JPS645815B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS645815B2 JPS645815B2 JP3006883A JP3006883A JPS645815B2 JP S645815 B2 JPS645815 B2 JP S645815B2 JP 3006883 A JP3006883 A JP 3006883A JP 3006883 A JP3006883 A JP 3006883A JP S645815 B2 JPS645815 B2 JP S645815B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze layer
- substrate
- ceramic substrate
- extensions
- grooves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明はグレーズ基板の製造法に関するもので
あり、詳しくは、グレーズ層の厚さが均一であ
り、しかも、グレーズ部のチツピング及びクラツ
クのないグレーズ基板の製造法に関するものであ
る。
例えば、サーマルプリンターのヘツドなどはセ
ラミツク基板上にグレーズ層を形成したいわゆる
グレーズ基板の上にTa2Nのような発熱抵抗体を
配列させた構造となつているが、通常、グレーズ
基板上への発熱抵抗体の設置は、例えば、8〜12
本/mmの線でマスク合せ後、エツチングすること
により行なわれている。そのため、ここで用いる
グレーズ基板のグレーズ層はチツピングやクラツ
クのないことは勿論のこと、グレーズ層の厚さが
均一であることが望ましい。もし、グレーズ層の
厚さが不均一の場合には、前述のマスク合せの際
に、線が不揃いとなり良好な製品を得ることは難
しくなる。
グレーズ基板は一般的に、セラミツク基板上に
ガラス成分を塗布又は印刷し、次いで、焼成処理
することにより得ることができるが、通常、焼成
処理によりグレーズ層の端部が盛り上がり、均一
厚さのグレーズ層とはならない欠点がある。そこ
で、従来、例えば、焼成条件及びグレーズ層の厚
さを調節することによりグレーズ層の厚さを均一
化する方法が採られているが、これらの方法で
は、例えば、グレーズ層の盛り上がりを10μ程度
までは、抑制できるものの完全に均一とすること
はできない。また、グレーズ層の端部の盛り上が
りを抑制できたとしても、グレーズ層の端部がシ
ヤープでなくなり傾斜面となるいわゆるグレーズ
垂れの現象が起る欠点がある。
本発明者等は上記実情に鑑み、グレーズ層の厚
さが均一なグレーズ基板を得る方法につき種々検
討した結果、ある特定の構造を有するセラミツク
基板を用いて、しかも、グレーズ層を形成したの
ちの基板を特定の方法で処理することにより、本
発明の目的が達成されることを見い出し本発明を
完成するに到つた。
すなわち、本発明の要旨は、長手方向の両端に
延長部を有し、両延長部との境界部分の表面と裏
面にそれぞれ溝を有するセラミツク基板の片面に
グレーズ層を形成させ、次いで、グレーズ層側の
面から応力を加えることにより、両端の延長部を
ブレークすることを特徴とするグレーズ基板の製
造法に存する。
以下、本発明を添付図面に従い説明するが、第
1図は延長部をブレークする前の本発明における
一例のグレーズ基板を説明的に示す側面図、第2
図は延長部をブレークした後の同様のグレーズ基
板を説明的に示す側面図である。
本発明で用いるセラミツク基板は第1図に示す
ように、セラミツク基板本体1とその長手方向の
両端に伸びる延長部2a,2bを有し、前記本体
1と延長部2a,2bとは同一材質にて一体に構
成されている。セラミツク基板の材質は通常、ア
ルミナ、ベリリヤ又はSiCなどの公知のものが挙
げられる。また、セラミツク基板の厚さは通常、
0.8〜2.0mm程度である。セラミツク基板の前記延
長部2a,2bは後でブレークし、第2図に示す
ように、前記本体1の部分のみが最終的に製品と
なるのである。延長部2a,2bの長さは通常、
それぞれセラミツク基板本体1の5〜15%の長さ
であり、具体的には、例えば、10.0〜30.0mm程度
である。
本発明ではセラミツク基板の前記本体1と延長
部2a,2bとの境界に、後の工程で延長部2
a,2bをブレークするのを容易とするための溝
4a,4bが設けられている。この溝4a,4b
はセラミツク基板の短手方向全体に亘り設けられ
る。また、この溝4a,4bは両方の延長部2
a,2bとの境界部の表面と裏面、すなわち、4
ケ所にそれぞれ設ける必要がある。もし、この溝
がセラミツク基板の一面のみであつた場合には、
後の工程でブレーク処理が良好に行なわれず、品
質の良いグレース基板を得ることができない、
溝4a,4bの大きさは通常、巾0.03〜0.2mm、
好ましくは0.08〜0.15mmであり、また、深さ0.04
〜0.5mm、好ましくは0.1〜0.2mmであり、このサイ
ズがあまり大きい場合又は小さい場合には、良好
なブレーク処理ができないので好ましくない。
セラミツク基板に溝4a,4bを設ける方法と
しては、通常、セラミツク基板をレーザー加工法
により溝を設ける方法、又は、グリーンシートの
作成時に溝を設ける方法のいずれでもよいが、本
発明の場合には前者の方法が特に好ましい。
上述のようなセラミツク基板の表面にグレーズ
層3を形成させるが、グレーズ層3は常法に従つ
て、例えば、セラミツク基板にガラス成分を塗布
又は印刷し、更に、これを焼成処理することによ
り形成させることができる。本発明ではグレーズ
層3はセラミツク基板本体1のみならず、セラミ
ツク基板の両端の延長部2a,2bにいたり、適
宜の巾で設けられる。ガラス成分としては、例え
ば、Sio2、BaO、Al2O3などを主成分とする公知
のものが挙げられる。また、グレーズ層の厚さは
通常、0.01〜0.15mm、好ましくは0.03〜0.1mmであ
り、通常800〜1200℃の温度で保持時間1〜3時
間焼成されて得られる。一方、セラミツク基板の
焼成処理は通常、1500〜1600℃の温度で保持時間
1〜3時間、実施される。
この処理により形成されるグレーズ層3の両端
部はある程度、厚くなり盛り上がり部5ができ
る。しかし、本発明ではセラミツク基板の延長部
2a,2bをブレークするため、残るセラミツク
基板本体1上のグレーズ層は盛り上がり部がな
く、均一な厚さとなるのである。本発明では焼成
処理後のグレーズ基板の両延長部2a,2bをブ
レークするが、このブレーク処理はグレーズ層側
より応力を加えることを必須要件とするものであ
る。すなわち、反対側の面より応力をかけてブレ
ークした場合には、グレーズ部のチツピング及び
クラツク発生が起るので好ましくないが、グレー
ズ層側よりブレークした場合には、グレーズ部が
破損することはなく、きれいなブレーク断面とな
るのである。
ブレーク処理は通常、グレーズ基板の本体部分
を固定し、その延長部の表面に例えば、3〜15
Kg/cm2の応力を加えることにより実施される。
このようにして得られるグレーズ基板はグレー
ズ層の厚さが均一であり、また、グレーズ層のチ
ツピング及びクラツクが全くないので、発熱抵抗
体の配列をより正確に行なうことができ、極めて
良好なものである。したがつて、例えば、サーマ
ルプリンター用のヘツドを始めとして、フアクシ
ミリ、テレツクス用のグレーズ基板として好適に
利用することができる。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例の記載に限定されるものではない。
実施例 1〜2
長さ290mm、巾50mm及び第1表に示す厚さを有
するアルミナ基板(純度97%)を両方の長手方向
端部より10mmの位置にそれぞれ第1表に示す大き
さの溝をレーザー加工法により、表面と裏面に短
手方向全体に設け、両端に延長部と溝を有するア
ルミナ基板を作成した。
次いで、上述のアルミナ基板の表面端部から端
部まで、巾50mm、厚さ0.05mmとなるように、ガラ
スを常方に従つて塗布したのち、1050℃の温度で
3時間、焼成処理を行ないグレーズ層を形成させ
た。その後アルミナ基板の中央部分を固定し、延
長部の表面より12Kg/cm2の応力を加え、両延長部
をブレークした。
このようにして得たグレーズ基板はグレーズ層
の端部にグレーズの盛り上がり及びグレーズ垂れ
がなく、均一厚さのグレーズ層を有するものであ
つた。
また、この製造テストを繰返し行ない、それぞ
れ得られたグレーズ基板のグレーズ層を観察した
ところ、チツピング及びクラツクの発生は第1表
に示す通りなかつた。
比較例 1
実施例1の方法において、アルミナ基板の表面
のみに溝を設け、裏面の溝を省略した以外は全く
同様な方法にて製造テストを繰返し行なつた場合
の結果を第1表に示す。
比較例 2
実施例1の方法において、アルミナ基板の延長
部を裏面より応力を加えることによりブレークし
た以外は全く同様な方法にて製造テストを繰返し
行なつた場合の結果を第1表に示す。
The present invention relates to a method for manufacturing a glazed substrate, and more particularly, to a method for manufacturing a glazed substrate in which the thickness of the glaze layer is uniform and there is no chipping or cracking in the glazed portion. For example, the head of a thermal printer has a structure in which heating resistors such as Ta 2 N are arranged on a so-called glaze substrate, which is a ceramic substrate with a glaze layer formed on it. The heating resistor is installed, for example, in the range of 8 to 12
This is done by etching after aligning the mask with lines of mm/mm. Therefore, it is desirable that the glaze layer of the glaze substrate used here not only be free from chipping and cracks but also have a uniform thickness. If the thickness of the glaze layer is non-uniform, the lines will be uneven during the above-mentioned mask alignment, making it difficult to obtain a good product. Glazed substrates can generally be obtained by coating or printing a glass component on a ceramic substrate and then firing it. Usually, the firing process raises the edges of the glaze layer and creates a glaze with a uniform thickness. There is a drawback that it cannot be layered. Therefore, conventionally, methods have been adopted to make the thickness of the glaze layer uniform by adjusting the firing conditions and the thickness of the glaze layer, but these methods, for example, reduce the protrusion of the glaze layer by about 10 μm. Although it can be suppressed up to this point, it cannot be made completely uniform. Further, even if it is possible to suppress the swelling of the edges of the glaze layer, there is a drawback that the edges of the glaze layer are no longer sharp and become sloped surfaces, a so-called phenomenon of glaze dripping. In view of the above circumstances, the inventors of the present invention have investigated various ways to obtain a glazed substrate with a uniform glaze layer thickness. The present inventors have discovered that the object of the present invention can be achieved by processing a substrate in a specific manner, and have completed the present invention. That is, the gist of the present invention is to form a glaze layer on one side of a ceramic substrate having extensions at both ends in the longitudinal direction and grooves on the front and back surfaces of the boundary between the two extensions, and then forming the glaze layer. The method of manufacturing a glazed substrate is characterized in that the extended portions at both ends are broken by applying stress from the side surfaces. Hereinafter, the present invention will be explained with reference to the accompanying drawings. FIG.
The figure is an explanatory side view of a similar glazed substrate after breaking the extensions. As shown in FIG. 1, the ceramic substrate used in the present invention has a ceramic substrate main body 1 and extensions 2a and 2b extending to both ends of the ceramic substrate in the longitudinal direction, and the main body 1 and extensions 2a and 2b are made of the same material. It is constructed in one piece. The ceramic substrate is usually made of known materials such as alumina, beryllia, or SiC. Additionally, the thickness of the ceramic substrate is usually
It is about 0.8 to 2.0 mm. The extensions 2a, 2b of the ceramic substrate are later broken, and only the main body 1 is the final product, as shown in FIG. The length of the extension parts 2a, 2b is usually
Each length is 5 to 15% of the ceramic substrate body 1, and specifically, for example, about 10.0 to 30.0 mm. In the present invention, an extension part 2 is added to the boundary between the main body 1 and the extension parts 2a and 2b of the ceramic substrate in a later process.
Grooves 4a, 4b are provided to facilitate breaking a, 2b. These grooves 4a, 4b
is provided over the entire width direction of the ceramic substrate. Moreover, these grooves 4a and 4b are formed in both extension parts 2.
The front and back surfaces of the boundary between a and 2b, that is, 4
It is necessary to provide one in each location. If this groove was only on one side of the ceramic substrate,
The break treatment is not performed well in the later process, making it impossible to obtain a high-quality grace board.The size of the grooves 4a and 4b is usually 0.03 to 0.2 mm in width.
Preferably 0.08~0.15mm, and depth 0.04
~0.5 mm, preferably 0.1 to 0.2 mm; if this size is too large or small, it is not preferable because good breaking treatment cannot be achieved. Generally, the grooves 4a and 4b can be formed in the ceramic substrate by either a laser processing method or a method in which the grooves are formed during the production of the green sheet, but in the case of the present invention, The former method is particularly preferred. The glaze layer 3 is formed on the surface of the ceramic substrate as described above, and the glaze layer 3 is formed by a conventional method, for example, by coating or printing a glass component on the ceramic substrate and then firing it. can be done. In the present invention, the glaze layer 3 is provided not only on the ceramic substrate body 1 but also on the extensions 2a and 2b at both ends of the ceramic substrate, and has an appropriate width. Examples of the glass component include known glass components containing Sio 2 , BaO, Al 2 O 3 and the like as main components. The thickness of the glaze layer is usually 0.01 to 0.15 mm, preferably 0.03 to 0.1 mm, and is usually obtained by baking at a temperature of 800 to 1200° C. for a holding time of 1 to 3 hours. On the other hand, the firing treatment of ceramic substrates is usually carried out at a temperature of 1500 to 1600°C for a holding time of 1 to 3 hours. Both ends of the glaze layer 3 formed by this process become thicker to some extent and a raised portion 5 is formed. However, in the present invention, since the extensions 2a and 2b of the ceramic substrate are broken, the remaining glaze layer on the ceramic substrate body 1 has no raised parts and has a uniform thickness. In the present invention, both extensions 2a and 2b of the glazed substrate are broken after the firing process, but this breaking process requires applying stress from the glaze layer side. In other words, if the stress is applied from the opposite side and the break occurs, chipping and cracking will occur in the glazed portion, which is undesirable, but if the break occurs from the glaze layer side, the glaze will not be damaged. , resulting in a clean break cross section. Break treatment is usually done by fixing the main body part of the glaze substrate, and then applying 3 to 15
It is carried out by applying a stress of Kg/cm 2 . The glazed substrate obtained in this way has a uniform glaze layer thickness, and there is no chipping or cracking in the glaze layer, so the heating resistors can be arranged more accurately, making it an extremely good product. It is. Therefore, it can be suitably used, for example, as a head for a thermal printer, as well as a glaze substrate for facsimile and telex machines. Next, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist thereof. Examples 1 to 2 An alumina substrate (purity 97%) having a length of 290 mm, a width of 50 mm, and a thickness shown in Table 1 is provided with a groove of the size shown in Table 1 at a position 10 mm from both longitudinal ends. was provided on the front and back sides in the entire transverse direction using a laser processing method, and an alumina substrate having extensions and grooves at both ends was created. Next, glass was applied to the alumina substrate from end to end in a width of 50 mm and a thickness of 0.05 mm according to a conventional method, and then fired at a temperature of 1050°C for 3 hours. A glaze layer was formed. Thereafter, the central portion of the alumina substrate was fixed, and a stress of 12 kg/cm 2 was applied from the surface of the extension to break both extensions. The glazed substrate thus obtained had a glaze layer with a uniform thickness without any bulges or drips of glaze at the edges of the glaze layer. Further, when this manufacturing test was repeated and the glaze layer of each obtained glazed substrate was observed, no chipping or cracking occurred as shown in Table 1. Comparative Example 1 Table 1 shows the results of repeated manufacturing tests using the same method as in Example 1, except that grooves were provided only on the front surface of the alumina substrate and grooves on the back surface were omitted. . Comparative Example 2 Table 1 shows the results of a manufacturing test conducted in exactly the same manner as in Example 1, except that the extended portion of the alumina substrate was broken by applying stress from the back side.
【表】
第1表の結果より、本発明の方法ではグレーズ
層のチツピング及びクラツクの発生もないことが
判るが、比較例の方法のように、溝を片面のみに
設けた場合又は裏面よりブレークした場合には、
グレーズ層にチツピング及びクラツクが発生する
ことが判る。[Table] From the results in Table 1, it can be seen that the method of the present invention does not cause chipping or cracking of the glaze layer, but when the grooves are provided only on one side or from the back side, as in the comparative method, If you do,
It can be seen that chipping and cracking occur in the glaze layer.
第1図は延長部をブレークする前の本発明にお
ける一例のグレーズ基板を説明的に示す側面図、
第2図は延長部をブレークした後の同様のグレー
ズ基板を説明的に示す側面図である。
1…セラミツク基板本体、2a,2b…延長
部、3…グレーズ層、4a,4b…溝、5…盛り
上がり部。
FIG. 1 is a side view illustratively showing an example of the glazed substrate according to the present invention before breaking the extension part;
FIG. 2 is an illustrative side view of a similar glazed substrate after the extensions have been broken. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Ceramic substrate body, 2a, 2b... Extension part, 3... Glaze layer, 4a, 4b... Groove, 5... Raised part.
Claims (1)
の境界部分の表面と裏面にそれぞれ溝を有するセ
ラミツク基板の片面に、グレーズ層を形成させ、
次いで、グレーズ層側の面から応力を加えること
により、両端の延長部をブレークすることを特徴
とするグレーズ基板の製造法。 2 セラミツク基板の材質がアルミナ、ベリリヤ
又はSiCである特許請求の範囲第1項記載の方
法。 3 セラミツク基板に設けた溝が幅0.03〜0.2mm、
深さ0.04〜0.5mmである特許請求の範囲第1項記
載の方法。 4 セラミツク基板の溝がレーザー加工法により
形成されたものである特許請求の範囲第1項又は
第3項記載の方法。[Claims] 1. Forming a glaze layer on one side of a ceramic substrate having extensions at both ends in the longitudinal direction and grooves on the front and back surfaces of the boundary between the two extensions,
A method for producing a glazed substrate, characterized in that the extended portions at both ends are broken by applying stress from the surface on the glaze layer side. 2. The method according to claim 1, wherein the material of the ceramic substrate is alumina, beryllia, or SiC. 3 The width of the groove provided on the ceramic substrate is 0.03 to 0.2 mm,
The method according to claim 1, wherein the depth is 0.04 to 0.5 mm. 4. The method according to claim 1 or 3, wherein the grooves in the ceramic substrate are formed by laser processing.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3006883A JPS59155039A (en) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | Manufacture of graze substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3006883A JPS59155039A (en) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | Manufacture of graze substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155039A JPS59155039A (en) | 1984-09-04 |
| JPS645815B2 true JPS645815B2 (en) | 1989-02-01 |
Family
ID=12293493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3006883A Granted JPS59155039A (en) | 1983-02-24 | 1983-02-24 | Manufacture of graze substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59155039A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4661369A (en) * | 1985-09-05 | 1987-04-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Non-destructive evaluation method for coated carbon-carbon composites |
| FR2672884B1 (en) * | 1991-02-20 | 1993-09-10 | Saint Gobain Vitrage Int | PROTECTIVE LAYER ON A CONDUCTIVE SUBSTRATE. |
| JP5485127B2 (en) * | 2010-12-16 | 2014-05-07 | 株式会社東芝 | Manufacturing method of ceramic circuit board |
-
1983
- 1983-02-24 JP JP3006883A patent/JPS59155039A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59155039A (en) | 1984-09-04 |
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