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JPS641722B2 - - Google Patents
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JPS641722B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS641722B2
JPS641722B2 JP16626782A JP16626782A JPS641722B2 JP S641722 B2 JPS641722 B2 JP S641722B2 JP 16626782 A JP16626782 A JP 16626782A JP 16626782 A JP16626782 A JP 16626782A JP S641722 B2 JPS641722 B2 JP S641722B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
door
cover
ray tube
shutter
shutter block
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16626782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5967409A (ja
Inventor
Minoru Handa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP16626782A priority Critical patent/JPS5967409A/ja
Publication of JPS5967409A publication Critical patent/JPS5967409A/ja
Publication of JPS641722B2 publication Critical patent/JPS641722B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
    • GPHYSICS
    • G12INSTRUMENT DETAILS
    • G12BCONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B17/00Screening
    • G12B17/02Screening from electric or magnetic fields, e.g. radio waves

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は螢光X線膜厚測定装置に関し、特に
操作ミス等によつておこるX線の被曝を防ぐため
の安全装置の新規な改良に関するものである。
従来用いられていたこの種の装置の安全装置は
種々あるが、その一例を述べるとサンプル出入ド
アが完全に閉まつて検出マイクロスイツチが動作
するまでは、シヤツターが動作しないように構成
されていた。また、シヤツターが作動している間
にドアを開けた場合には、ドアの作動と連動して
シヤツターが自動的に閉じるように構成されてい
るが、ドアが開けられて試料の出入を行つている
状態において、例えば誤つてシヤツターを手で作
動させたような場合には、X線が照射されること
になり、手に被曝を受ける可能性があり極めて危
険であつた。
この考案は以上のような欠点を速やかに除去す
るための極めて効果的な手段を提供することを目
的とするもので、特にドアが完全に閉じた状態を
検出するスイツチとシヤツターが閉じている状態
を検出するスイツチとX線電源供給しや断回路を
備え、ドアが開けられている状態において、例え
ば誤つてシヤツターを手で作動させたような場合
には、X線しや断回路が働きX線管への電力供給
がしや断されることによりX線被曝の危険性のな
い安全なX線膜厚測定装置の構成を得ることであ
る。
以下、図面と共にこの発明を説明する。図面1
において、1はX線管であり、装置を使用中は常
に電流が流れX線が発生している。2はシヤツタ
ブロツクでX線管1から発生されたX線を通常は
しや断し、測定の際にはサンプル11に照射する
ためのもので、シヤツタブロツク2に設けられた
レバー8及び9を介してロータリソレノイド10
によつて矢印Aの方向に駆動される。7は支持板
7aに設けられたマイクロスイツチで、シヤツタ
ブロツク2が図面において右方向に移動されたと
きにレバー9により接点レバー7bを作動させて
OFFとなるように構成され、この状態ではX線
管1からのX線はシヤツターブロツク2によりし
や断された状態である。
3は全体がほぼ箱型をなすカバーで、X線によ
る被曝を防止するための装置全体を覆つており、
試料台12上に設けられたサンプル11を出入す
るためのドア4が前記カバー3の前面部に取付け
られ、このカバー3を完全に閉じた状態でカバー
3に設けられた第1および第2のマイクロスイツ
チ5および6の接点レバー5aおよび6aが作動
される構成で、第1マイクロスイツチ5はON状
態、第2マイクロスイツチ6はOFF状態となる
ように各々のスイツチング動作が異なるように構
成されている。
さらに、前記支持板7a上にはリレー装置13
が設けられ、このリレー装置はX線管1の電源に
対するON,OFF制御を行うものである。
以上のような構成において、この発明による螢
光X線膜厚測定装置を作動させる場合について説
明すると、通常の測定操作の場合ドア4を開状態
にし、サンプル11をステージ12上にセツトし
再びドア4を閉じるとマイクロスイツチ5の接点
がONとなりロータリーソレノイド10に通電可
能の状態になる。この状態でロータリーソレノイ
ド10が通電されると、レバー8および9を介し
シヤツターブロツク2が移動し、X線がコリメー
タ2aを介してサンプル11に照射され、測定が
開始される。またドア4が開けられている状態に
おいてはマイクロスイツチ6の接点がONになつ
ており、この時たとえば誤まつてシヤツターを手
で作動させようとした場合に、マイクロスイツチ
7が作動して接点がONとなりこの結果、リレー
装置13が作動しX線管1への電流を遮断するの
でX線の発生が止まる。
以上のように本発明によれば、ドア4が開いて
いる状態では駆動手段(ロータリーソレノイド1
0)によるシヤツターブロツク2の開閉が不可能
であり、かつ万一この状態で誤まつてシヤツター
を手で作動させようとした場合は、X線電流が遮
断させることによりX線被曝の危険が全くなく、
安全管理上極めて効果があるという特徴を有す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による螢光X線膜厚測定装置
を示すための一部切欠斜面図、第2図は本装置の
電気接続を示す回路図である。 1はX線管、2はシヤツターブロツク、2aは
コリメータ、3はカバー、4はドア、5,6,7
はマイクロスイツチで5a,6a,7aはそれぞ
れ5,6,7のマイクロスイツチの接点レバーで
あり、8,9はレバー、10はロータリーソレノ
イド、11はサンプル、12はステージ、13は
リレー装置である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 カバー内に設けられたX線管からのX線を、
    移動自在に設けられコリメータを一体に有するシ
    ヤツターブロツクにより制御してサンプルに対す
    るX線の照射を行うものにおいて、前記シヤツタ
    ーブロツクの移動と連動して作動する第1のスイ
    ツチと、前記カバーの前面に開閉自在に設けられ
    たドアと、前記カバーに設けられドアの開閉と連
    動して互いに異なるタイミングでオンオフ動作す
    るように構成された第2および第3のスイツチ
    と、前記X線管への電流を制御するためのリレー
    装置と、前記シヤツターブロツクを稼動させるた
    めの駆動手段とを備え、前記ドアが閉状態の場
    合、前記第2および第3のスイツチおよびリレー
    装置の作動により、駆動手段およびX線管への電
    源がオフ状態に保持されるように構成したことを
    特徴とする螢光X線膜厚計。
JP16626782A 1982-09-24 1982-09-24 螢光x線膜厚計 Granted JPS5967409A (ja)

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JP16626782A JPS5967409A (ja) 1982-09-24 1982-09-24 螢光x線膜厚計

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JP16626782A JPS5967409A (ja) 1982-09-24 1982-09-24 螢光x線膜厚計

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JPS5967409A JPS5967409A (ja) 1984-04-17
JPS641722B2 true JPS641722B2 (ja) 1989-01-12

Family

ID=15828210

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JP16626782A Granted JPS5967409A (ja) 1982-09-24 1982-09-24 螢光x線膜厚計

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4933702B2 (ja) * 2000-04-06 2012-05-16 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 可搬型蛍光x線分析計
JP4575369B2 (ja) * 2004-04-28 2010-11-04 パナソニック株式会社 蛍光x線分析方法および装置
JP5509604B2 (ja) * 2009-02-02 2014-06-04 株式会社島津製作所 X線分析装置

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JPS5967409A (ja) 1984-04-17

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