に
4時間加熱し、次に室温に冷却した。混合物を
過し、残渣を冷トルエンで洗浄した。トルエン溶
液から溶剤を留出させ、残渣をスチームジエツト
真空下に浴温80〜85℃にて蒸発させた後に、207
gのα−アセトキシ−酢酸N−メチルアニリドが
得られ、これは放置すると晶出した。GC(ガスク
ロマトグラフイ分析):=98%純度;融点=54〜
56℃;収率=理論量の99%。 (b) 最終生成物 211.2g(1モル)のα−アセトキシ酢酸N−
メチルアニリド(純度98%)、0.2gの水酸化ナト
リウムおよび160gのメタノールの反応混合物を
還流下に4時間加熱した。メタノールおよび酢酸
メチルの混合物を留出させた。液体蒸留残渣〔定
量的収量のヒドロキシ−酢酸N−メチルアニリド
170g;GC=98%純度;融点=52〜53℃〕は冷却
により固化した。 例 2 (a) 中間体 32.8g(0.169モル)のクロロ酢酸2−エチル
ピペリジド(97.8%純度)、14.4g(0.175モル)
の酢酸ナトリウム(無水)、触媒としての有効量
すなわち0.5g(5.4ミリモル)のベンジルトリメ
チルアンモニウムクロリド、および50mlのトルエ
ンの懸濁液を115〜120℃に5時間加熱した。反応
混合物を室温に冷却した後に、無機残渣を別し
トルエンで洗浄した。トルエン溶液から溶剤を留
出させ残渣を浴温80〜85℃にてスチームジエツト
真空下に蒸発させた後に、36.1gの液体α−アセ
トキシ−酢酸2−エチル−ピペリジドが理論量の
96.7%の収率にて得られた。GC:96.4%純度。 (b) 最終生成物 22g(0.1モル)のα−アセトキシ−酢酸2−
エチルピペリジド(97%純度)、0.2gの水酸化カ
リウムおよび50mlのメタノールの反応混合物を還
流下に5時間加熱した。メタノールおよび酢酸メ
チルの混合物を留出させた。理論量の97.3%の収
率のヒドロキシ−酢酸2−エチル−ピペリジドか
らなる液体蒸留残渣が得られた;GC:97.3%純
度。 下記の表に記載の式()または()にて示
される化合物は、例えば例1または2と同様の方
法により製造され得た。
メチレンイミノ基)、1,2,3,4−テトラヒ
ドロインドリル、各場合にアルキル基当りの炭素
原子数が1〜5(特に1〜3)のモノアルキル−、
ジアルキル−またはトリアルキル−1,2,3,
4−テトラヒドロインドリル、ペルヒドロインド
リル、各場合にアルキル基当りの炭素原子数が1
〜5(特に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキ
ル−またはトリアルキル−ペルヒドロインドリ
ル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリル、各
場合にアルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特
に1〜3)のモノアルキル−、ジアルキル−また
はトリアルキル−1,2,3,4−テトラヒドロ
−キノリルまたは−イソキノリル、ペルヒドロキ
ノリルまたはペルヒドロイソキノリル、各場合に
アルキル基当りの炭素原子数が1〜5(特に1〜
3)のモノアルキル−、ジアルキル−またはトリ
アルキル−ペルヒドロ−キノリルまたは−イソキ
ノリル、ペルヒドロチアゾリルまたは式 にて示される基を示し、Halは塩素を示す}にて
示される化合物である。 式()にて示されるハロゲノカルボン酸アミ
ドの例としては、次のものを挙げ得る:クロロ酢
酸メチルアミド、エチルアミド、n−プロピルア
ミド、イソ−プロピルアミド、n−ブチルアミ
ド、イソ−ブチルアミド、ジメチルアミド、ジエ
チルアミド、ジ−n−プロピルアミド、ジ−イソ
−プロピルアミド、N−メチル−N−イソ−プロ
ピルアミド、N−メチル−N−イソ−ブチルアミ
ド、N−メチル−N−第二ブチルアミド、ジ−
(2−エチル−ヘキシル)−アミド、N−メチル−
N−(2−シアノ−エチル)−アミド、ジ−(2−
メトキシ−エチル)−アミド、ジアリルアミド、
N−メチル−N−プロパルギルアミド、N−メチ
ル−N−(1−メチル−プロパルギル)−アミド、
ジプロパルギルアミド、シクロペンチルアミド、
N−メチル−N−シクロペンチルアミド、シクロ
−ヘキシルアミド、N−メチル−N−シクロヘキ
シルアミド、アニリド、2−ニトロ−、3−ニト
ロ−および4−ニトロ−フエニルアミド、2−ク
ロロ−、3−クロロ−および4−クロロ−フエニ
ルアミド、2,4−ジクロロ−、2,5−ジクロ
ロ−、3,4−ジクロロ−および3,5−ジクロ
ロ−フエニルアミド、2−メチル−、3−メチル
−および4−メチル−フエニルアミド、N−メチ
ル−アニリド、N−メチル−N−(2−メチル−
フエニル)−アミド、N−メチル−N−(2−ニト
ロフエニル)−、N−メチル−N−(3−ニトロフ
エニル)−およびN−メチル−N−(4−ニトロフ
エニル)−アミド、N−メチル−N−(2−クロロ
フエニル)−、N−メチル−N−(3−クロロフエ
ニル)−およびN−メチル−N−(4−クロロフエ
ニル)アミド、N−メチル−N−(3−ニトロ−
6−メチル−フエニル)−アミド、N−エチル−
アニリド、N−エチル−N−(2−ニトロ−フエ
ニル)−、N−エチル−N−(3−ニトロ−フエニ
ル)−およびN−エチル−N−(4−ニトロ−フエ
ニル)−アミド、N−エチル−N−(2−クロロ−
フエニル)−、N−エチル−N−(3−クロロ−フ
エニル)−およびN−エチル−N−(4−クロロ−
フエニル)−アミド、N−エチル−N−(3−ニト
ロ−6−メチル−フエニル)−アミド、N−プロ
ピル−アニリド、N−プロピル−N−(2−ニト
ロ−フエニル)−、N−プロピル−N−(3−ニト
ロ−フエニル)−およびN−プロピル−N−(4−
ニトロ−フエニル)−アミド、N−プロピル−N
−(2−クロロ−フエニル)−、N−プロピル−N
−(3−クロロ−フエニル)−およびN−プロピル
−N−(4−クロロ−フエニル)−アミド、N−プ
ロピル−N−(2−メチル−フエニル)−、N−プ
ロピル−N−(3−メチル−フエニル)−およびN
−プロピル−N−(4−メチル−フエニル)−アミ
ド、N−プロピル−N−(3−ニトロ−6−メチ
ル−フエニル)−アミド、N−ブチル−アニリド、
N−ブチル−N−(2−ニトロ−フエニル)−、N
−ブチル−N−(3−ニトロ−フエニル)−および
N−ブチル−N−(4−ニトロ−フエニル)−アミ
ド、N−ブチル−N−(2−クロロ−フエニル)
−、N−ブチル−N−(3−クロロ−フエニル)−
およびN−ブチル−N−(4−クロロ−フエニ
ル))−アミド、N−ブチル−N−(2−メチル−
フエニル)−、N−ブチル−N−(3−メチル−フ
エニル)−およびN−ブチル−N−(4−メチル−
フエニル)−アミド、N−ブチル−N−(3−ニト
ロ−6−メチル−フエニル)−アミド、N−イソ
ブチル−アニリド、N−イソ−ブチル−N−(2
−ニトロ−フエニル)−、N−イソ−ブチル−N
−(3−ニトロ−フエニル)およびN−イソ−ブ
チル−N−(4−ニトロ−フエニル)−アミド、N
−イソ−ブチル−N−(2−クロロ−フエニル)
−、N−イソ−ブチル−N−(3−クロロ−フエ
ニル)−およびN−イソ−ブチル−N−(4−クロ
ロ−フエニル)−アミド、N−イソ−ブチル−N
−(2−メチル−フエニル)−、N−イソ−ブチル
−N−(3−メチル−フエニル)−およびN−イソ
−ブチル−N−(4−メチル−フエニル)−アミ
ド、N−イソ−ブチル−N−(3−ニトロ−6−
メチル−フエニル)−アミド、ナフチ−1−イル
アミド、ナフチ−2−イルアミド、N−メチル−
N−ナフチ−1−イルアミド、N−メチル−N−
ナフチ−2−イルアミド、N−エチル−N−ナフ
チ−1−イルアミド、N−エチル−N−ナフチ−
2−イルアミド、N−n−プロピル−N−ナフチ
−2−イルアミド、N−イソ−プロピル−N−ナ
フチ−2−イルアミド、N−n−ブチル−N−ナ
フチ−2−イルアミド、N−イソ−ブチル−N−
ナフチ−2−イルアミド、ベンジルアミド、ジベ
ンジルアミド、N−メチル−N−ベンジルアミ
ド、N−エチル−N−ベンジルアミド、N−プロ
ピル−N−ベンジルアミド、N−ブチル−N−ベ
ンジルアミド、ピロリジド、2−メチル−ピロリ
ジド、モルホリド、ピペリジド、2−メチル−ピ
ペリジド、4−メチル−ピペリジド、2,4ジメ
チル−ピペリジド、2,4,6−トリメチル−ピ
ペリジド、2−エチル−ピペリジド、4−エチル
−ピペリジド、2,4−ジエチル−ピペリジド、
2,4,6−トリエチル−ピペリジド、2−メチ
ル−4−エチル−ピペリジド、2−エチル−4−
メチル−ピペリジド、2−メチル−5−エチル−
ピペリジド、2−エチル−5−メチル−ピペリジ
ド、2−メチル−6−エチル−ピペリジド、1,
2,3,4−テトラヒドロインドリド、2−メチ
ル−1,2,3,4−テトラヒドロインドリド、
ペルヒドロインドリド、2−メチル−ペルヒドロ
インドリド、2,2−ジメチル−ペルヒドロイン
ドリド、1,2,3,4−テトラヒドロインドリ
ド、2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリド、ペルヒドロキノリド、2−メチル−ペ
ルヒドロキノリド、4−メチル−ペルヒドロキノ
リド、1,2,3,4−テトラヒドロイソ−キノ
リドおよびペルヒドロイソキノリド。 式()にて示されるα−ハロゲノカルボン酸
アミドは既知であるか、または既知法と同様にし
て例えばα−ハロゲノカルボン酸ハライド例えば
クロロアセチルクロリドとアンモニアまたは第一
または第二アミンとを、適切ならば酸受容体例え
ば水酸化カリウムの存在下に反応させることによ
り製造され得る(J.Agric.Food Chem.4(1956)、
518〜522参照)。 第1製法段階における試薬として用いられるべ
きアルカリ金属酢酸塩は既知である。例としては
酢酸ナトリウムおよび酢酸カリウムが挙げられ
る。 第1製法段階における触媒として第四級アンモ
ニウム塩が用いられる。使用可能な第四級アンモ
ニウム塩はテトラアルキルアンモニウム塩であ
り、アルキル基は相互に独立して1〜4の炭素原
子を含み得る。アルキル基当りの炭素原子数が1
〜4でありアルアルキル基のアルキル部分の炭素
原子数が1〜2でありそしてアルアルキル基のア
リール部分の炭素原子数が6または10であるトリ
アルキル−アルアルキルアンモニウム塩をも触媒
として用い得る。 例としてはテトラ−n−ブチル−アンモニウム
ブロミドおよびベンジルトリメチルアンモニウム
クロリドを挙げ得る。 第2製法段階における触媒としてはアルカリ金
属水酸化物が用いられる。 これらの例としては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、が挙げられる。 式()は第2製法段階において試薬としてお
よび同時に希釈剤として用いられるべきアルコー
ルを定義する。該試においてR4は好適には炭素
原子数1〜4の直鎖または枝分れアルキルを示
す。 例としてはメタノール、エタノールおよびn−
およびイソ−プロパノールが挙げられる。 第1製法段階は好適には適切な溶剤または希釈
剤を用いて実施される。適切な溶剤または希釈剤
は実質的に不活性有機溶剤のいずれかである。こ
れらとしては好適には脂肪族および芳香族の、任
意的には塩素化されてもよい炭化水素例えばベン
ジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、エチレン
クロリド、クロロベンゼンおよびo−ジ−クロロ
ベンゼン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジ
ブチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオ
キサン、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソプロピルケトンおよびメチルイ
ソブチルケトン、およびニトリル例えばアセトニ
トリルおよびプロピオニトリルが挙げられる。 第1段階の反応温度は全般に20〜200℃、好適
には50〜150℃であり、第2段階の反応温度は20
〜150℃、好適には50〜120℃である。本発明の製
法の両方の段階は全般に常圧下に実施される。 本発明の製法を実施する際には、第1段階にお
いてα−ハロゲノカルボン酸アミド()1モル
当り全般に0.9〜1.5モル、好適には0.95〜1.2モル
の酢酸塩(無水)が用いられ、そして1〜20ミリ
モル、好適には2〜15ミリモルのアンモニウム塩
触媒が用いられる。反応体は全般に前記の希釈剤
の1つの中で所要反応温度に数時間加熱され、そ
して混合物は冷却され、過後に希釈剤が留出せ
しめられる。第二製法段階を実施するためには、
この手順における残渣中に残つているα−アセト
キシカルボン酸アミドを2〜5モル当量の前記の
アルコールの1つの中で、1〜100ミリモル、好
適には5〜50ミリモルの水酸化物または炭酸塩の
存在下に数時間加熱する。過剰量のアルコールお
よび付随的生成物として形成されたエステルを留
出させた後に、α−ヒドロキシカルボン酸アミド
は残渣中に得られそして任意的には再結晶によつ
て精製されてもよい。α−ヒドロキシカルボン酸
アミドは全般に本発明の製法によつて高純度にて
得られ、そして付加的精製工程無しに使用され得
る。 本発明に従つて製造され得るα−ヒドロキシカ
ルボン酸アミドは、除草剤製造のための中間体と
して用いられ得る(例えば米国特許明細書第
3399988号、DE−OS第2201432号およびDE−OS
第2647568号参照)。 製造例 例 1 (a) 中間体 183.5g(1モル)のクロロ酢酸N−メチルア
ニリド、82g(1モル)の無水酢酸ナトリウム、
触媒としての有効量すなわち0.5g(5.4ミリモ
ル)のベンジルトリメチルアンモニウムクロリド
および320mlのトルエンの懸濁液を115〜120℃に
4時間加熱し、次に室温に冷却した。混合物を
過し、残渣を冷トルエンで洗浄した。トルエン溶
液から溶剤を留出させ、残渣をスチームジエツト
真空下に浴温80〜85℃にて蒸発させた後に、207
gのα−アセトキシ−酢酸N−メチルアニリドが
得られ、これは放置すると晶出した。GC(ガスク
ロマトグラフイ分析):=98%純度;融点=54〜
56℃;収率=理論量の99%。 (b) 最終生成物 211.2g(1モル)のα−アセトキシ酢酸N−
メチルアニリド(純度98%)、0.2gの水酸化ナト
リウムおよび160gのメタノールの反応混合物を
還流下に4時間加熱した。メタノールおよび酢酸
メチルの混合物を留出させた。液体蒸留残渣〔定
量的収量のヒドロキシ−酢酸N−メチルアニリド
170g;GC=98%純度;融点=52〜53℃〕は冷却
により固化した。 例 2 (a) 中間体 32.8g(0.169モル)のクロロ酢酸2−エチル
ピペリジド(97.8%純度)、14.4g(0.175モル)
の酢酸ナトリウム(無水)、触媒としての有効量
すなわち0.5g(5.4ミリモル)のベンジルトリメ
チルアンモニウムクロリド、および50mlのトルエ
ンの懸濁液を115〜120℃に5時間加熱した。反応
混合物を室温に冷却した後に、無機残渣を別し
トルエンで洗浄した。トルエン溶液から溶剤を留
出させ残渣を浴温80〜85℃にてスチームジエツト
真空下に蒸発させた後に、36.1gの液体α−アセ
トキシ−酢酸2−エチル−ピペリジドが理論量の
96.7%の収率にて得られた。GC:96.4%純度。 (b) 最終生成物 22g(0.1モル)のα−アセトキシ−酢酸2−
エチルピペリジド(97%純度)、0.2gの水酸化カ
リウムおよび50mlのメタノールの反応混合物を還
流下に5時間加熱した。メタノールおよび酢酸メ
チルの混合物を留出させた。理論量の97.3%の収
率のヒドロキシ−酢酸2−エチル−ピペリジドか
らなる液体蒸留残渣が得られた;GC:97.3%純
度。 下記の表に記載の式()または()にて示
される化合物は、例えば例1または2と同様の方
法により製造され得た。
【表】
|
CH3
CH3
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1は水素またはアルキルを示し、R2お
よびR3は同一であるかまたは異なり、各々水素、
またはアルキル、アルケニル、アルキニル、アル
アルキル、シクロアルキルまたはアリールを示し
これらは各々任意的には置換されてもよく、また
は窒素含有複素環式基を示し、またはR2および
R3はこれらが結合している窒素原子と共に、任
意的には置換されてもよく、任意的には部分的に
不飽和であつてよくそして任意的にはベンゾー融
合されてもよい単環式または二環式の環を形成
し、この環は任意的にはヘテロ原子をさらに含ん
でもよい)にて示されるα−ヒドロキシカルボン
酸アミドの製法において、第1段階にて一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有し、
Halは塩素または臭素を示す) にて示されるα−ハロゲノカルボン酸アミドとア
ルカリ金属酢酸塩とを、第四級アンモニウム塩の
存在下にそして適切ならば希釈剤を用いて、20〜
200℃にて反応させ、そして第2段階にて、斯く
して製造された一般式 (式中R1、R2およびR3は前記の意味を有する) にて示されるα−アセトキシカルボン酸アミド
を、触媒量のアルカリ金属水酸化物の存在下に20
〜150℃にて一般式 R4−OH () (式中R4はアルキルを示す) にて示されるアルコールと反応させて脱アシル化
することを特徴とする製法。 2 第1反応段階を50〜150℃にて実施する、特
許請求の範囲第1項記載の製法。 3 第2反応段階を50〜120℃にて実施する、特
許請求の範囲第1または2項記載の製法。 4 第四級アンモニウム塩として、アルキル基当
りの炭素原子数が1〜4のテトラアルキルアンモ
ニウム塩、またはアルキル基当りの炭素原子数が
1〜4でアルアルキル基のアルキル部分の炭素原
子数が1または2でありそしてアルアルキル基の
アリール部分の炭素原子数が6または10であるト
リアルキル−アルアルキルアンモニウム塩を用い
る、特許請求の範囲第1、2または3項記載の製
法。 5 第四級アンモニウム塩としてテトラ−n−ブ
チルアンモニウムブロミドまたはベンジルトリメ
チルアンモニウムクロリドを用いる、特許請求の
範囲第4項記載の製法。 6 第1段階において、アミド()1モル当り
0.9〜1.5モルの酢酸塩(無水)および1〜20ミリ
モルの第四級アンモニウム塩を用いる、特許請求
の範囲第1〜5項のいずれか一項に記載の製法。 7 アミド()1モル当り0.95〜1.2モルの酢
酸塩(無水)および2〜15ミリモルの第四級アン
モニウム塩を用いる、特許請求の範囲第6項記載
の製法。 8 第2段階において、α−ハロゲノカルボン酸
アミド()1モル当り得られるα−アセトキシ
カルボン酸アミド()とともに2〜5モル当量
のアルコール()および1〜100ミリモルのア
ルカリ金属水酸化物を用いる、特許請求の範囲第
1〜7項のいずれか一項に記載の製法。 9 α−ハロゲノカルボン酸アミド()1モル
当り得られるα−アセトキシカルボン酸アミド
()とともに、5〜50ミリモルのアルカリ金属
水酸化物を用いる、特許請求の範囲第8項記載の
製法。 10 第1段階を不活性有機溶剤中にて実施す
る、特許請求の範囲第1〜9項のいずれか一項に
記載の製法。 11 式(){式中R1は水素またはメチルを示
し、R2およびR3は同一であるかまたは異なるこ
とができ、各々水素、炭素原子数1〜20の直鎖ま
たは枝分れアルキル、炭素原子数2〜5のシアノ
アルキル、炭素原子数2〜8のアルコキシアルキ
ル、炭素原子数2〜8のアルキルチオアルキル、
炭素原子数3〜10のアルケニル、炭素原子数3〜
10のアルキニル、炭素原子数3〜12のシクロアル
キル、アルキル部分の炭素原子数が1〜2でアリ
ール部分の炭素原子数が6または10のアルアルキ
ル、炭素原子数6または10のアリール〔最後に記
載の2つの基は、1〜3のハロゲン原子、1〜3
の各場合に炭素原子数1〜4のアルキル基、ニト
ロおよびシアノから選択される1つまたはそれ以
上の置換基を有し得る〕、モルホリニルまたはテ
トラヒドロフルフリルを示し、またはR2および
R3は、それらが結合している窒素原子と共に、
任意的には部分的に不飽和であつてよくおよび/
または任意的にはベンゾー融合されてもよい炭素
原子数3〜15の単環式または二環式の環を形成
し、この環は任意的には各場合に炭素原子数1〜
5のアルキル基(炭素原子数4までで酸素原子数
2までのスピロー結合置換基もまた可能である)
1−3個により置換されてもよく、そしてHalは
塩素を示す}にて示される化合物を用いる、特許
請求の範囲第1〜10項のいずれか一項に記載の
製法。 12 式(){式中R1は水素を示し、R2および
R3は同一であるかまたは異なることができ、
各々炭素原子数1〜10の直鎖または枝分れアルキ
ル、シアノエチル、アルコキシ基の炭素原子数が
1〜5の2−アルコキシエチル、アリル、プロパ
ルギル、1−メチル−プロパルギル、1,1−ジ
メチルプロパルギル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、フエニル、ニトロフエニル、トリル、ニ
トロトリル、クロロフエニル、ナフチル、ベンジ
ル、クロロベンジル、クロロトリル、モルホリニ
ルまたはテトラヒドロフルフリルを示し、または
R2およびR3は、これらが結合している窒素原子
とともに、ピロリジル、アルキル基当りの炭素原
子数1〜5のモノアルキル−またはジアルキル−
ピロリジル、モルホリニル、アルキル基当りの炭
素原子数が1〜5のモノアルキル−またはジアル
キル−モルホリニル、ピペリジル、各場合にアル
キル基当りの炭素原子数が1〜5のモノアルキル
−、ジアルキル−またはトリアルキル−ピペリジ
ル、スピロー置換されたピペリジル、ペルヒドロ
−アゼピニル、1,2,3,4−テトラヒドロイ
ンドリル、各場合にアルキル基当りの炭素原子数
が1〜5のモノアルキル−、ジアルキル−または
トリアルキル−1,2,3,4−テトラヒドロイ
ンドリル、ペルヒドロインドリル、各場合にアル
キル基当りの炭素原子数が1〜5のモノアルキル
−、ジアルキル−またはトリアルキル−ペルヒド
ロインドリル、1,2,3,3−テトラヒドロキ
ノリル、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノ
リル、各場合にアルキル基当りの炭素原子数が1
〜5のモノアルキル−、ジアルキル−またはトリ
アルキル−1,2,3,4−テトラヒドロ−キノ
リルまたは−イソキノリル、ペルヒドロキノリル
またはペルヒドロイソキノリル、各場合にアルキ
ル基当りの炭素原子数が1〜5のモノアルキル
−、ジアルキル−またはトリアルキル−ペルヒド
ロ−キノリルまたは−イソキノリル、ペルヒドロ
チアゾリルまたは式 にて示される基を示し、Halは塩素を示す}にて
示される化合物を用いる、特許請求の範囲第1〜
10項のいずれか一項に記載の製法。 13 アルコール()(式中R4は炭素原子数1
〜4のアルキルを示す)を用いる、特許請求の範
囲第1〜12項のいずれか一項に記載の製法。
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