JPH0158201B2 - - Google Patents
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- JPH0158201B2 JPH0158201B2 JP54011756A JP1175679A JPH0158201B2 JP H0158201 B2 JPH0158201 B2 JP H0158201B2 JP 54011756 A JP54011756 A JP 54011756A JP 1175679 A JP1175679 A JP 1175679A JP H0158201 B2 JPH0158201 B2 JP H0158201B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はサンドブラストにより基材表面に図柄
を形成する際に用いるサンドブラストレジストを
形成するに好適な感光性樹脂組成物に関するもの
である。従来、サンドブラストにより基材表面に
図柄を作成する方法として、紙、ゴム等を基材に
貼りつけカツターナイフ等で切り抜き、これをサ
ンドブラストレジスト(保護膜)としてサンドブ
ラストする方法が知られている。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photosensitive resin composition suitable for forming a sandblasting resist used when forming patterns on the surface of a substrate by sandblasting. Conventionally, as a method of creating a pattern on the surface of a substrate by sandblasting, a method is known in which paper, rubber, or the like is pasted on the substrate, cut out with a cutter knife, etc., and then sandblasted using this as a sandblasting resist (protective film).
しかしこれらの方法は保護膜を人手により作成
するのが通常であり、模様が複雑で細い場合は保
護膜の形成に多大の時間と労力を必要とする。 However, in these methods, the protective film is usually created manually, and if the pattern is complex and thin, forming the protective film requires a lot of time and effort.
近年これらの問題点を解決するために感光性樹
脂を用いて写真的手法により保護膜を基材上に形
成し、サンドブラストする方法(特公昭46−
35681)、あるいはスクリーン印刷により保護膜を
形成しサンドブラストする方法が提案されてい
る。前者の方法では基材上に直接樹脂を塗布し図
柄を有するフイルムを通して露光し、未感光部分
の樹脂を溶解除去しなければならず、手間がかか
り大きな基材に模様をつける場合作業が大変面倒
である。また後者の方法では用いるインキが溶剤
乾燥型であつたり、二液混合の反応硬化するもの
であつたりしてしばしばスクリーンの目づまりを
起し、十分な厚みの完全な図柄が出来にくい等の
作業性に難点を有していた。また保護膜の剥離も
困難であつた。 In recent years, in order to solve these problems, a method has been developed in which a protective film is formed on a substrate by a photographic method using a photosensitive resin and then sandblasted.
35681), or a method of forming a protective film by screen printing and sandblasting. In the former method, resin is applied directly onto the substrate, exposed through a patterned film, and the unexposed areas of the resin must be dissolved and removed, which is time-consuming and very tedious when patterning a large substrate. It is. In addition, in the latter method, the ink used is either a solvent-drying type or a two-component mixture that cures through a reaction, which often causes screen clogging and makes it difficult to create a complete design with sufficient thickness. It had some drawbacks. It was also difficult to peel off the protective film.
本発明者らは先に感光性樹脂をインク化しスク
リーン印刷により基材上に図柄を形成し、サンド
ブラストの保護膜とする新しい方法を提案した。
この方法により保護膜の形成は非常に簡便にな
り、スクリーンの目づまりもなく大量生産が可能
になつたが、サンドブラスト後保護膜を剥離した
い時に剥がしにくいあるいは剥離に時間がかかる
といつた問題点を有していた。 The present inventors have previously proposed a new method in which a photosensitive resin is made into ink and a pattern is formed on a base material by screen printing to form a protective film for sandblasting.
This method has made it very easy to form a protective film and has enabled mass production without clogging the screen, but there are problems in that it is difficult to remove the protective film after sandblasting, or it takes a long time to remove it. It had
本発明者らはこの点を改良するために多くの樹
脂組成を鋭意検討した結果サンドブラストする時
には十分に基材に密着し、しかもサンドブラスト
後は容易に基材から剥離することができる保護膜
を形成する感光性樹脂組成物を見出した。すなわ
ち、エチレングリコールまたはその縮合体と無水
マレイン酸およびフタル酸から得られた不飽和ポ
リエステルと2―ヒドロキシエチルメタクリレー
トおよびポリビニルピロリドンまたはポリエチレ
ングリコールジメタクリレートと光重合開始剤を
必須成分とするサンドブラストレジスト用感光性
樹脂組成物を提供するものである。 In order to improve this point, the present inventors have intensively studied many resin compositions, and as a result, they form a protective film that adheres well to the substrate during sandblasting and can be easily peeled off from the substrate after sandblasting. We have discovered a photosensitive resin composition. That is, a photosensitive material for sandblasting resist containing as essential components an unsaturated polyester obtained from ethylene glycol or its condensate, maleic anhydride and phthalic acid, 2-hydroxyethyl methacrylate, polyvinylpyrrolidone or polyethylene glycol dimethacrylate, and a photopolymerization initiator. The present invention provides a synthetic resin composition.
本発明でいう基材とは硝子、金属、ポリメチル
メタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニー
ル、フエノール樹脂、尿素―ホルマリン樹脂、メ
ラミン樹脂等の合成樹脂、石、皮革、木材で成る
成形物をいう。またこれら基材の表面にアルキツ
ド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などより成
る塗料層や銀、銅、アルミニウムなどによりなる
金属薄膜層等の塗膜を有しているものを含むもの
とする。 In the present invention, the base material refers to a molded article made of glass, metal, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, synthetic resin such as phenolic resin, urea-formalin resin, melamine resin, stone, leather, or wood. It also includes those having a paint layer made of alkyd resin, urethane resin, epoxy resin, etc., or a metal thin film layer made of silver, copper, aluminum, etc. on the surface of these substrates.
本発明の感光性樹脂組成物はスクリーン印刷可
能な液状品が望ましい。溶剤等の稀釈剤を混合し
て液状にしてもよい。更に本発明の感光性樹脂組
成物はスクリーン印刷後、活性光線の照射により
硬化し基材に密着してサンドブラストに耐える保
護膜を形成する。この活性光線の光源としては紫
外線螢光灯、水銀灯、カーボンアーク灯、太陽光
等が用いられる。照射は空気中でもできるが、表
面のタツクをなくすため、またできるだけ短時間
で硬化させるために不活性ガス、例えば窒素、ア
ルゴンあるいは炭酸ガスの雰囲気中で照射するの
が望ましい。 The photosensitive resin composition of the present invention is preferably a liquid product that can be screen printed. It may be made into a liquid by mixing a diluent such as a solvent. Furthermore, after screen printing, the photosensitive resin composition of the present invention is cured by irradiation with actinic rays to form a protective film that adheres closely to the substrate and is resistant to sandblasting. As a light source for this active light, an ultraviolet fluorescent lamp, a mercury lamp, a carbon arc lamp, sunlight, etc. are used. Although irradiation can be performed in air, it is preferable to irradiate in an atmosphere of an inert gas, such as nitrogen, argon, or carbon dioxide, in order to eliminate surface tackiness and to cure as quickly as possible.
不飽和ポリエステルとしてはエチレングリコー
ルまたはその縮合体と無水マレイン酸およびフタ
ル酸から得られた不飽和ポリエステルを使用す
る。さらに、活性光線の照射、ブラスト後、水に
浸漬して基材からの剥離を容易にするため2―ヒ
ドロキシエチルメタクリレートとポリビニルピロ
リドンまたはポリエチレングリコールジメタクリ
レートを組合わせて不飽和ポリエステルに添加し
て使用する。この化合物の添加量は、ブラスト
後、水に浸漬して剥離を容易にするために3重量
%以上、好ましくは5重量%以上添加する。一
方、基材との密着性およびサンドブラストに耐え
るための強度を持たせるために90重量%以下であ
ることが望ましい。光重合開始剤としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類、アントラキノ
ン、2―メチルアントラキノン等ののアントラキ
ノン類、ベンゾフエノン、ベンジル、ジフエニル
ジスルフイド、ジアセチル等従来公知のものが用
いられる。 As the unsaturated polyester, an unsaturated polyester obtained from ethylene glycol or its condensate, maleic anhydride and phthalic acid is used. Furthermore, after irradiation with actinic light and blasting, a combination of 2-hydroxyethyl methacrylate and polyvinylpyrrolidone or polyethylene glycol dimethacrylate is added to the unsaturated polyester to facilitate peeling from the substrate by immersion in water. do. The amount of this compound added is 3% by weight or more, preferably 5% by weight or more in order to facilitate peeling by immersion in water after blasting. On the other hand, the content is desirably 90% by weight or less in order to have adhesion to the base material and strength to withstand sandblasting. Examples of photopolymerization initiators include benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether, anthraquinones such as anthraquinone and 2-methylanthraquinone, benzophenone, benzyl, diphenyl disulfide, diacetyl, etc. A conventionally known one is used.
光重合開始剤の添加量は使用したエチレン状不
飽和結合を分子内に一個以上有する化合物の100
重量部に対して0.5部ないし10部を加える。また、
組成物の貯蔵性を増すためにハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、2,6―ジ―
t―ブチル―p―クレゾール等を使用したエチレ
ン状不飽和結合を分子内に一個以上有する化合物
の100重量部に対して0.05部ないし1.0部加える。 The amount of photopolymerization initiator added is 100% of the compound used that has one or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule.
Add 0.5 part to 10 parts by weight. Also,
Hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-di-
Add 0.05 part to 1.0 part per 100 parts by weight of a compound containing one or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule, such as t-butyl-p-cresol.
更にスクリーン印刷性を出すために種々の粘度
調節剤例えば、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム
等の固体微粉末、各種ポリマー、増粘剤、溶媒等
を添加することもできる。 Furthermore, various viscosity modifiers such as solid fine powders such as silicon dioxide and magnesium oxide, various polymers, thickeners, solvents, etc. may be added to improve screen printability.
また、染料や顔料等の着色剤を添加し保護膜を
見易くすることもできる。 Furthermore, a coloring agent such as a dye or a pigment can be added to make the protective film easier to see.
本発明の組成物は基材への密着性もよく、柔軟
性を有しているのでサンドブラストレジストとし
て特に優れている。 The composition of the present invention has good adhesion to substrates and is flexible, so it is particularly excellent as a sandblasting resist.
本発明の組成物を用いて基材に模様を形成する
方法は種々の方法が可能である。例えば直接基材
に印刷し活性光線を照射し硬化させる方法、ある
いは離型紙や離型性フイルム上に印刷し、硬化さ
せたものを基材に貼りつける方法等がとられる。 Various methods can be used to form a pattern on a substrate using the composition of the present invention. For example, a method of directly printing on a substrate and curing by irradiating with actinic rays, or a method of printing on release paper or a release film, curing and pasting on the substrate, etc. are used.
貼りつける方法に本発明の樹脂組成物を用いる
ためには、活性光線に照射し硬化した樹脂に柔軟
性が必要となる。そのためには前記の組成から適
当な割合を選択すればよいが、前記不飽和ポリエ
ステルを30重量%以上含んだ組成物が好ましい。
一般にサンドブラスト処理を行つた後は基材上に
形成した硬化した樹脂は基材から剥がされる。剥
離する方法は水に浸漬することにより基材より自
然に剥離してくる。水温を高くすると剥離は更に
し易くなる。水に浸漬させる時間は樹脂の種類や
基材の材質の違いによつて異なるが普通10分以
上、好ましくは20分以上浸漬しておけば完全に剥
離する。もちろん1分前後の浸漬時間であつても
物理的に力を借りれば簡単に剥がすことができ
る。 In order to use the resin composition of the present invention in the pasting method, the resin cured by irradiation with actinic rays must have flexibility. For this purpose, an appropriate proportion may be selected from the above-mentioned composition, but a composition containing 30% by weight or more of the above-mentioned unsaturated polyester is preferred.
Generally, after sandblasting, the cured resin formed on the substrate is peeled off from the substrate. The method of peeling is to immerse it in water so that it will peel off naturally from the base material. If the water temperature is raised, peeling becomes easier. The length of time for immersion in water varies depending on the type of resin and the material of the base material, but it is usually 10 minutes or more, preferably 20 minutes or more for complete peeling. Of course, even if the immersion time is around 1 minute, it can be easily peeled off with physical force.
本発明の組成物を用いることによつて基材に模
様づけ、文字入れ等の作業が非常に簡便になつ
た。特にスクリーン印刷によつて保護膜が形成で
き且つ剥離が水に浸漬するだけで容易にできるよ
うになつた点で優れている。 By using the composition of the present invention, operations such as patterning and lettering on a base material have become extremely easy. In particular, it is excellent in that a protective film can be formed by screen printing and peeling can be easily performed by simply immersing it in water.
従来基材から保護膜を剥離する際時間がかかつ
たり無理に剥がして基材表面をキズつけたりして
いた点が改良された。 This improves the conventional method of removing a protective film from a base material, which took time or caused damage to the surface of the base material due to forceful peeling.
また本発明の組成物は感光性であつて活性光に
曝さない限り硬化しない。従つてスクリーン印刷
版の目づまりを起さずにいつまでも美しい印刷が
可能である。 The composition of the present invention is also photosensitive and will not cure unless exposed to actinic light. Therefore, beautiful printing can be achieved for a long time without clogging the screen printing plate.
本発明の組成物を利用して各種基材、例えばガ
ラス、金属、樹脂等の成形品に模様を容易につけ
ることができる。 Using the composition of the present invention, patterns can be easily applied to molded products of various substrates, such as glass, metal, resin, etc.
次に実施例で本発明を具体的に説明するが、こ
れによつて本発明を限定するものではない。 EXAMPLES Next, the present invention will be specifically explained using Examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例 1
トリエチレングリコールと無水マレイン酸、フ
タル酸とから合成した不飽和ポリエステル50重量
部、2―ヒドロキシエチルメタアクリレート20重
量部、ポリエチレングリコールジメタアクリレー
ト(NK―23G、新中村化学工業製)20重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート10重量
部、シリカ粉末(日本アエロジル社製)7重量
部、ベンゾインイソブチルエーテル1重量部、
2,6―ジ―t―ブチルクレゾール(スミライザ
―BHT、住友化学工業製)0.1重量部、さらに着
色剤としてスミプラストバイオレツトRR0.5重量
部を加え三本ロールでよく混練して感光性樹脂組
成物を調製した。この組成物を用いて別途作成し
た唐草模様の抜き模様を有する厚手ステンシル
(膜厚250ミクロン)を通してガラス板上にスクリ
ーン印刷し、すぐに紫外線螢光灯(20W10本)で
光照射した。約10cmの距離で1分間照射した。ガ
ラス板上に硬化した樹脂の唐草模様ができ上つ
た。次いでこのものに200メツシユのアランダム
を2Kg/cm2の圧縮空気と共に噴射した。Example 1 50 parts by weight of unsaturated polyester synthesized from triethylene glycol, maleic anhydride, and phthalic acid, 20 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate (NK-23G, manufactured by Shin Nakamura Chemical Industries) 20 parts by weight,
10 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 7 parts by weight of silica powder (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), 1 part by weight of benzoin isobutyl ether,
Add 0.1 part by weight of 2,6-di-t-butylcresol (Sumilizer BHT, manufactured by Sumitomo Chemical) and 0.5 part by weight of Sumiplast Violet RR as a coloring agent, and knead well with a triple roll to make a photosensitive resin. A composition was prepared. This composition was screen printed on a glass plate through a thick stencil (film thickness 250 microns) having an arabesque cut-out pattern prepared separately, and immediately irradiated with ultraviolet fluorescent lamps (10 20W). Irradiation was performed for 1 minute at a distance of approximately 10 cm. An arabesque pattern of hardened resin was created on the glass plate. This was then injected with 200 mesh of alundum together with 2 kg/cm 2 of compressed air.
ガラス板の全面をサンドブラストした後ガラス
板を水に浸漬した。しばらくすると硬化した樹脂
は水に膨潤して膨らみ、ガラス板から剥離しはじ
めた。このようにサンドで汚れたガラス板を洗浄
すると同時に保護膜の剥離ができる利点を有して
いる。ガラス板にはスリガラスに透明の唐草模様
が浮き上つた。 After sandblasting the entire surface of the glass plate, the glass plate was immersed in water. After a while, the hardened resin swelled with water, expanded, and began to peel off from the glass plate. In this way, it has the advantage that the protective film can be peeled off at the same time as cleaning the glass plate soiled with sand. A transparent arabesque pattern appeared on the frosted glass plate.
実施例 2
実施例1と同じ不飽和ポリエステル70重量部、
2―ヒドロキシエチルメタアクリレート30重量
部、ポリビニールピロリドン20重量部、シリカ粉
末(アエロジル#300、日本アエロジル社製)8
重量部、ベンゾインイソブチルエーテル1重量
部、2,6―ジ―t―ブチルクレゾール0.1重量
部、さらに着色剤としてスミプラストレツド
AS0.1重量部をよく混合し三本ロールミルで均一
に混練した。この組成物を円筒状のコツプにスク
リーン印刷した(厚みは200μ)。印刷後速やかに
紫外線螢光灯を照射しインクを硬化させた。次い
でこのものに200メツシユの金剛砂を1.5Kg/cm2の
圧縮空気と共に吹きつけた。光硬化したところは
プラストに耐え、保護膜として十分であつた。プ
ラスト後コツプを水に浸漬すると硬化した樹脂は
剥離した。Example 2 70 parts by weight of the same unsaturated polyester as in Example 1,
30 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 20 parts by weight of polyvinyl pyrrolidone, silica powder (Aerosil #300, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 8
parts by weight, 1 part by weight of benzoin isobutyl ether, 0.1 part by weight of 2,6-di-t-butyl cresol, and Sumiplastret as a coloring agent.
0.1 part by weight of AS was thoroughly mixed and kneaded uniformly using a three-roll mill. This composition was screen printed onto cylindrical tips (thickness: 200μ). Immediately after printing, the ink was cured by irradiation with an ultraviolet fluorescent lamp. Next, 200 mesh of Vajra sand was sprayed onto this material along with 1.5 kg/cm 2 of compressed air. The photo-cured area withstood the blast and was sufficient as a protective film. After plastination, the hardened resin peeled off when the tip was immersed in water.
実施例 3
実施例1の組成物をアルミニウム板の上にスク
リーン印刷し、紫外線螢光灯の下に2分間置いた
後80メツシユのガラスビーズを3Kg/cm2の圧縮空
気と共に吹きつけプラストした。次いで水に浸漬
すると光硬化した樹脂は剥離しアルミ板に模様が
浮上つた。Example 3 The composition of Example 1 was screen printed onto an aluminum plate and spray-blasted with 80 mesh glass beads with 3 kg/cm 2 of compressed air after being placed under an ultraviolet fluorescent lamp for 2 minutes. When the aluminum plate was then immersed in water, the photocured resin peeled off and a pattern appeared on the aluminum plate.
Claims (1)
マレイン酸およびフタル酸から得られた不飽和ポ
リエステルと2―ヒドロキシエチルメタクリレー
トおよびポリビニルピロリドンまたはポリエチレ
ングリコールジメタクリレートと光重合開始剤を
必須成分とするサンドブラストレジスト用感光性
樹脂組成物。1 Photosensitivity for sandblasting resist containing as essential components unsaturated polyester obtained from ethylene glycol or its condensate, maleic anhydride and phthalic acid, 2-hydroxyethyl methacrylate, polyvinylpyrrolidone or polyethylene glycol dimethacrylate, and a photopolymerization initiator Resin composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175679A JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175679A JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55103554A JPS55103554A (en) | 1980-08-07 |
| JPH0158201B2 true JPH0158201B2 (en) | 1989-12-11 |
Family
ID=11786824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1175679A Granted JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55103554A (en) |
Families Citing this family (5)
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|---|---|---|---|---|
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| TW475098B (en) | 1995-10-27 | 2002-02-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same |
| TW322680B (en) * | 1996-02-29 | 1997-12-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | |
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| JP2002148802A (en) | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive composition for sandblast and photographic sensitive film using the same |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522831B2 (en) * | 1973-08-31 | 1977-01-24 | ||
| JPS5226095A (en) * | 1975-08-21 | 1977-02-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Patterning method |
| JPS5917414B2 (en) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン (株) | Photosensitive composition and photosensitive film for screen plates |
-
1979
- 1979-02-02 JP JP1175679A patent/JPS55103554A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55103554A (en) | 1980-08-07 |
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