JPS6367848B2 - - Google Patents
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- JPS6367848B2 JPS6367848B2 JP56200928A JP20092881A JPS6367848B2 JP S6367848 B2 JPS6367848 B2 JP S6367848B2 JP 56200928 A JP56200928 A JP 56200928A JP 20092881 A JP20092881 A JP 20092881A JP S6367848 B2 JPS6367848 B2 JP S6367848B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一構成要素としての比較・欠陥判定
回路を自己診断し得るように構成されたパターン
検査装置に係り、特に自己診断機能を具備したマ
スク検査装置に関するものである。
回路を自己診断し得るように構成されたパターン
検査装置に係り、特に自己診断機能を具備したマ
スク検査装置に関するものである。
第１図は従来技術に係るマスク検査装置を示し
たものであるが、これによる場合被検査マスク１
におけるパターンを使用して装置自体の性能を確
認する、といつた具合に他に適当な確認方法がな
かつたことから、性能不良あるいは性能悪化の原
因の究明は困難を極めていたのが実状である。
たものであるが、これによる場合被検査マスク１
におけるパターンを使用して装置自体の性能を確
認する、といつた具合に他に適当な確認方法がな
かつたことから、性能不良あるいは性能悪化の原
因の究明は困難を極めていたのが実状である。
即ち、従来にあつては被検査マスク１における
対応するチツプパターン同志を対物光学系２，
２′、パターン検査器（２値化回路と一体構成）
３，３′を用い２系統時系列２値化パターンデー
タとして得、この時系列２値化パターンデータを
コンピユータ６を用い比較回路４、欠陥判定回路
５で処理することによりマスクパターンの欠陥有
無を判定していたものである。一般に被検査マス
ク１にはICチツプ等のマスクパターンがパター
ン形状同一として繰り返し縦、、横に配列されて
いるが、マスクパターンの欠陥は転写時のみなら
ず搬送途中でも生じるようになつている。第２図
は正常なマスクパターンと欠陥マスクパターンの
例をいくつか示すが、一般に同一形状の欠陥が他
のマスクパターンでの同一部分に発生する確率は
殆んどゼロであることから、同一パターンとされ
る、相異なるマスクパターン同志を比較すること
によつてその差異より欠陥を検出し得るものであ
る。
対応するチツプパターン同志を対物光学系２，
２′、パターン検査器（２値化回路と一体構成）
３，３′を用い２系統時系列２値化パターンデー
タとして得、この時系列２値化パターンデータを
コンピユータ６を用い比較回路４、欠陥判定回路
５で処理することによりマスクパターンの欠陥有
無を判定していたものである。一般に被検査マス
ク１にはICチツプ等のマスクパターンがパター
ン形状同一として繰り返し縦、、横に配列されて
いるが、マスクパターンの欠陥は転写時のみなら
ず搬送途中でも生じるようになつている。第２図
は正常なマスクパターンと欠陥マスクパターンの
例をいくつか示すが、一般に同一形状の欠陥が他
のマスクパターンでの同一部分に発生する確率は
殆んどゼロであることから、同一パターンとされ
る、相異なるマスクパターン同志を比較すること
によつてその差異より欠陥を検出し得るものであ
る。
ところで従来より行なわれているマスクパター
ンの欠陥検出は２値化パターンデータの対応する
ビツトデータ同志を単に排他的論理和ゲートなど
を用いて比較するといつたものではなく、被検査
マスクパターン同志の相対的な位置決め誤差、あ
るいは重ね合せ誤差をもある程度許容した状態で
行なうようになつている。相対的な位置決め誤
差、あるいは重ね合せ誤差を許容した欠陥検出方
法は既に公知であり、例えば特開昭50−131469号
公報に開示されているところである。第３図はそ
のような欠陥検出原理を示したものである。比較
されるパターン７，７′同志は重ね合せ誤差大を
もつて位置合せされているが、重ね合せ誤差大の
許容範囲を逸脱するパターン８が存する場合に
は、欠陥有として検出するようになつているもの
である。
ンの欠陥検出は２値化パターンデータの対応する
ビツトデータ同志を単に排他的論理和ゲートなど
を用いて比較するといつたものではなく、被検査
マスクパターン同志の相対的な位置決め誤差、あ
るいは重ね合せ誤差をもある程度許容した状態で
行なうようになつている。相対的な位置決め誤
差、あるいは重ね合せ誤差を許容した欠陥検出方
法は既に公知であり、例えば特開昭50−131469号
公報に開示されているところである。第３図はそ
のような欠陥検出原理を示したものである。比較
されるパターン７，７′同志は重ね合せ誤差大を
もつて位置合せされているが、重ね合せ誤差大の
許容範囲を逸脱するパターン８が存する場合に
は、欠陥有として検出するようになつているもの
である。
このような欠陥検出方法を採用したマスク検査
装置における比較・欠陥判定回路は単純なもので
はなく極めて複雑な回路構成となるわけである
が、問題はこの種装置が一般に高速大規模電子回
路、精密機械系および光学系よりなり、検査性能
の不良または悪化の原因を究明することが一般に
困難であるということである。従来にあつては装
置自体の性能を確認するには被検査マスクにおけ
るマスクパターンを実際に使用する以外なく、そ
の性能の不良または悪化の原因が比較・欠陥判定
用の電子回路系に存するものか、光学系や機械系
に存するものかが容易に判断し得ずこれがために
装置のデバツグ性や保守性は良好でなかつたとい
うものである。
装置における比較・欠陥判定回路は単純なもので
はなく極めて複雑な回路構成となるわけである
が、問題はこの種装置が一般に高速大規模電子回
路、精密機械系および光学系よりなり、検査性能
の不良または悪化の原因を究明することが一般に
困難であるということである。従来にあつては装
置自体の性能を確認するには被検査マスクにおけ
るマスクパターンを実際に使用する以外なく、そ
の性能の不良または悪化の原因が比較・欠陥判定
用の電子回路系に存するものか、光学系や機械系
に存するものかが容易に判断し得ずこれがために
装置のデバツグ性や保守性は良好でなかつたとい
うものである。
よつて本発明の目的は、検査性能の不良や悪化
の原因が比較・欠陥判定回路系に存するか否かが
少なくとも究明可とされた、自己診断機能を具備
したパターン検査装置を供するにある。
の原因が比較・欠陥判定回路系に存するか否かが
少なくとも究明可とされた、自己診断機能を具備
したパターン検査装置を供するにある。
この目的のため本発明は、コンピユータより適
当に作成された診断用パターンデータにもとずき
比較・欠陥判定回路の機能がチエツクされるべく
構成したものである。
当に作成された診断用パターンデータにもとずき
比較・欠陥判定回路の機能がチエツクされるべく
構成したものである。
以下、本発明を第４図、第５図により説明す
る。
る。
第４図は本発明に係るマスク検査装置の一例で
の構成を被検査マスク１および照明系１５ととも
に示したものである。図示の如く第１図に示すも
のと実質的に異なるところはコンピユータ６より
切替スイツチ１１，１１′、パターンメモリ１０，
１０′、切替スイツチ１２，１２′を介し比較・欠
陥判定回路９に直接２値化パターンデータが診断
用として与え得るようになつていることである。
通常切替スイツチ１１，１１′，１２，１２′は図
示の如くにあり、対物光学系２，２′、パターン
検出器１３，１３′、２値化回路１４，１４′から
の、即ち、被検査マスク１より得られる２値化パ
ターンデータを比較・欠陥判定回路９によつて比
較し、欠陥判定処理するようになつている。しか
し、装置のデバツグ時、または保守時には切替ス
イツチ１１，１１′，１２，１２′は点線表示の如
くに切替され、コンピユータ６からの診断用２値
化パターンデータを比較し、欠陥判定処理するよ
うになつているものである。診断用２値化パター
ンデータは必ずしもコンピユータ６より与える必
要はないが、コンピユータ６が既存のものである
場合にはそれを利用した方が都合がよいというも
のである。コンピユータ６より与えられる診断用
２値化パターンデータはまたオフラインで作成
し、一旦記憶装置に格納されたものを用いてもよ
いが、後述するように光学系や機械系の診断時に
得られるものを利用することも可能である。何れ
の場合であつても通常時と同様な転送態様、転送
速度でコンピユータ６よりパターンメモリ１０，
１０′を介し比較・欠陥判定回路９に診断用２値
化パターンデータをシリアル転送するようにする
ものである。
の構成を被検査マスク１および照明系１５ととも
に示したものである。図示の如く第１図に示すも
のと実質的に異なるところはコンピユータ６より
切替スイツチ１１，１１′、パターンメモリ１０，
１０′、切替スイツチ１２，１２′を介し比較・欠
陥判定回路９に直接２値化パターンデータが診断
用として与え得るようになつていることである。
通常切替スイツチ１１，１１′，１２，１２′は図
示の如くにあり、対物光学系２，２′、パターン
検出器１３，１３′、２値化回路１４，１４′から
の、即ち、被検査マスク１より得られる２値化パ
ターンデータを比較・欠陥判定回路９によつて比
較し、欠陥判定処理するようになつている。しか
し、装置のデバツグ時、または保守時には切替ス
イツチ１１，１１′，１２，１２′は点線表示の如
くに切替され、コンピユータ６からの診断用２値
化パターンデータを比較し、欠陥判定処理するよ
うになつているものである。診断用２値化パター
ンデータは必ずしもコンピユータ６より与える必
要はないが、コンピユータ６が既存のものである
場合にはそれを利用した方が都合がよいというも
のである。コンピユータ６より与えられる診断用
２値化パターンデータはまたオフラインで作成
し、一旦記憶装置に格納されたものを用いてもよ
いが、後述するように光学系や機械系の診断時に
得られるものを利用することも可能である。何れ
の場合であつても通常時と同様な転送態様、転送
速度でコンピユータ６よりパターンメモリ１０，
１０′を介し比較・欠陥判定回路９に診断用２値
化パターンデータをシリアル転送するようにする
ものである。
本発明は以上のようなものであるが、第４図に
示す例では機械系や光学系をも診断し得るように
構成されている。即ち、被検査マスク１の代りに
診断に適したパターンをもつ標準マスクを用意
し、これを用いCCDやTVカメラなどよりなる撮
像器であるところのパターン検出器１３，１３′
で光学像を電気信号に変換した後、２値化回路１
４，１４′、パターンメモリ１０，１０′を介しコ
ンピユータ６に取り込むものである。コンピユー
タ６で２系列の２値化パターンデータを比較し、
果して検出された原画像が所期のパターンになつ
ているか否かを確認することによつて２値化回路
１４，１４′までを診断し得るものである。なお、
切替スイツチ１１，１１′，１２，１２′は連動し
ており、手動で操作してもよいが、コンピユータ
６により切替制御するようにしてもよい。また、
パターンメモリ１０，１０′は一般に高速シフト
レジスタや高周波クロツク発振器を主体として構
成され、通常時にあつてはシリアルイン・パラレ
ルアウト形式のものとして機能し、比較・欠陥判
定回路９の診断時にはパラレルイン・シリアルア
ウト形式のものとして機能するものである。もつ
とも、パターンメモリ１０，１０′はコンピユー
タ６側に収容させることも可能である。
示す例では機械系や光学系をも診断し得るように
構成されている。即ち、被検査マスク１の代りに
診断に適したパターンをもつ標準マスクを用意
し、これを用いCCDやTVカメラなどよりなる撮
像器であるところのパターン検出器１３，１３′
で光学像を電気信号に変換した後、２値化回路１
４，１４′、パターンメモリ１０，１０′を介しコ
ンピユータ６に取り込むものである。コンピユー
タ６で２系列の２値化パターンデータを比較し、
果して検出された原画像が所期のパターンになつ
ているか否かを確認することによつて２値化回路
１４，１４′までを診断し得るものである。なお、
切替スイツチ１１，１１′，１２，１２′は連動し
ており、手動で操作してもよいが、コンピユータ
６により切替制御するようにしてもよい。また、
パターンメモリ１０，１０′は一般に高速シフト
レジスタや高周波クロツク発振器を主体として構
成され、通常時にあつてはシリアルイン・パラレ
ルアウト形式のものとして機能し、比較・欠陥判
定回路９の診断時にはパラレルイン・シリアルア
ウト形式のものとして機能するものである。もつ
とも、パターンメモリ１０，１０′はコンピユー
タ６側に収容させることも可能である。
最後に第５図により比較・欠陥判定回路を診断
するための２値化パターンデータについて説明す
る。
するための２値化パターンデータについて説明す
る。
第５図Ａ，ａ〜Ｌ，ｌは診断用２値化パターン
データを12種類示し論理“１”領域は斜線領域と
して示されている。このうち第５図Ａに示すもの
と第５図ａに示すものとは対となつて比較・欠陥
判定回路９に与えられるようになつている。第５
図Ｂ，ｂ以降に示すものも同様に対となつて比
較・欠陥判定回路９にシリアル転送されるが、診
断用２値化パターンデータはこれらパターンデー
タの例に限定されず、あくまでも想定したパター
ンに応じ適当に定められるものである。また、本
例での２値化パターンデータは16×16の画素マト
リツクスで示されているが、これに限定されず必
要に応じ適当に定められることは勿論である。各
２値化パターンデータ対は左側から右側に向つ
て、しかも上側から下側に向つて順次比較・欠陥
判定回路９に与えられ、所定の位置合せ誤差を許
容してもそれを越えた差異が存する場合には欠陥
有りと判定することによつて、比較・欠陥判定回
路９を診断し得るものである。なお前述の説明に
おいては、比較判定されるデータとして２値化パ
ターンデータを用いた例について説明したが、本
発明の技術思想を用いれば、一般に多値化パター
ンデータによつても同様に診断できることは明ら
かであろう。
データを12種類示し論理“１”領域は斜線領域と
して示されている。このうち第５図Ａに示すもの
と第５図ａに示すものとは対となつて比較・欠陥
判定回路９に与えられるようになつている。第５
図Ｂ，ｂ以降に示すものも同様に対となつて比
較・欠陥判定回路９にシリアル転送されるが、診
断用２値化パターンデータはこれらパターンデー
タの例に限定されず、あくまでも想定したパター
ンに応じ適当に定められるものである。また、本
例での２値化パターンデータは16×16の画素マト
リツクスで示されているが、これに限定されず必
要に応じ適当に定められることは勿論である。各
２値化パターンデータ対は左側から右側に向つ
て、しかも上側から下側に向つて順次比較・欠陥
判定回路９に与えられ、所定の位置合せ誤差を許
容してもそれを越えた差異が存する場合には欠陥
有りと判定することによつて、比較・欠陥判定回
路９を診断し得るものである。なお前述の説明に
おいては、比較判定されるデータとして２値化パ
ターンデータを用いた例について説明したが、本
発明の技術思想を用いれば、一般に多値化パター
ンデータによつても同様に診断できることは明ら
かであろう。
以上説明したように本発明は、比較・欠陥判定
回路に直接的に診断用多値化パターンデータを供
給化として、検査性能の不良や悪化の原因が比
較・欠陥判定回路系に存するか否かが容易に究明
され得、最終製造段階ではデバツグが、また、実
際の使用段階にあつては保守が容易に行なえると
いう効果がある。
回路に直接的に診断用多値化パターンデータを供
給化として、検査性能の不良や悪化の原因が比
較・欠陥判定回路系に存するか否かが容易に究明
され得、最終製造段階ではデバツグが、また、実
際の使用段階にあつては保守が容易に行なえると
いう効果がある。
第１図は、従来技術に係るマスク検査装置の一
例での概略構成を検査対象とともに示す図、第２
図は、正常なマスクパターンと欠陥マスクパター
ンの例を示す図、第３図は、位置合せ誤差を考慮
した欠陥パターン検出原理を説明するための図、
第４図は、本発明に係るマスク検査装置の一例で
の構成を検査対象とともに示す図、第５図Ａ，
ａ，Ｂ，ｂ，Ｃ，ｃ，Ｄ，ｄ，Ｅ，ｅ，Ｆ，ｆ，
Ｇ，ｇ，Ｈ，ｈ，Ｉ，ｉ，Ｊ，ｊ，Ｋ，ｋ，Ｌ，
ｌは、それぞれ診断用２値化パターンデータ対の
例を示す図である。 ２，２′…対物光学系、６…コンピユータ、９
…比較・欠陥判定回路、１１，１１′，１２，１
２′…切替スイツチ、１３，１３′…パターン検出
器、１４，１４′…２値化回路。
例での概略構成を検査対象とともに示す図、第２
図は、正常なマスクパターンと欠陥マスクパター
ンの例を示す図、第３図は、位置合せ誤差を考慮
した欠陥パターン検出原理を説明するための図、
第４図は、本発明に係るマスク検査装置の一例で
の構成を検査対象とともに示す図、第５図Ａ，
ａ，Ｂ，ｂ，Ｃ，ｃ，Ｄ，ｄ，Ｅ，ｅ，Ｆ，ｆ，
Ｇ，ｇ，Ｈ，ｈ，Ｉ，ｉ，Ｊ，ｊ，Ｋ，ｋ，Ｌ，
ｌは、それぞれ診断用２値化パターンデータ対の
例を示す図である。 ２，２′…対物光学系、６…コンピユータ、９
…比較・欠陥判定回路、１１，１１′，１２，１
２′…切替スイツチ、１３，１３′…パターン検出
器、１４，１４′…２値化回路。
Claims (1)
- １ 被検査対象より対物光学系、パターン検出
器、多値化回路を介して得られる、２系統の被検
査パターン対応の時系列多値化パターンデータ
が、比較・欠陥判定回路にて一定範囲内の位置合
せ誤差を許容した状態でコンピユータによる補助
の下に比較され、一定以上の差異が存する場合に
は何れか一方の被検査パターンに欠陥が存すると
判定すべくなしたパターン検査装置であつて、通
常パターン検査時にあつては２系統の被検査パタ
ーン対応の時系列多値化パターンデータが、装置
自体のデバツク時あるいは保守時にあつてはコン
ピユータからの、パターンメモリを介する２系統
時系列の診断用多値化パターンデータが切替スイ
ツチ手段によつて選択されたうえ比較・欠陥判定
回路に与えられるべくなした構成を特徴とする、
自己診断機能を具備したパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200928A JPS58102139A (ja) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | 自己診断機能を具備したパターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56200928A JPS58102139A (ja) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | 自己診断機能を具備したパターン検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58102139A JPS58102139A (ja) | 1983-06-17 |
| JPS6367848B2 true JPS6367848B2 (ja) | 1988-12-27 |
Family
ID=16432608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56200928A Granted JPS58102139A (ja) | 1981-12-15 | 1981-12-15 | 自己診断機能を具備したパターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58102139A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5022688A (ja) * | 1973-06-28 | 1975-03-11 |
-
1981
- 1981-12-15 JP JP56200928A patent/JPS58102139A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58102139A (ja) | 1983-06-17 |
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