JPS6358177B2 - - Google Patents
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- JPS6358177B2 JPS6358177B2 JP9391281A JP9391281A JPS6358177B2 JP S6358177 B2 JPS6358177 B2 JP S6358177B2 JP 9391281 A JP9391281 A JP 9391281A JP 9391281 A JP9391281 A JP 9391281A JP S6358177 B2 JPS6358177 B2 JP S6358177B2
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- plating
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- carbon
- conductive
- conductive resin
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はメツキ密着性の優れた直接電気メツキ
可能な成形品を与える、成形性の優れた導電性樹
脂組成物に関する。
近年金属製品に替り、軽量で経済性、成形加工
性に優れた合成樹脂製品を使用するため、それに
耐光性、耐久性などを付与する目的で表面を金属
被覆することが広く行われており、中でも金属メ
ツキは最も重要な加工方法の一つである。
しかし、これまで金属メツキ方法は主として
ABS樹脂、ポリプロピレンなどの熱可塑性樹脂
に対して適用されているが、熱可塑性樹脂の耐熱
性が不十分であるので、耐熱性の要求される分野
に利用できる耐熱性の良い熱硬化性樹脂の金属メ
ツキ製品の開発が要望されている。
このような要望に応えた、フエノール樹脂の金
属メツキ製品を提供する方法として、例えば特公
昭56―15733号に見られるような無電解メツキ法
がある。この方法は、フエノール樹脂成形品を
脱脂 アルカリ処理 化学エツチング セ
ンシタイジング アクテイベーテイング 無
電気メツキ(無電解銅メツキ)を行い、次いでそ
れを電気メツキ(銅―ニツケル―クロム 三層)
を行つて金属被覆を行う方法である。しかしこの
方法は、電気メツキに至るまでに多種複雑な前処
理工程を必要とし、さらにこれらの工程に伴う水
洗処理を施さなければならないという欠点を有
し、その上に、エツチングに使用した混液の再生
に少なからず労力を要するという難点があつた。
そこで、上記の複雑な前処理工程を省くため、
不導体であるフエノール樹脂などの熱硬化性樹脂
にカーボンブラツクを添加し、樹脂を導電化した
上で、直線電気メツキを施す方法が提案されてい
る。しかし、この方法ではメツキ膜は生成する
が、メツキ膜の熱硬化性樹脂下地との密着性がほ
とんどなく実用に耐えるものは得られなかつた。
本発明者らは、こうした従来の、熱硬化性樹脂
の金属メツキ法、中でも電気メツキ法の欠点を克
服するため種々検討を重ねた結果、カーボンブラ
ツクとともに、所定量の硫黄とチウラムスルフイ
ド系化合物を含有させたフエノール樹脂粗成物を
成形後、成形品に直接電気メツキを施せば熱硬化
性樹脂下地との密着性の優れたメツキ膜を形成し
得ることを見出した。本発明は、この知見に基づ
いて完成されたものである。
すなわち本発明は(A)カーボンブラツク 10〜
40wt% (B)硫黄 0.1〜3wt% (C)一般式
(式中、R1〜R4は炭素原子数1〜13の脂肪族
炭化水素残基であり、互いに同じでも異なつてい
てもよく、xは1〜4の整数を示す)
で表わされるチウラムスルフイド系化合物0.1〜
3wt%及び(D)フエノール樹脂と基材を含有する熱
硬化性樹脂が残部、からなり、かつ、常温におけ
る電気抵抗率が500Ω―cm以下であることを特徴
とする導電性樹脂組成物を提供するものである。
本発明の導電性樹脂組成物において前記(A)成分
のカーボンブラツクとしては一般に市販されてい
るものが使用でき、特に制限はない。例として
は、アセチレン法によるアセチレンブラツク、フ
アーネース法によるフアーネースブラツク、天然
ガスサーマル法によるサーマルブラツク、あるい
はランプブラツク、導電性カーボンなどをあげる
ことができる。中でも導電性カーボンは導電性と
流動性のバランスの点で特に好ましく、例として
ライオン・アクゾ社のケツチエンブラツクをあげ
ることができる。また必要に応じて、アセチレン
ブラツク、オイルフアーネスブラツク、黒鉛など
のカーボンをケツチエンブラツクに併用すること
ができる。
カーボンブラツクの含有量は10〜40wt%でな
ければならない。カーボンの量が40wt%より多
すぎると、余りに硬い組成物になり、射出成形温
度でのレオロジー特性が劣る。カーボンが10wt
%より少なすぎると、電気抵抗率が高くなりすぎ
る結果良好なメツキ操作が行えない。
本発明組成物に用いられる前記(B)成分の硫黄
は、単体であればどのような変態のものでもよ
い。粉末状のものが使用上便利である。
硫黄の使用量は通常0.1〜3wt%、好ましくは
0.5〜1.0wt%の範囲である。
硫黄が0.1wt%未満ではメツキの密着性が低下
する。また硫黄が3wt%を超える場合も同様に密
着性が低下する。
次に本発明の組成物において、前記一般式
()であらわされるチウラムスルフイド系化合
物(C)の使用は、メツキに密着性を付与する為に不
可欠である。この化合物(C)の例としては、テトラ
メチルチウラムモノスルフイド、テトラメチルチ
ウラムモノスルフイド、ジメチルジエチルチウラ
ムモノスルフイド、テトラヘプチルチウラムモノ
スルフイド、テトラメチルチウラムジスルフイ
ド、テトラエチルチウラムジスルフイド、ジメチ
ルジエチルチウラムジスルフイド、テトラヘプチ
ルチウラムジスルフイド、テトラメチルチウラム
トリスルフイド、テトラエチルチウラムトリスル
フイド、テトラメチルチウラムテトラスルフイ
ド、テトラエチルチウラムテトラスルフイドなど
をあげることができる。これらは、単独あるいは
2種以上を併用で用いることも可能である。また
これらの化合物に併用して、2―メルカプトベン
ゾチアゾール、ジベンゾチアジルスルフイド、N
―シクロヘキシル2―ベンゾチアジルスルフアン
アミドなどの化合物を用いることもできる。
本発明において、チウラムスルフイド系化合物
の使用量は、通常0.1〜3.0wt%、好ましくは0.5〜
1.0wt%の範囲である。
本発明に使用するフエノール樹脂はノボラツク
型、レゾール型のいずれでもよく、またそれらの
組合せでもよい。このフエノール樹脂には適宜基
材が加えられるが、この基材としては木粉、ガラ
ス繊維などの有機、無機充填材料が単独で、又は
混合して用いられる。基材の量は特に制限はない
が、一般にフエノール樹脂100重量部に対し、約
50〜200重量部の範囲で用いられる。
本発明の導電性樹脂組成物は、上記(A)、(B)、
(C)、及び(D)の各成分を上記の割合で混練してなる
ものであるが、さらに任意成分として少量の酸化
亜鉛を添加すると効果的であり、また、その成形
加工法、用途などに応じて通常の添加剤例えば酸
素に対する安定剤、劣化防止剤、充填剤、滑剤な
どを併用することももちろんできる。混練は、当
業界において一般的に行われている方法でよい
が、特にロール混練が適している。混練温度は重
合体の熱分解をさけるため、なるべく低温が好ま
しい。
本発明の導電性樹脂組成物は、通常の、熱硬化
性樹脂の成形加工法を適用して成形することがで
きる。例えば、圧縮成形、トランスフア成形又は
射出成形方法を適用でき、樹脂温度130〜250℃の
範囲で成形できる。
本発明の樹脂組成物から得られた成形品のメツ
キは、成形後直ちに行うことも可能であるが、通
常、成形後2〜4日放置熟成してから実施するの
が好ましい。メツキは弱アルカリ洗剤による洗浄
と水洗いをしたのち、最初ワツト浴を用いて低電
圧でおこなう。1voltで3分、1.5voltで3分メツ
キを行う。本発明の組成物の成形品にこのように
して形成されたメツキ皮膜は極めて密着性がすぐ
れている。続いて4〜5A/dm2で膜厚が3μmに
なるまで5〜10分メツキする(ニツケルストライ
クメツキ)。以後は通常の電気メツキ条件をその
まま適用できる。例えば、ニツケルストライクメ
ツキ(3μm)+銅メツキ(10μm)+ニツケルメツ
キ(10μm)+クロムメツキ(0.1μm)のようなメ
ツキをすることができる。
本発明による樹脂組成物を用いる物品のプラス
チツクメツキの適用例としては、つまみ類、ビン
のキヤツプ、ホイールキヤツプ、自動車のランプ
ハウジング、グリル、トリム、銘板などをあげる
ことができる。特につまみ類については、多数個
取り成形が可能である。
本発明の導電性樹脂組成物は成形性が優れ、こ
の成形品を用いれば従来のメツキ工程で行われ
ている複雑な前処理工程が不要であるか、簡単な
脱脂洗浄処理だけで十分であるので、直接電気メ
ツキを適用することができる。メツキ膜の樹脂
表面への密着性及び耐久性が優れており、良好な
メツキ製品が得られる。
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明
する。
実施例
フエノール樹脂として、三井東圧化学社製のノ
ボラツク樹脂(銘柄#2000)100重量部に対し、
ヘキサミン(硬化剤)12重量部、木粉100重量部、
ステアリン酸(離型剤)1重量部の割合で混合し
たもの75.6重量部を用い、これにライオン・アク
ゾ社製のケツチエンブラツク15重量部、硫黄0.7
重量部、テトラメチルチウラムジスルフイド0.7
重量部を加え、さらに酸化亜鉛3重量部を加えて
リボンミキサーで混合した。このようにして得ら
れた混合物を熱ロールで十分混練したのち、粉砕
機で粉状にして(粒径約500μm)成形材料組成物
を得た。この粉状組成物を用いインジエクシヨン
成形によつて製造した円板(直径150mm×厚さ3
mm)にワツト浴を用いてニツケルメツキを施こし
メツキの評価を行つた。この評価は、下記の方法
により成形品の電気抵抗率(Ω―cm)及びメツキ
品のメツキ密着強度(Kg/cm)を測定して行つ
た。その結果を下記表に示した。
電気抵抗率:成形品表面に1cmの間隔をあけ
て、テスターのとの電極をつけ、その
間の抵抗を測定する。
メツキ密着強度:メツキ層に巾1cmで切り込み
を入れ、一端をバネ計りに取り付け、角度
90゜の方向に剥離しその時の指示値を読み
取る。
比較例
硫黄及びテトラメチルチウラムジスルフイドを
全く添加しなかつた以外は実施例と同様にして成
形材料組成物を調製し、実施例と同様にして成形
して得た円板につき同様の試験を行つた結果を下
表に示した。
【表】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a conductive resin composition with excellent moldability that provides molded articles with excellent plating adhesion and which can be directly electroplated. In recent years, synthetic resin products, which are lightweight, economical, and have excellent moldability, are being used instead of metal products, so the surface of these products has been coated with metal to give them light resistance, durability, etc. Among these, metal plating is one of the most important processing methods. However, until now, metal plating methods have mainly been
It is applied to thermoplastic resins such as ABS resin and polypropylene, but since the heat resistance of thermoplastic resins is insufficient, thermosetting resins with good heat resistance are used in fields where heat resistance is required. There is a demand for the development of metal plated products. As a method for providing metal-plated products made of phenolic resin in response to such demands, there is an electroless plating method as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 15733/1983. This method involves degreasing, alkaline treatment, chemical etching, sensitizing, activating, and electroless plating (electroless copper plating) on a phenolic resin molded product, and then electroplating (copper-nickel-chromium three-layer).
This method performs metal coating. However, this method has the disadvantage that it requires a variety of complicated pretreatment steps before electroplating, and water washing must be performed in conjunction with these steps.In addition, the mixed solution used for etching is The problem was that playback required a considerable amount of effort. Therefore, in order to eliminate the complicated pretreatment process mentioned above,
A method has been proposed in which carbon black is added to a thermosetting resin such as phenol resin, which is a nonconductor, to make the resin conductive, and then linear electroplating is performed. However, although this method produces a plating film, the adhesion of the plating film to the thermosetting resin base is almost non-existent, and it has not been possible to obtain a product that can be put to practical use. The present inventors have conducted various studies to overcome the drawbacks of conventional metal plating methods for thermosetting resins, especially electroplating methods. We have found that by electroplating directly on the molded product after molding a phenolic resin crude product containing a compound, it is possible to form a plating film with excellent adhesion to the thermosetting resin base. The present invention was completed based on this knowledge. That is, the present invention relates to (A) carbon black 10~
40wt% (B) Sulfur 0.1-3wt% (C) General formula (In the formula, R1 to R4 are aliphatic hydrocarbon residues having 1 to 13 carbon atoms, and may be the same or different from each other, and x represents an integer of 1 to 4. Sulfide compounds 0.1~
Provided is a conductive resin composition characterized in that the remainder is a thermosetting resin containing 3 wt% and (D) a phenolic resin and a base material, and has an electrical resistivity of 500 Ω-cm or less at room temperature. It is something to do. As the carbon black of the component (A) in the conductive resin composition of the present invention, commercially available carbon blacks can be used, and there are no particular limitations. Examples include acetylene black made by the acetylene method, furnace black made by the furnace method, thermal black made by the natural gas thermal method, lamp black, and conductive carbon. Among them, conductive carbon is particularly preferable in terms of the balance between conductivity and fluidity, and an example thereof is Ketchen Black manufactured by Lion Akzo. Further, if necessary, carbon such as acetylene black, oil furnace black, graphite, etc. can be used in combination with the buttchain black. The carbon black content should be 10-40wt%. If the amount of carbon is greater than 40 wt%, the composition will be too hard and have poor rheological properties at injection molding temperatures. 10wt carbon
If it is less than %, the electrical resistivity becomes too high and a good plating operation cannot be performed. The component (B) sulfur used in the composition of the present invention may be in any modified form as long as it is a simple substance. Powdered products are convenient to use. The amount of sulfur used is usually 0.1-3wt%, preferably
It is in the range of 0.5-1.0wt%. If the sulfur content is less than 0.1wt%, the adhesion of plating will decrease. Furthermore, when the sulfur content exceeds 3 wt%, the adhesion similarly decreases. Next, in the composition of the present invention, the use of the thiuram sulfide compound (C) represented by the general formula () is essential for imparting adhesion to the plating. Examples of this compound (C) include tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram monosulfide, dimethyldiethylthiuram monosulfide, tetraheptylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram disulfide, and tetraethylthiuram monosulfide. Thiuram disulfide, dimethyldiethylthiuram disulfide, tetraheptylthiuram disulfide, tetramethylthiuram trisulfide, tetraethylthiuram trisulfide, tetramethylthiuram tetrasulfide, tetraethylthiuram tetrasulfide, etc. I can do it. These can be used alone or in combination of two or more. In addition, in combination with these compounds, 2-mercaptobenzothiazole, dibenzothiazyl sulfide, N
Compounds such as -cyclohexyl 2-benzothiazyl sulfanamide can also be used. In the present invention, the amount of the thiuram sulfide compound used is usually 0.1 to 3.0 wt%, preferably 0.5 to 3.0 wt%.
It is in the range of 1.0wt%. The phenolic resin used in the present invention may be either a novolac type or a resol type, or a combination thereof. A suitable base material is added to this phenolic resin, and organic and inorganic fillers such as wood flour and glass fiber are used alone or in combination. There is no particular limit to the amount of base material, but generally it is about 100 parts by weight of phenolic resin.
It is used in a range of 50 to 200 parts by weight. The conductive resin composition of the present invention includes the above (A), (B),
It is made by kneading each component (C) and (D) in the above ratio, but it is effective to add a small amount of zinc oxide as an optional component. It is of course possible to use conventional additives such as stabilizers against oxygen, deterioration inhibitors, fillers, lubricants, etc., depending on the requirements. The kneading may be carried out by any method commonly used in the industry, but roll kneading is particularly suitable. The kneading temperature is preferably as low as possible in order to avoid thermal decomposition of the polymer. The conductive resin composition of the present invention can be molded by applying a conventional molding method for thermosetting resins. For example, compression molding, transfer molding, or injection molding methods can be applied, and molding can be performed at a resin temperature in the range of 130 to 250°C. Although it is possible to plate the molded product obtained from the resin composition of the present invention immediately after molding, it is usually preferable to plating the molded product after leaving it to ripen for 2 to 4 days after molding. After cleaning with a weak alkaline detergent and rinsing with water, the wood is first washed with a Watts bath at low voltage. Perform plating for 3 minutes at 1volt and 3 minutes at 1.5volt. The plating film thus formed on the molded article of the composition of the present invention has extremely excellent adhesion. Subsequently, the film is plated at 4 to 5 A/dm 2 for 5 to 10 minutes until the film thickness reaches 3 μm (nickel strike plating). From then on, normal electroplating conditions can be applied as is. For example, plating such as nickel strike plating (3 μm) + copper plating (10 μm) + nickel plating (10 μm) + chrome plating (0.1 μm) can be performed. Application examples of plastic plating of articles using the resin composition of the present invention include knobs, bottle caps, wheel caps, automobile lamp housings, grills, trims, nameplates, etc. Especially for knobs, multi-piece molding is possible. The conductive resin composition of the present invention has excellent moldability, and if this molded product is used, the complicated pretreatment process that is carried out in the conventional plating process is not necessary, or a simple degreasing and cleaning process is sufficient. So electroplating can be applied directly. The adhesion and durability of the plating film to the resin surface are excellent, and a good plating product can be obtained. Next, the present invention will be explained in more detail based on examples. Example As a phenolic resin, for 100 parts by weight of novolak resin (brand #2000) manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
12 parts by weight of hexamine (curing agent), 100 parts by weight of wood flour,
Using 75.6 parts by weight of a mixture of 1 part by weight of stearic acid (mold release agent), 15 parts by weight of Ketsutien Black manufactured by Lion Akzo, and 0.7 parts by weight of sulfur.
Part by weight, tetramethylthiuram disulfide 0.7
parts by weight were added, and further 3 parts by weight of zinc oxide were added and mixed using a ribbon mixer. The mixture thus obtained was thoroughly kneaded with a heated roll, and then ground into powder (particle size: about 500 μm) using a pulverizer to obtain a molding material composition. A disc (diameter 150 mm x thickness 3
mm) was nickel-plated using a Watt bath and the plating was evaluated. This evaluation was performed by measuring the electrical resistivity (Ω-cm) of the molded product and the plating adhesion strength (Kg/cm) of the plated product using the following method. The results are shown in the table below. Electrical resistivity: Attach the electrodes of a tester to the surface of the molded product at 1 cm intervals and measure the resistance between them. Plating adhesion strength: Make a 1cm wide incision in the plating layer, attach one end to a spring gauge, and
Peel off in a 90° direction and read the indicated value at that time. Comparative Example A molding material composition was prepared in the same manner as in the example except that sulfur and tetramethylthiuram disulfide were not added at all, and a disk obtained by molding in the same manner as in the example was subjected to the same test. The results are shown in the table below. 【table】
Claims (1)
肪族炭化水素残基であり、互いに同一でも異な
つていてもよく、xは1〜4の整数を示す) で表わされるチウラムスルフイド系化合物 0.1〜3wt% 及び (D) フエノール樹脂と基材を含有する熱硬化性樹
脂が残部 からなり、かつ、常温における電気抵抗率が500
Ω−cm以下であることを特徴とする導電性樹脂組
成物。 2 カーボンブラツクとして導電性カーボン13〜
16wt%を含有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の導電性樹脂組成物。 3 チウラムスルフイド系化合物として、テトラ
メチルチウラムジスルフイドを0.1〜3wt%含有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
導電性樹脂組成物。[Claims] 1 (A) Carbon black 10-40wt% (B) Sulfur 0.1-3wt% (C) General formula (In the formula, R 1 to R 4 are aliphatic hydrocarbon residues having 1 to 13 carbon atoms, and may be the same or different from each other, and x represents an integer of 1 to 4.) The balance consists of a thiuram sulfide compound 0.1 to 3 wt% and (D) a thermosetting resin containing a phenol resin and a base material, and the electrical resistivity at room temperature is 500.
A conductive resin composition characterized by having a conductive resin composition of Ω-cm or less. 2 Conductive carbon 13 as carbon black
The conductive resin composition according to claim 1, characterized in that it contains 16 wt%. 3. The conductive resin composition according to claim 1, which contains 0.1 to 3 wt% of tetramethylthiuram disulfide as the thiuram sulfide compound.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9391281A JPS57209952A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Electrically conductive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9391281A JPS57209952A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Electrically conductive resin composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57209952A JPS57209952A (en) | 1982-12-23 |
| JPS6358177B2 true JPS6358177B2 (en) | 1988-11-15 |
Family
ID=14095679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9391281A Granted JPS57209952A (en) | 1981-06-19 | 1981-06-19 | Electrically conductive resin composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57209952A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4948474A (en) * | 1987-09-18 | 1990-08-14 | Pennsylvania Research Corporation | Copper electroplating solutions and methods |
| DE19641162A1 (en) * | 1996-10-07 | 1998-04-09 | Bakelite Ag | Reflector blank, and method and means for its production |
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-
1981
- 1981-06-19 JP JP9391281A patent/JPS57209952A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57209952A (en) | 1982-12-23 |
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