JPS636640B2 - - Google Patents
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- JPS636640B2 JPS636640B2 JP56114302A JP11430281A JPS636640B2 JP S636640 B2 JPS636640 B2 JP S636640B2 JP 56114302 A JP56114302 A JP 56114302A JP 11430281 A JP11430281 A JP 11430281A JP S636640 B2 JPS636640 B2 JP S636640B2
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- electrolytic
- stainless steel
- ions
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- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
本発明はステンレススチール上の銅、ニツケ
ル、クロム、亜鉛等の金属を素材（ステンレスス
チール）を侵蝕することなく溶解、剥離させるこ
とができる電解剥離液に関する。 従来、ステンレススチール表面に電着した銅、
ニツケル、クロム等の金属を電解によつて溶解、
剥離させる電解剥離液としては、種々のものが知
られている（特公昭52−16694号、同52−21974
号、特開昭51−20032号、同54−26242号、同56−
62999号、Transactins of the Institute of
Metal Finishing，1975，Vol 53，P184−187）。 これらの剥離液は、いずれも硝酸イオン、過塩
素酸イオン、或いは過酸化水素等の酸化剤が添加
されているもので、これら酸化剤はステンレスス
チールを不動態化し、その侵蝕を防止するもので
あつて酸化剤の使用は電解剥離液の必須成分と考
えられていた。 しかし、これらの酸化剤、特に過塩素酸イオン
を含む電解剥離液は、本発明者らの検討の結果で
はかなり効果のあるものであつたが、過塩素酸は
取扱い及び使用に際し非常に危険を伴うものであ
るため、その使用を避けることが望まれていた。 また、実際に市販されている電解剥離液は、
DA40A／ｄm2以上の高電流密度で作業したり、
液が老化してくると、ステンレススチールをかな
り溶解、侵蝕させる場合があり、更に液が老化す
ると槽内に沈殿が多くなる場合もあつて、これら
の解決も望まれていた。 本発明者らは上記事情に鑑み、過塩素酸イオ
ン、硝酸イオンや過酸化物といつた酸化剤を含ま
ず、しかも従来の電解剥離液と同等以上の効果を
有する電解剥離液につき鋭意研究を行なつた結
果、ハロゲンイオンを0.01〜１モル／、非酸化
性の窒素含有化合物を0.05モル／以上、及び脂
肪族カルボン酸又はその塩を１モル／以上含
み、かつPHが６〜８の範囲にあるものを使用する
と、過塩素酸イオンを含まないにもかかわらず、
また硝酸イオンや過酸化物の如き従来必須成分と
考えられていた酸化剤を添加しなくとも、意外に
もステンレススチールを殆んど侵蝕することがな
く、ステンレススチール上の銅、ニツケル、クロ
ム、コバルト、亜鉛等の金属のみを良好に溶解、
剥離し得ることを知見した。更に、上記の電解剥
離液は、高電流密度で電解を行なつてもステンレ
ススチールの溶解、侵蝕が殆んどなく、このため
高電流密度での作業が可能で、めつき用ラツクの
ステンレススチール製枝骨先端部に析出した金属
の電解剥離等の作業を短時間で非常に能率よく行
ない得ると共に、液が老化してもステンレススチ
ールを殆んど溶解、侵蝕することがなく、かつ液
中の金属イオンは陰極に電析して槽内に沈殿物が
生じることが少なく、従つて上記電解剥離液は液
管理、廃液処理等の点でも有利であることを知見
し、本発明をなすに至つたものである。 以下、本発明につき詳しく説明する。 本発明に係る電解剥離液は、ハロゲンイオン
0.01〜１モル／、非酸化性の窒素含有化合物
0.05モル／以上、脂肪族カルボン酸又はその塩
１モル／以上を含有し、PHが６〜８の範囲にあ
るものである。 この場合、ハロゲンイオン源としては、NaCl，
NaBr，NaI，NaF，KCl，KBr，KI，KF，
NH4Cl，NH4Br，NH4I，NH4F，CuCl2，
NiCl2等の１種又は２種以上が使用し得る。その
含有量は上述したように0.01〜１モル／であ
り、0.01モル／よりも少ないと銅、ニツケル等
の金属の溶解速度が遅く、また１モル／より多
いとステンレススチールの溶解が多くなり、本発
明の目的が達成されない。好ましくは、ハロゲン
イオンの含有量は0.05〜0.5モルである。 また、非酸化性の窒素含有化合物としては、従
来より電解剥離液の成分として知られているアミ
ン、アミノ酸、その他の非酸化性窒素含有化合物
のいずれのものをも使用でき、具体的には尿素、
エチレンジアミン、抱水ヒドラジン、ピリジン、
トリエタノールアミン、グリシン、キノリン、ベ
ンゾトリアゾール、ニトリロ三酢酸、トルイジ
ン、スルフアニル酸が例示できる。なお、これら
窒素含有化合物はその１種を単独で用いても２種
以上を併用するようにしてもよい。なおまた、こ
こで「非酸化性」とは、電解剥離液において酸化
剤とならないということで、具体的には硝酸類、
ニトロ化合物を含まない意味で使用される。 非酸化性窒素含有化合物の使用量は0.05モル／
以上であり、その使用量が0.05モル／より少
ないとステンレススチールの侵蝕抑制効果が悪
く、好ましくない。その上限は特に限定されない
が、コスト面から２モル／以下とすることが好
ましい。なお、非酸化性窒素含有化合物の好適な
使用量範囲は0.2〜２モル／である。 更に、脂肪族低級カルボン酸類としては、特に
ギ酸、酢酸などやこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等の脂肪族低級カルボン酸
及びその塩が好適に用いられる。なお、脂肪族低
級カルボン酸類を使用する場合、必要によりオキ
シカルボン酸類を併用することができる。これら
脂肪族カルボン酸類の使用量は１モル／以上
で、これより使用量が少ないと通電性が悪くな
る。その上限は経済性の面より10モル／である
ことが好ましい。 本発明の電解剥離液は、PHが６〜８の範囲にあ
るものであり、特に７〜7.7の範囲に維持される
ようにPH調整を行なうことが好ましい。この場
合、PH調整は塩酸、カルボン酸、苛性アルカリ、
アミン、カルボン酸塩等によることができるが、
PHを下げる場合はギ酸、酢酸等の脂肪族低級カル
ボン酸、PHを上げる場合はアンモニア水を用いる
ことが好ましい。 本発明に係る電解剥離液は、特にステンレスス
チール上の銅、ニツケル、クロム、コバルト、亜
鉛等の金属の溶解、剥離除去に好適に使用でき、
この電解剥離液は過塩素酸イオン、硝酸イオン及
び過酸化物といつた酸化剤を含まないものである
が、これらの酸化剤を含まなくともステンレスス
チールを殆んど溶解、侵蝕することなくステンレ
ススチール上の金属を除去できる。従つて、めつ
き用ラツクの枝骨先端に析出した金属の除去など
の用途に効果的である。この場合、本発明電解剥
離液の作業温度は特に制限されず、加温しても差
支えないが室温においても十分使用し得、温度の
管理幅が広いので、加熱冷却等の付帯設備を必ず
しも必要としない。更に液の撹拌も必ずしも必要
としない。また、陽極電流密度（DA）は通常10
〜100A／ｄm2であり、本発明においては40A／
ｄm2以上、特に80A／ｄm2程度の高電流密度で電
解できるので、剥離時間を短縮することができ、
非常に能率的である。この点につき更に詳述する
と、市販のある種の電解剥離液はせいぜい
DA40A／ｄm2程度までしか採用し得ず、また後
述するように過塩素酸を含む電解剥離液は
DA80A／ｄm2でステンレススチールがかなりの
程度溶解し、これに対し銅の溶解の少ないもので
あつたが、本発明電解剥離液はDA80A／ｄm2で
も良好に使用し得るものである。 また、本発明の電解剥離液は、液中の金属イオ
ンが陰極に析出して液中に沈殿を多く生成させ
ず、また金属イオンが増加してきても素材が溶
解、侵蝕されないので、非常に管理し易く、また
廃液処理の点からも有利である。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具
体的説明する。 〔実施例１、比較例〕 下記組成の電解剥離液を作成した。 実施例１ 比較例 過塩素酸 − 67ｇ／ 塩化アンモニウム ５ｇ／ ５ｇ／ 尿 素 40ｇ／ 40ｇ／ ギ 酸 100ｇ／ 100ｇ／ PH 7.35 7.35 （濃アンモニア水でPH調整） 次に、テストピース（素材）として10×50×１
mmの圧延銅板と電解ニツケル板及び直径３mm、長
さ50mmのSUS304のステンレススチール棒とを用
い、銅板又はニツケル板とステンレススチール棒
とを並列に接続し、これらを陽極とし、また
SUS304のステンレススチール板を陰極として上
記電解剥離液中で下記条件において電解を行な
い、銅板、ニツケル板、ステンレススチール棒の
溶解性を調べた。結果を第１表に示す。 電解条件 温度 20℃（水浴にて定温に保持） 撹拌 なし 極間距離 23mm 槽 500mlアクリル槽 陽極電流密度 表に示す通り 電解時間 20分
ル、クロム、亜鉛等の金属を素材（ステンレスス
チール）を侵蝕することなく溶解、剥離させるこ
とができる電解剥離液に関する。 従来、ステンレススチール表面に電着した銅、
ニツケル、クロム等の金属を電解によつて溶解、
剥離させる電解剥離液としては、種々のものが知
られている（特公昭52−16694号、同52−21974
号、特開昭51−20032号、同54−26242号、同56−
62999号、Transactins of the Institute of
Metal Finishing，1975，Vol 53，P184−187）。 これらの剥離液は、いずれも硝酸イオン、過塩
素酸イオン、或いは過酸化水素等の酸化剤が添加
されているもので、これら酸化剤はステンレスス
チールを不動態化し、その侵蝕を防止するもので
あつて酸化剤の使用は電解剥離液の必須成分と考
えられていた。 しかし、これらの酸化剤、特に過塩素酸イオン
を含む電解剥離液は、本発明者らの検討の結果で
はかなり効果のあるものであつたが、過塩素酸は
取扱い及び使用に際し非常に危険を伴うものであ
るため、その使用を避けることが望まれていた。 また、実際に市販されている電解剥離液は、
DA40A／ｄm2以上の高電流密度で作業したり、
液が老化してくると、ステンレススチールをかな
り溶解、侵蝕させる場合があり、更に液が老化す
ると槽内に沈殿が多くなる場合もあつて、これら
の解決も望まれていた。 本発明者らは上記事情に鑑み、過塩素酸イオ
ン、硝酸イオンや過酸化物といつた酸化剤を含ま
ず、しかも従来の電解剥離液と同等以上の効果を
有する電解剥離液につき鋭意研究を行なつた結
果、ハロゲンイオンを0.01〜１モル／、非酸化
性の窒素含有化合物を0.05モル／以上、及び脂
肪族カルボン酸又はその塩を１モル／以上含
み、かつPHが６〜８の範囲にあるものを使用する
と、過塩素酸イオンを含まないにもかかわらず、
また硝酸イオンや過酸化物の如き従来必須成分と
考えられていた酸化剤を添加しなくとも、意外に
もステンレススチールを殆んど侵蝕することがな
く、ステンレススチール上の銅、ニツケル、クロ
ム、コバルト、亜鉛等の金属のみを良好に溶解、
剥離し得ることを知見した。更に、上記の電解剥
離液は、高電流密度で電解を行なつてもステンレ
ススチールの溶解、侵蝕が殆んどなく、このため
高電流密度での作業が可能で、めつき用ラツクの
ステンレススチール製枝骨先端部に析出した金属
の電解剥離等の作業を短時間で非常に能率よく行
ない得ると共に、液が老化してもステンレススチ
ールを殆んど溶解、侵蝕することがなく、かつ液
中の金属イオンは陰極に電析して槽内に沈殿物が
生じることが少なく、従つて上記電解剥離液は液
管理、廃液処理等の点でも有利であることを知見
し、本発明をなすに至つたものである。 以下、本発明につき詳しく説明する。 本発明に係る電解剥離液は、ハロゲンイオン
0.01〜１モル／、非酸化性の窒素含有化合物
0.05モル／以上、脂肪族カルボン酸又はその塩
１モル／以上を含有し、PHが６〜８の範囲にあ
るものである。 この場合、ハロゲンイオン源としては、NaCl，
NaBr，NaI，NaF，KCl，KBr，KI，KF，
NH4Cl，NH4Br，NH4I，NH4F，CuCl2，
NiCl2等の１種又は２種以上が使用し得る。その
含有量は上述したように0.01〜１モル／であ
り、0.01モル／よりも少ないと銅、ニツケル等
の金属の溶解速度が遅く、また１モル／より多
いとステンレススチールの溶解が多くなり、本発
明の目的が達成されない。好ましくは、ハロゲン
イオンの含有量は0.05〜0.5モルである。 また、非酸化性の窒素含有化合物としては、従
来より電解剥離液の成分として知られているアミ
ン、アミノ酸、その他の非酸化性窒素含有化合物
のいずれのものをも使用でき、具体的には尿素、
エチレンジアミン、抱水ヒドラジン、ピリジン、
トリエタノールアミン、グリシン、キノリン、ベ
ンゾトリアゾール、ニトリロ三酢酸、トルイジ
ン、スルフアニル酸が例示できる。なお、これら
窒素含有化合物はその１種を単独で用いても２種
以上を併用するようにしてもよい。なおまた、こ
こで「非酸化性」とは、電解剥離液において酸化
剤とならないということで、具体的には硝酸類、
ニトロ化合物を含まない意味で使用される。 非酸化性窒素含有化合物の使用量は0.05モル／
以上であり、その使用量が0.05モル／より少
ないとステンレススチールの侵蝕抑制効果が悪
く、好ましくない。その上限は特に限定されない
が、コスト面から２モル／以下とすることが好
ましい。なお、非酸化性窒素含有化合物の好適な
使用量範囲は0.2〜２モル／である。 更に、脂肪族低級カルボン酸類としては、特に
ギ酸、酢酸などやこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等の脂肪族低級カルボン酸
及びその塩が好適に用いられる。なお、脂肪族低
級カルボン酸類を使用する場合、必要によりオキ
シカルボン酸類を併用することができる。これら
脂肪族カルボン酸類の使用量は１モル／以上
で、これより使用量が少ないと通電性が悪くな
る。その上限は経済性の面より10モル／である
ことが好ましい。 本発明の電解剥離液は、PHが６〜８の範囲にあ
るものであり、特に７〜7.7の範囲に維持される
ようにPH調整を行なうことが好ましい。この場
合、PH調整は塩酸、カルボン酸、苛性アルカリ、
アミン、カルボン酸塩等によることができるが、
PHを下げる場合はギ酸、酢酸等の脂肪族低級カル
ボン酸、PHを上げる場合はアンモニア水を用いる
ことが好ましい。 本発明に係る電解剥離液は、特にステンレスス
チール上の銅、ニツケル、クロム、コバルト、亜
鉛等の金属の溶解、剥離除去に好適に使用でき、
この電解剥離液は過塩素酸イオン、硝酸イオン及
び過酸化物といつた酸化剤を含まないものである
が、これらの酸化剤を含まなくともステンレスス
チールを殆んど溶解、侵蝕することなくステンレ
ススチール上の金属を除去できる。従つて、めつ
き用ラツクの枝骨先端に析出した金属の除去など
の用途に効果的である。この場合、本発明電解剥
離液の作業温度は特に制限されず、加温しても差
支えないが室温においても十分使用し得、温度の
管理幅が広いので、加熱冷却等の付帯設備を必ず
しも必要としない。更に液の撹拌も必ずしも必要
としない。また、陽極電流密度（DA）は通常10
〜100A／ｄm2であり、本発明においては40A／
ｄm2以上、特に80A／ｄm2程度の高電流密度で電
解できるので、剥離時間を短縮することができ、
非常に能率的である。この点につき更に詳述する
と、市販のある種の電解剥離液はせいぜい
DA40A／ｄm2程度までしか採用し得ず、また後
述するように過塩素酸を含む電解剥離液は
DA80A／ｄm2でステンレススチールがかなりの
程度溶解し、これに対し銅の溶解の少ないもので
あつたが、本発明電解剥離液はDA80A／ｄm2で
も良好に使用し得るものである。 また、本発明の電解剥離液は、液中の金属イオ
ンが陰極に析出して液中に沈殿を多く生成させ
ず、また金属イオンが増加してきても素材が溶
解、侵蝕されないので、非常に管理し易く、また
廃液処理の点からも有利である。 以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具
体的説明する。 〔実施例１、比較例〕 下記組成の電解剥離液を作成した。 実施例１ 比較例 過塩素酸 − 67ｇ／ 塩化アンモニウム ５ｇ／ ５ｇ／ 尿 素 40ｇ／ 40ｇ／ ギ 酸 100ｇ／ 100ｇ／ PH 7.35 7.35 （濃アンモニア水でPH調整） 次に、テストピース（素材）として10×50×１
mmの圧延銅板と電解ニツケル板及び直径３mm、長
さ50mmのSUS304のステンレススチール棒とを用
い、銅板又はニツケル板とステンレススチール棒
とを並列に接続し、これらを陽極とし、また
SUS304のステンレススチール板を陰極として上
記電解剥離液中で下記条件において電解を行な
い、銅板、ニツケル板、ステンレススチール棒の
溶解性を調べた。結果を第１表に示す。 電解条件 温度 20℃（水浴にて定温に保持） 撹拌 なし 極間距離 23mm 槽 500mlアクリル槽 陽極電流密度 表に示す通り 電解時間 20分
【表】
実施例１と同じ電解剥離液を使用し、この剥離
液中に銅イオンが増加した状態において実施例と
同様の電解試験を行なつた。但し、電解時間はい
ずれも20分間とした。結果を第２表に示す。
液中に銅イオンが増加した状態において実施例と
同様の電解試験を行なつた。但し、電解時間はい
ずれも20分間とした。結果を第２表に示す。
【表】
第２表の結果から明らかなように、市販の電解
剥離液は液が老化するとステンレススチールの溶
解が多くなる場合があるが、本発明電解剥離液は
液が老化しても（金属イオンが増加しても）ステ
ンレススチールを溶解させることなく銅のみを優
先的に溶解させることが知見された。 また、上記の実験から、剥離液中に金属イオン
（この場合は銅イオン）が増加した場合、市販の
電解剥離液では槽内に沈殿物が多くなる場合があ
るが、本発明剥離液では液中の金属イオンは対極
（陰極）に電析し、槽内には沈殿することが少な
いことが認められ、従つて本発明剥離液は液管理
上、廃液処理上等の面でも優れていることが認め
られた。 なお、塩化アンモニウムの代りに塩化ナトリウ
ムを用いたもの、尿素の代りにエチレンジアミ
ン、抱水ヒドラジン、ピリジン、トリエタノール
アミン、グリシン、キノリン、ベンゾトリアゾー
ル、ニトリロ三酢酸、トルイジン、スルフアニル
酸を用いたもの、ギ酸の代りに酢酸を用いたもの
も良好な結果が得られる。
剥離液は液が老化するとステンレススチールの溶
解が多くなる場合があるが、本発明電解剥離液は
液が老化しても（金属イオンが増加しても）ステ
ンレススチールを溶解させることなく銅のみを優
先的に溶解させることが知見された。 また、上記の実験から、剥離液中に金属イオン
（この場合は銅イオン）が増加した場合、市販の
電解剥離液では槽内に沈殿物が多くなる場合があ
るが、本発明剥離液では液中の金属イオンは対極
（陰極）に電析し、槽内には沈殿することが少な
いことが認められ、従つて本発明剥離液は液管理
上、廃液処理上等の面でも優れていることが認め
られた。 なお、塩化アンモニウムの代りに塩化ナトリウ
ムを用いたもの、尿素の代りにエチレンジアミ
ン、抱水ヒドラジン、ピリジン、トリエタノール
アミン、グリシン、キノリン、ベンゾトリアゾー
ル、ニトリロ三酢酸、トルイジン、スルフアニル
酸を用いたもの、ギ酸の代りに酢酸を用いたもの
も良好な結果が得られる。
Claims (1)
- １ ハロゲンイオン0.01〜１モル／、非酸化性
の窒素含有化合物0.05モル／以上、及び脂肪族
低級カルボン酸又はその塩１モル／以上を含有
し、PHが６〜８であることを特徴とする過塩素酸
イオン、硝酸イオン及び過酸化物不含のステンレ
ススチール用電解剥離液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11430281A JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11430281A JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5816075A JPS5816075A (ja) | 1983-01-29 |
| JPS636640B2 true JPS636640B2 (ja) | 1988-02-10 |
Family
ID=14634461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11430281A Granted JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5816075A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02140726U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | ||
| JPH02140725U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245885A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-27 | 立川ブラインド工業株式会社 | ブラインド組立装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS502859A (ja) * | 1973-05-09 | 1975-01-13 | ||
| JPS5479131A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-23 | Okuno Chem Ind Co | Electrolytic bath for removing electrodeposited metal on stainless steel substrate |
-
1981
- 1981-07-21 JP JP11430281A patent/JPS5816075A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02140726U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | ||
| JPH02140725U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5816075A (ja) | 1983-01-29 |
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