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JPH0115863B2 - - Google Patents
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JPH0115863B2 - - Google Patents

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JPH0115863B2
JPH0115863B2 JP54095852A JP9585279A JPH0115863B2 JP H0115863 B2 JPH0115863 B2 JP H0115863B2 JP 54095852 A JP54095852 A JP 54095852A JP 9585279 A JP9585279 A JP 9585279A JP H0115863 B2 JPH0115863 B2 JP H0115863B2
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JP
Japan
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image
plate
etching
relief image
rubber
Prior art date
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JP54095852A
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Kazutoshi Taniguchi
Tooru Ihara
Yasuhiro Nishioka
Yoshasu Ito
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基盤上に高分子物質より成る画像形成
部を設けた凸版印刷版の製版方法に関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for making a relief printing plate in which an image forming portion made of a polymeric substance is provided on a substrate.

従来、高分子物質より成る凸版印刷版の製版方
法としては、型成型法、感光性樹脂を用いる方
法、手法もしくは機械的に彫刻する方法、レーザ
ーにより彫刻する方法等の方法が考案され、実施
されている。この中で型成型法及び感光性樹脂を
用いる方法は最も広く行なわれている製版方法で
あるが、継ぎ目のない高分子物質より成る画像形
成部(以下シームレス画像という)を有する印刷
版を作ることは不可能である。
Conventionally, as plate-making methods for letterpress printing plates made of polymeric materials, methods such as molding, methods using photosensitive resins, mechanical engraving, and laser engraving have been devised and implemented. ing. Among these methods, the molding method and the method using photosensitive resin are the most widely used plate-making methods, but it is also important to create a printing plate with an image forming area made of a seamless polymeric material (hereinafter referred to as a seamless image). is not possible.

また、手彫りよる製版方法はシームレス画像の
作成は可能であるが、製版時間がかかり、コスト
が高くなる上、細い画像の表現が難かしいという
欠点も有している。更に機械的彫刻装置による製
版においては、高価な装置を使用しなければなら
ず、しかもシームレス画像を得るには複雑な制御
回路を必要とするので装置コストが更に高くな
る。またこの機械的彫刻装置による製版では、バ
リの発生を伴なうので版素材が極めて限定され
る。例えばゴムの如き弾性体は彫刻が難かしく、
フレキソ版の製版は不可能である。レーザーによ
る彫刻は一般的にはYAGレーザー、CO2レーザ
ーが使われており、機械的彫刻装置同様シームレ
ス画像の形成は可能であるが、装置が高価でかつ
バリの発生を伴ない、未だ実用上には種々の問題
を含んでいる。
Furthermore, although it is possible to create a seamless image using a hand engraving plate-making method, it takes time to make the plate, increases the cost, and has the disadvantage that it is difficult to express thin images. Furthermore, plate making using a mechanical engraving device requires the use of expensive equipment, and furthermore, requires a complicated control circuit to obtain a seamless image, further increasing the cost of the equipment. Furthermore, plate making using this mechanical engraving device is accompanied by the generation of burrs, so the plate materials available are extremely limited. For example, it is difficult to engrave elastic materials such as rubber.
It is not possible to make a flexo plate. Laser engraving generally uses YAG lasers and CO 2 lasers, and it is possible to form seamless images just like mechanical engraving equipment, but the equipment is expensive and causes burrs, so it is still not practical. contains various problems.

本発明はこのような問題点を解消すべく鋭意検
討の結果成されたものであり、ゴム等を含む各種
高分子物質を利用した凸版印刷版の製造に広く応
用出来、かつシヤープで細かな高分子物質により
なる画像形成部を有する印刷版の製造を可能にし
た製版方法を提供するものである。
The present invention was developed as a result of intensive studies to solve these problems, and can be widely applied to the production of letterpress printing plates using various polymeric substances including rubber, and is capable of producing sharp and fine high-molecular-weight printing plates. The present invention provides a plate-making method that makes it possible to manufacture a printing plate having an image-forming portion made of a molecular substance.

以下本発明を図面に示す一実施例を参照に詳細
に説明する。
The present invention will be described in detail below with reference to an embodiment shown in the drawings.

まず第1図に示すように基盤1表面にシームレ
ス画像等任意のレリーフ画像2をエツチング、メ
ツキ、彫刻またはプレス等の方法により形成す
る。基盤1に使用する材質としては鉄、亜鉛、
銅、ニツケル等をはじめエツチング、メツキ、彫
刻、プレス加工等によりレリーフ画像2が形成出
来るものであれば特に限定する必要はなく、その
形状もシートやシリンダーに限るものではない。
また、これらの基盤1は圧延もしくは引き抜き成
型された金属で作成したものでもよく、基板にメ
ツキ等の方法でメツキ層を形成したものでもよ
い。基盤1表面にレリーフ画像2を形成する方法
としては上記したようにエツチング、メツキ、彫
刻、プレス加工をはじめ種々の方法が考えられる
が、コストを考慮すると、エツチング及びメツキ
による方法が好ましい。
First, as shown in FIG. 1, an arbitrary relief image 2 such as a seamless image is formed on the surface of a substrate 1 by a method such as etching, plating, engraving, or pressing. The materials used for the base 1 are iron, zinc,
There is no need to specifically limit the material as long as the relief image 2 can be formed by etching, plating, engraving, pressing, etc., including copper, nickel, etc., and its shape is not limited to sheets or cylinders.
Further, these substrates 1 may be made of rolled or pultruded metal, or may have a plating layer formed on the substrate by a method such as plating. Various methods can be considered for forming the relief image 2 on the surface of the substrate 1, including etching, plating, engraving, and press working as described above, but in consideration of cost, etching and plating are preferred.

エツチングにより基盤1表面にレリーフ画像2
を形成するには第2図に示すように基盤1表面に
ポリケイ皮酸ビニール、アジドーゴム系化合物等
の感光性樹脂を塗布し、所望の画像を焼付け、現
像することにより得られるエツチングレジスト3
を形成した後、化学エツチングもしくは電解エツ
チングすればよい。この時、焼付ける画像の長さ
と同じ長さの円周長を有するシリンダーを基盤1
として使用することにより基盤1上に継ぎ目のな
いレリーフ画像を得ることができる。このように
して得られるエツチングレジスト3を有する基盤
1は酸及び酸化剤を用いて化学エツチングする
か、電解液中で電解エツチングする。化学エツチ
ングは基盤1を形成する金属の種類によりその適
正が若干異なるが、塩化第2鉄液、HNO3
H2O2等のエツチング液が一般に用いられる。
Relief image 2 on the surface of base 1 by etching
To form an etching resist 3, as shown in FIG. 2, a photosensitive resin such as polyvinyl cinnamate or an azide rubber compound is applied to the surface of the substrate 1, and a desired image is printed and developed.
After forming, chemical etching or electrolytic etching may be performed. At this time, place a cylinder with the same circumference as the length of the image to be printed on the base 1.
A seamless relief image can be obtained on the base plate 1 by using the base plate as a base plate. The substrate 1 with the etching resist 3 thus obtained is chemically etched using an acid and an oxidizing agent, or electrolytically etched in an electrolyte. The suitability of chemical etching differs slightly depending on the type of metal forming the substrate 1, but ferric chloride solution, HNO 3 -
Etching solutions such as H 2 O 2 are commonly used.

メツキにより基盤1表面にレリーフ画像2を形
成するには、基盤1表面にエツチング法と同様に
レジスト画像4を形成した後、所望のメツキ浴に
よりメツキ層5を形成することによりレリーフ画
像2を得ることが出来、メツキする金属は銅、ニ
ツケル等その素材を何ら限定するものではない。
レリーフ画像2の深度は、最終的に得られる印刷
版9を構成する高分子物質より成る画像形成部分
8の高さにより異なるが、印刷適正を考慮し、
0.2mm〜2.0mm位が適当である。レリーフ画像2の
深度が浅すぎると印刷版9の非画像部にインキが
着肉してしまい、逆に深度が深いとエツチング及
びメツキに要する時間が長くかかるので、好まし
くは0.2〜1.0mmがよい。
To form the relief image 2 on the surface of the substrate 1 by plating, after forming the resist image 4 on the surface of the substrate 1 in the same manner as the etching method, the relief image 2 is obtained by forming the plating layer 5 in a desired plating bath. The metal to be plated may be copper, nickel, etc., and the material is not limited in any way.
The depth of the relief image 2 varies depending on the height of the image forming portion 8 made of a polymeric substance constituting the printing plate 9 finally obtained, but considering printing suitability,
Approximately 0.2 mm to 2.0 mm is appropriate. If the depth of the relief image 2 is too shallow, ink will adhere to the non-image areas of the printing plate 9, and on the other hand, if the depth is too deep, it will take a long time for etching and plating, so it is preferably 0.2 to 1.0 mm. .

次に以上のようにして得られたレリーフ画像2
を有する基盤1の凹部6に第4図イ,ロに示すよ
うに最終的に得られる印刷版9の画像形成部分8
となる高分子物質7を埋め込む。高分子物質7は
アクリル、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、セルロース、ポリエステル等の熱可
塑性樹脂等を必要に応じて接着剤を用いてプレス
加工等により凹部6に埋め込んでもよく、溶剤に
溶解して凹部6に流し込んでもよい。また、フエ
ノール、エポキシ、キシレン、ポリエステル、
DAP等の熱硬化性樹脂を凹部6に流し込み、加
熱硬化してもよい。これら高分子樹脂以外にゴム
を使用し、フレキソ版とすることもできる。即
ち、ポリブタジエン、ポリブタジエン−スチレン
共重合体、ポリブタジエン−アクリロニトリル共
重合体等のキヤステイング用の液状ゴムを凹部6
に流し込み、硬化させる方法、通常のゴムローラ
ーを作る方法と同様、ニトリルゴム、クロロプレ
ンゴム、ウレタンゴム、天然ゴム等の未架硫ゴム
をシートプレスするかシリンダー状の基盤に巻き
付け、圧力容器内で架熱架硫する方法によつても
よい。また、これらの高分子物質に必要に応じて
カーボン、CaCO3、Fe2O3等の充填剤をはじめ各
種安定剤添加剤を加えてもよい。
Next, relief image 2 obtained as above
In the concave portion 6 of the base 1 having
A polymer substance 7 is embedded. The polymer material 7 is made of a thermoplastic resin such as acrylic, nylon, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, cellulose, polyester, etc., which is embedded in the recess 6 by pressing or the like using an adhesive as needed. Alternatively, it may be dissolved in a solvent and poured into the recess 6. Also, phenol, epoxy, xylene, polyester,
A thermosetting resin such as DAP may be poured into the recess 6 and cured by heating. In addition to these polymeric resins, rubber can also be used to make a flexo plate. That is, a liquid rubber for casting such as polybutadiene, polybutadiene-styrene copolymer, polybutadiene-acrylonitrile copolymer, etc. is applied to the recess 6.
Similar to the method used to make regular rubber rollers, uncross-cured rubber such as nitrile rubber, chloroprene rubber, urethane rubber, or natural rubber is sheet-pressed or wrapped around a cylindrical base and placed in a pressure vessel. A method of heating and cross-sulfurizing may also be used. Furthermore, various stabilizer additives including fillers such as carbon, CaCO 3 and Fe 2 O 3 may be added to these polymeric substances as necessary.

基盤1の凹部6にいずれの高分子物質7を埋め
込むかは印刷性を考慮して適宜選択される。また
これらの高分子物質7は、基盤1の凹部6だけに
埋め込む必要はなく、第4図ロに示すように基盤
1表面を覆うように加工してもよい。この場合は
基盤1表面に第4図ロのように高分子物質7を被
覆した後、砥石もしくはバイト等で凹部6に埋め
込んだ高分子物質7以外を研磨、研削し、レリー
フ画像2上面と高分子物質7の研磨、研削面が同
一高さになるように加工する。基盤1のレリーフ
画像2上面と高分子物質7の面が同一高さとなつ
たら、凹部6に埋め込まれた高分子物質7をエツ
チングレジストとして基盤1をエツチングし、第
5図に示すような高分子物質より成る画像形成部
8を有する印刷版9を得る。エツチングの深度は
凹部6に充填した高分子物質の高さを越えてはな
らない。
Which polymer substance 7 is to be embedded in the recess 6 of the base 1 is appropriately selected in consideration of printability. Furthermore, these polymer substances 7 do not need to be embedded only in the recesses 6 of the substrate 1, but may be processed so as to cover the surface of the substrate 1, as shown in FIG. 4B. In this case, after coating the surface of the base 1 with the polymeric substance 7 as shown in FIG. The molecular substance 7 is polished so that the polished surfaces are at the same height. When the upper surface of the relief image 2 of the substrate 1 and the surface of the polymer material 7 are at the same height, the substrate 1 is etched using the polymer material 7 embedded in the recess 6 as an etching resist, and the polymer material 7 as shown in FIG. 5 is etched. A printing plate 9 is obtained having an image-forming portion 8 of material. The depth of etching must not exceed the height of the polymer material filled in the recess 6.

本発明は以上のような構成なので、印刷目的に
応じた高分子物質より成る画像形成部を有する印
刷版をバリを発生することなく精緻に、しかも安
価に製版できるものである。その上、高分子物質
より成るシームレス画像を有する印刷版などは容
易に作成し得るものである。
Since the present invention has the above-described configuration, a printing plate having an image forming portion made of a polymeric material according to the purpose of printing can be made precisely and inexpensively without generating burrs. Moreover, printing plates and the like having seamless images made of polymeric materials can be easily produced.

以下本発明の実施例を示すが、本発明はこの実
施例に限定されるものではない。
Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例 1 2mm厚の亜鉛板表面を整面し、表面にTPR(東
京応化製)を均一に塗布、乾燥した後、ポジフイ
ルムを密着焼付け、現像した。次に現像によつて
亜鉛板表面に残つたTPRより成る層をエツチン
グレジストとし、HNO3液にて深度0.7mmまで亜
鉛板を化学エツチングし、レリーフ画像を得た。
エツチング後ゴム系接着剤を介して1mm厚の
PVC板を熱プレスし、レリーフ画像凹部にPVC
樹脂を埋め込んだ。次に亜鉛板表面とPVC樹脂
面の高さが同一になるようにフライス盤で加工し
た後、レリーフ画像凹部に埋め込んだPVC樹脂
をエツチングレジストとし、再度HNO3液で深度
0.5mmになるまで化学エツチングし、PVC樹脂を
画像形成部とする凸版印刷版を得た。
Example 1 The surface of a 2 mm thick zinc plate was smoothed, TPR (manufactured by Tokyo Ohka) was uniformly applied to the surface, and after drying, a positive film was attached and developed. Next, the layer of TPR remaining on the surface of the zinc plate after development was used as an etching resist, and the zinc plate was chemically etched to a depth of 0.7 mm using a HNO 3 solution to obtain a relief image.
After etching, a 1mm thick film is coated with rubber adhesive.
Heat press the PVC board and place the PVC into the relief image recess.
Filled with resin. Next, after processing with a milling machine so that the height of the zinc plate surface and the PVC resin surface are the same, the PVC resin embedded in the relief image recess is used as an etching resist, and the depth is etched again with HNO 3 liquid.
Chemical etching was performed to a thickness of 0.5 mm to obtain a letterpress printing plate with PVC resin as the image forming part.

実施例 2 2mm厚の鉄製の基盤表面を整面し、この表面に
TPR(東京応化製)を均一に塗布、乾燥し、ポジ
フイルムを密着焼付けしてTPRより成るレジス
ト画像を形成した。現像後、酸ニツケル浴でレジ
スト画像以外の基盤の部分にニツケルメツキを施
し、0.5mm厚のレリーフ画像を形成した。メツキ
後スミラツクPC−1(住友デユレズ製)をレリー
フ画像凹部に流し込み、予備加熱(80℃、1時
間)後、焼付け(120℃、3時間)を行つた。次
にレリーフ画像凹部のみに埋め込んだスミラツク
PC−1をエツチングレジストとして塩化第2鉄
溶液にて深度0.3mmまで化学エツチングし、フエ
ノール樹脂を画像形成部とする凸版を得た。
Example 2 The surface of a 2 mm thick iron base was smoothed and
TPR (manufactured by Tokyo Ohka) was applied uniformly, dried, and a positive film was attached to it to form a resist image made of TPR. After development, parts of the base other than the resist image were nickel plated in an acid nickel bath to form a 0.5 mm thick relief image. After plating, Sumiraku PC-1 (manufactured by Sumitomo Durez) was poured into the relief image recesses, preheated (80°C, 1 hour), and then baked (120°C, 3 hours). Next, Sumiraku was embedded only in the concave part of the relief image.
Using PC-1 as an etching resist, chemical etching was carried out to a depth of 0.3 mm using a ferric chloride solution to obtain a relief plate having a phenolic resin as an image forming part.

実施例 3 1.5mmの鉄板に硫酸ニツケル浴で薄くニツケル
メツキした後、硫酸銅浴で前記工程で得られたニ
ツケルメツキ層上に更に0.5mmまで銅メツキを行
なつた。銅メツキ層の表面を整面後TPR(東京応
化製)を塗布、乾燥させ、ポジフイルムを密着焼
付け、現像した。次に現像によつて基盤上に残つ
たTPRをエツチングレジストとして電解質中で
電解エツチングを行ない、0.5mmの深さのレリー
フ没像を得た。次にこのレリーフ画像凹部に下記
組成の液状ゴムを流し込み、125℃、30分の条件
で加熱硬化させた。つづいてレリーフ画像上の不
必要なゴムを取り除くためフライス盤で研磨し、
レリーフ画像上面とゴム上面が同一高さになるよ
うに加工した。次にレリーフ画像の凹部のみに埋
め込まれたゴムをエツチングレジストとし、塩化
第2鉄溶液で深度0.3mmの深さになるまで化学エ
ツチングし、0.3mm厚のゴムより成る画像形成部
を有する凸版印刷版を得た。
Example 3 After a 1.5 mm iron plate was thinly plated with nickel in a nickel sulfate bath, copper plating was further applied to a thickness of 0.5 mm on the nickel plated layer obtained in the above step in a copper sulfate bath. After leveling the surface of the copper plating layer, TPR (manufactured by Tokyo Ohka) was applied, dried, and a positive film was attached and developed. Next, electrolytic etching was performed in an electrolyte using the TPR remaining on the substrate as an etching resist to obtain a relief image with a depth of 0.5 mm. Next, a liquid rubber having the composition shown below was poured into the relief image depressions and cured by heating at 125° C. for 30 minutes. Next, in order to remove unnecessary rubber on the relief image, it was polished with a milling machine.
The upper surface of the relief image and the upper surface of the rubber were processed so that they were at the same height. Next, the rubber embedded only in the concave portions of the relief image is used as an etching resist, and chemically etched with a ferric chloride solution to a depth of 0.3 mm. Letterpress printing has an image forming area made of 0.3 mm thick rubber. Got the edition.

(液状ゴム組成) poly bd液状ゴム R−45(出光石油化学製)
……100重量部 トルエンジイソシアネート ……7 〃 第1錫オクトエート ……0.3 〃 実施例 4 170φ×480mmの鉄シリンダー表面にTPR(東京
応化製)を均一に塗布し、該シリンダー円周と同
一長さで継ぎ目のない画像を有するポジフイルム
を焼付け、現像した。鉄シリンダー表面上に形成
されたTPRより成る継ぎ目のない画像をエツチ
ングレジストとし、13%HNO3、40及びH2O2
10の腐蝕液で30分化学エツチングしたところ深
度1mmのレリーフ画像を得た。レリーフ画像上の
TPRを剥離後、このシリンダーに0.5mm厚のニト
リルゴムシートをローラー加圧しながら4回巻き
し、加圧ガマにて架硫した。架硫後、研磨砥石に
て不必要なゴムを研削し、金層表面を露出させ、
ゴム面とレリーフ画像面を同一面とした。
(Liquid rubber composition) poly bd liquid rubber R-45 (manufactured by Idemitsu Petrochemical)
...100 parts by weight Toluene diisocyanate ...7〃 Tinnous octoate ...0.3〃 Example 4 TPR (manufactured by Tokyo Ohka) was evenly applied to the surface of a 170φ x 480mm iron cylinder, and the length was the same as the circumference of the cylinder. A positive film with a seamless image was printed and developed. A seamless image made of TPR formed on the surface of an iron cylinder was used as an etching resist, and 13% HNO 3 , 40 and H 2 O 2 ,
After 30 minutes of chemical etching with a No. 10 etching solution, a relief image with a depth of 1 mm was obtained. on the relief image
After peeling off the TPR, a 0.5 mm thick nitrile rubber sheet was wrapped around this cylinder four times under pressure with a roller, and cross-cured using a pressure gadler. After cross-sulfurization, remove unnecessary rubber using a grinding wheel to expose the gold layer surface.
The rubber surface and the relief image surface were made the same surface.

次にレリーフ画像凹部のニトリルゴムをエツチ
ングレジストとして上記腐蝕液で20分間化学エツ
チングし、レリーフ画像を0.6mm腐蝕し、0.6mm厚
のニトリルゴムより成るシームレス画像を有する
フレキソ版を得た。
Next, the nitrile rubber in the depressions of the relief image was used as an etching resist and chemically etched with the above etching solution for 20 minutes to etch the relief image by 0.6 mm to obtain a flexographic plate having a seamless image made of 0.6 mm thick nitrile rubber.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図乃至第4図は本発明の工程の一部を説明
するために示したレリーフ画像を有する基盤の断
面図、第5図は本発明によつて得られる印刷版を
示す断面図である。 1……基盤、2……レリーフ画像、3……エツ
チングレジスト、4……レジスト画像、6……凹
部、7……高分子物質、8……画像形成部、9…
…印刷版。
1 to 4 are cross-sectional views of a substrate having a relief image shown to explain a part of the process of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing a printing plate obtained by the present invention. . DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Base, 2... Relief image, 3... Etching resist, 4... Resist image, 6... Recessed part, 7... Polymer substance, 8... Image forming part, 9...
...Print version.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基盤表面に所望のレリーフ画像を形成した
後、該レリーフ画像の凹部に高分子物質を埋め込
んでから該高分子物質をレジストとして該レジス
ト以外の基盤の部分をエツチングすることによ
り、高分子物質から成る画像形成部を該基盤上に
有する凸版印刷版を製造することを特徴とする製
版方法。 2 シリンダー状の基盤表面に継ぎ目のないレリ
ーフ画像を形成することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の製版方法。
[Claims] 1. After forming a desired relief image on the surface of a substrate, embedding a polymeric substance in the recesses of the relief image, and then etching the portion of the substrate other than the resist using the polymeric substance as a resist. A plate-making method comprising producing a letterpress printing plate having an image forming portion made of a polymeric substance on the base. 2. The plate-making method according to claim 1, wherein a seamless relief image is formed on the surface of a cylindrical base.
JP9585279A 1979-07-27 1979-07-27 Printing plate making method Granted JPS5619759A (en)

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