JPS6366901B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6366901B2 JPS6366901B2 JP61129821A JP12982186A JPS6366901B2 JP S6366901 B2 JPS6366901 B2 JP S6366901B2 JP 61129821 A JP61129821 A JP 61129821A JP 12982186 A JP12982186 A JP 12982186A JP S6366901 B2 JPS6366901 B2 JP S6366901B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- aluminum
- processing equipment
- jig
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は薄膜処理設備の表面に付着する薄膜物
質の除去を容易に行うために、まずアルミニウム
を付着させ、この上に付着した積層薄膜のピンホ
ールを通して下地のアルミニウム薄膜をアルカリ
溶液により溶解し、積層薄膜全体を剥離洗浄する
ようにしたものである。
質の除去を容易に行うために、まずアルミニウム
を付着させ、この上に付着した積層薄膜のピンホ
ールを通して下地のアルミニウム薄膜をアルカリ
溶液により溶解し、積層薄膜全体を剥離洗浄する
ようにしたものである。
本発明は薄膜処理に使用する処理設備の表面に
付着した薄膜を容易に除去する方法に関する。
付着した薄膜を容易に除去する方法に関する。
薄膜処理設備には真空蒸着装置、イオンプレー
テイング、スパツタリング装置等が知られてい
る。これらの装置はいずれも真空乃至低圧条件下
で薄膜材料となる金属等の蒸気あるいはイオンを
発生させ、これを処理対象物の表面に凝縮させる
ことにより薄い金属等の被膜を形成させるもので
ある。
テイング、スパツタリング装置等が知られてい
る。これらの装置はいずれも真空乃至低圧条件下
で薄膜材料となる金属等の蒸気あるいはイオンを
発生させ、これを処理対象物の表面に凝縮させる
ことにより薄い金属等の被膜を形成させるもので
ある。
薄膜の材料としては、例えば二酸化珪素、クロ
ーム、銅、アルミニウム等が用いられるが、処理
対象物に各種の薄膜物質を付着させる際に、処理
対象物以外の処理設備の表面、すなわち治具の外
面および装置の内壁（真空容器の内面等）にも薄
膜物質が付着し、それが原因で薄膜処理設備内の
真空度が低下し、その結果処理対象物の薄膜品質
を低下させる。その対策として付着した積層薄膜
の定期的除去が重要な作業となつている。
ーム、銅、アルミニウム等が用いられるが、処理
対象物に各種の薄膜物質を付着させる際に、処理
対象物以外の処理設備の表面、すなわち治具の外
面および装置の内壁（真空容器の内面等）にも薄
膜物質が付着し、それが原因で薄膜処理設備内の
真空度が低下し、その結果処理対象物の薄膜品質
を低下させる。その対策として付着した積層薄膜
の定期的除去が重要な作業となつている。
第２図は従来の除去方法を説明するための要部
断面図である。図において、１は治具または真空
容器等の装置内壁であつて、前記処理設備の表面
を具体的に示し、これらは一体的構成の場合と分
離可能の構成の場合もある。２は前記治具の表面
または真空容器の内壁に付着した多層の薄膜層、
３はサンドペーパ、砥石等を示す。
断面図である。図において、１は治具または真空
容器等の装置内壁であつて、前記処理設備の表面
を具体的に示し、これらは一体的構成の場合と分
離可能の構成の場合もある。２は前記治具の表面
または真空容器の内壁に付着した多層の薄膜層、
３はサンドペーパ、砥石等を示す。
このように治具１の表面および装置内壁１に付
着した薄膜層２はサンドペーパ、砥石等３を用い
て丹念にこすり落としていた。
着した薄膜層２はサンドペーパ、砥石等３を用い
て丹念にこすり落としていた。
上記従来の除去方法によれば、多大の作業時間
が必要であるうえに、治具表面および装置内壁ま
で損傷する欠点がある。
が必要であるうえに、治具表面および装置内壁ま
で損傷する欠点がある。
本発明は上記従来の欠点に鑑みて創作されたも
ので、薄膜の除去作業の効率化が可能となる除去
方法の提供を目的とする。
ので、薄膜の除去作業の効率化が可能となる除去
方法の提供を目的とする。
本発明の薄膜処理設備の付着物除去方法は第１
図に示すように、アルミニウムの薄膜４をあらか
じめ前記治具１の表面および装置内壁１に付着さ
せておき、処理対象物の薄膜処理後に当該治具１
装置内壁１をアルカリ溶液６に浸漬してから洗浄
し、前記アルミニウム薄膜４上に付着した薄膜２
をアルミニウム薄膜４と共に剥離することを特徴
とする。
図に示すように、アルミニウムの薄膜４をあらか
じめ前記治具１の表面および装置内壁１に付着さ
せておき、処理対象物の薄膜処理後に当該治具１
装置内壁１をアルカリ溶液６に浸漬してから洗浄
し、前記アルミニウム薄膜４上に付着した薄膜２
をアルミニウム薄膜４と共に剥離することを特徴
とする。
治具１の表面および装置内壁１にアルミニウム
薄膜４の下地を形成しておけば、その上に付着し
た薄膜層２はアルカリ溶液（例えば温苛性ソーダ
溶液）６に浸漬することにより、薄膜層自体に形
成されたピンホール７を介して当該アルカリ溶液
が下地のアルミニウム薄膜４に浸入してそれを溶
解するため、この後洗浄すればアルミニウム薄膜
と共に付着薄膜層２を剥離することができる。
薄膜４の下地を形成しておけば、その上に付着し
た薄膜層２はアルカリ溶液（例えば温苛性ソーダ
溶液）６に浸漬することにより、薄膜層自体に形
成されたピンホール７を介して当該アルカリ溶液
が下地のアルミニウム薄膜４に浸入してそれを溶
解するため、この後洗浄すればアルミニウム薄膜
と共に付着薄膜層２を剥離することができる。
以下本発明の実施例を図面によつて詳述する。
なお、構成、動作の説明を理解し易くするために
第２図との同一部分には同一符号を付してその重
複説明を省略する。
なお、構成、動作の説明を理解し易くするために
第２図との同一部分には同一符号を付してその重
複説明を省略する。
第１図は本発明の一実施例による薄膜層除去方
法を説明するための模式的な要部断面図を示す。
図において、４はアルミニウム薄膜であつて治具
１の表面および装置内壁１の使用開始前に形成し
たものである。このアルミニウム薄膜４が形成さ
れた治具、装置１を使用して薄膜処理を行うと、
処理対象物に各種の薄膜物質が付着すると同時
に、当該治具、装置１にあらかじめ形成したアル
ミニウム薄膜４上にも薄膜物質２が付着する。
法を説明するための模式的な要部断面図を示す。
図において、４はアルミニウム薄膜であつて治具
１の表面および装置内壁１の使用開始前に形成し
たものである。このアルミニウム薄膜４が形成さ
れた治具、装置１を使用して薄膜処理を行うと、
処理対象物に各種の薄膜物質が付着すると同時
に、当該治具、装置１にあらかじめ形成したアル
ミニウム薄膜４上にも薄膜物質２が付着する。
この付着した薄膜層２の厚み、または薄膜処理
の延べ時間等を基準に除去に必要な洗浄サイクル
を決定し、前記薄膜が付着した治具、装置１を容
器５に満たしたアルカリ溶液（例えば温苛性ソー
ダ溶液）６に浸漬する。すると、薄膜層２自体に
自然形成されたピンホール７を介してアルカリ溶
液６が浸入しアルミニウム薄膜４を溶解する。
の延べ時間等を基準に除去に必要な洗浄サイクル
を決定し、前記薄膜が付着した治具、装置１を容
器５に満たしたアルカリ溶液（例えば温苛性ソー
ダ溶液）６に浸漬する。すると、薄膜層２自体に
自然形成されたピンホール７を介してアルカリ溶
液６が浸入しアルミニウム薄膜４を溶解する。
この結果、付着した薄膜層２は治具１の表面お
よび装置内壁１から剥離され、次工程の洗浄によ
りアルミニウム薄膜４と同時に除去される。
よび装置内壁１から剥離され、次工程の洗浄によ
りアルミニウム薄膜４と同時に除去される。
以上詳細に説明したように本発明の薄膜処理設
備の付着物除去方法によれば、治具の表面および
装置内壁を傷つけることなく、容易に付着した薄
膜層の剥離洗浄が可能となり、薄膜除去作業の効
率化を図ることができる。
備の付着物除去方法によれば、治具の表面および
装置内壁を傷つけることなく、容易に付着した薄
膜層の剥離洗浄が可能となり、薄膜除去作業の効
率化を図ることができる。
第１図は本発明の薄膜層除去方法を説明するた
めの模式的な要部断面図、第２図は従来の薄膜層
除去方法の説明図を示す。 図において、１は薄膜処理用の治具および装置
内壁、２は付着薄膜、４はアルミニウム薄膜、５
は容器、６はアルカリ溶液をそれぞれ示す。
めの模式的な要部断面図、第２図は従来の薄膜層
除去方法の説明図を示す。 図において、１は薄膜処理用の治具および装置
内壁、２は付着薄膜、４はアルミニウム薄膜、５
は容器、６はアルカリ溶液をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 薄膜処理に使用する処理設備の表面１に付着
した薄膜２を除去するための方法であつて、 アルミニウム薄膜４をあらかじめ前記処理設備
の表面１に形成しておき、このアルミニウム薄膜
４が形成された前記処理設備の表面１を薄膜処理
後、アルカリ溶液６に浸漬することにより該アル
ミニウム薄膜４を溶解し、さらに洗滌を行うこと
により前記溶解したアルミニウム薄膜４をそれの
表面に付着した前記薄膜２と共に除去することを
特徴とする薄膜処理設備の付着物除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12982186A JPS62287063A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 薄膜処理設備の付着物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12982186A JPS62287063A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 薄膜処理設備の付着物除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62287063A JPS62287063A (ja) | 1987-12-12 |
| JPS6366901B2 true JPS6366901B2 (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=15019054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12982186A Granted JPS62287063A (ja) | 1986-06-03 | 1986-06-03 | 薄膜処理設備の付着物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62287063A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004065654A1 (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-05 | Ulvac, Inc. | 成膜装置用構成部品およびその洗浄方法 |
| JP2007277687A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Tosoh Corp | 溶射膜除去用組成物、及びそれを用いた除去方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2511833C (en) | 2003-02-19 | 2012-03-20 | Ulvac, Inc. | Components for a film-forming device and method for cleaning the same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55154570A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-02 | Nec Corp | Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts |
-
1986
- 1986-06-03 JP JP12982186A patent/JPS62287063A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004065654A1 (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-05 | Ulvac, Inc. | 成膜装置用構成部品およびその洗浄方法 |
| US7436068B2 (en) | 2003-01-23 | 2008-10-14 | Ulvac, Inc. | Components for film forming device |
| JP2007277687A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Tosoh Corp | 溶射膜除去用組成物、及びそれを用いた除去方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62287063A (ja) | 1987-12-12 |
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