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JPH0242738B2 - - Google Patents
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JPH0242738B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0242738B2
JPH0242738B2 JP57130876A JP13087682A JPH0242738B2 JP H0242738 B2 JPH0242738 B2 JP H0242738B2 JP 57130876 A JP57130876 A JP 57130876A JP 13087682 A JP13087682 A JP 13087682A JP H0242738 B2 JPH0242738 B2 JP H0242738B2
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JP
Japan
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storage container
coupler
couplers
container
semiconductor manufacturing
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JP57130876A
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JPS5921021A (ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092Recovery of material; Waste processing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体の製造に用いるレジストの現
像液およびリンス液等の薬液を充填収納する容器
に関するものである。
(従来の技術) 集積回路、トランジスターなどの微細加工技術
の進歩はめざましいものであり、その製造に使用
されるレジストの現像液およびリンス液の品質管
理に対する要求は、とみに厳しくなつてきてい
る。特に製品歩どまりに直接影響する微細粒子異
物の混入は禁忌であり、そのため該液は通常精密
過され、清浄な環境(クリーンルーム内)下で
清浄な容器に充填されて製品となる。一般には、
その容器としてガラス製の約1〜8のびんが
用いられている。ところが現像液のガラスびんへ
の充填はクリーンルーム内ではあるが、開放下で
行われるため、外気におけるほどではないにして
もゴミ、異物等の混入の可能性は避けがたい。し
かも、流通段階において、ガラスびんであるが故
に破損事故を生じる欠点があり、また容器そのも
のは使い捨てであるため、その処置が問題であ
る。さらに使用者側において、ガラスびん容器を
開封し、集積回路等の製造ラインの装置の容器へ
移し変える手間を必要とし、その際、せつかく精
密過して清浄にした内容物にゴミや異物を混入
させたり、甚だしい場合は、こぼしたり、あふれ
させたりするという問題も生じる。
(発明が解決しようとする問題点) したがつて、本発明の目的は、使用の度に内容
物を移し変えるための開封をすることなく半導体
製造装置に接続して簡便に使用できかつ、上記欠
点の解消されたレジスト現像液又はリンス液等の
半導体製造用薬液の収納容器を提供することにあ
る。
(問題点を解決するための手段) すなわち本発明は、半導体製造用薬液の収納容
器であつて、半導体製造装置の薬液受入用カプラ
ーを密着接合するための薬液輸送用カプラー、及
び薬液輸送用気体送入用カプラーを密着接合する
ための気体流通用カプラーが、それぞれ任意の間
隔をおいて収納容器の上部に設置されたフランジ
を貫通して、容器を密閉状態に保持しつつ収納容
器内部に挿入されており、かつ、薬液輸送用カプ
ラーはその先端が収納容器底面近くに到達するよ
うな長さを有し、一方気体流通用カプラーはその
先端が収納容器内のフランジ近傍に位置するよう
な長さを有し、そして、収納容器が防食性材料で
構成されていることを特徴とする半導体製造用薬
液収納容器に関するものである。なお、以下、薬
液というときは、特に断らない限り、半導体の製
造に用いられるレジスト現像液又はリンス液等の
半導体製造用薬液を意味する。
容器本体の材質は、サビによる異物を発生させ
えないものであることが必要であり、一般には
SUS 304、SUS 302、アルミニウム、真ちゆう
等の金属材料又はポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチツ
クが使用されるが、SUS 304、ポリエチレン又
はポリテトラフルオロエチレン製が特に好まし
い。また容器の寸法は任意に選択できるが従来の
ガラスびん(容量1〜8)より大容量とするこ
とができる。一般には、半導体製造装置へ接続す
る関係上容量10〜30、高さ45cm以下であるのが
好ましい。
薬液輸送用カプラー及び気体流通用カプラー
は、共に簡便な接続性能と充填物を封ずる機能と
を併せもつものでなければならない。この2つの
機能を有するものであれば、形状は雄型(プラ
グ)であつても雌型(ソケツト)であつてもよい
が、一般には雄型の方がゴミがたまりにくく、か
つ除きやすく、またキヤツプしやすいので好まし
い。この要求に合うものとしては、特に両路開閉
型の雄型カプラーが最も好ましい。また、材質は
容器本体同等防食性のものから選択される。好ま
しいカプラーとしてSUS 304の日東工器(株)製SP
型カプラーのプラグ型が挙げられる。なお、薬液
輸送用カプラー及び気体流通用カプラーはそれぞ
れ任意の場所に、任意の個数設置することができ
る。また、カプラーはゴミや異物による汚染防止
のために不使用時はキヤツプで保護することが好
ましい。
(実施例) 以下、図面に基づいて本発明の実施態様を説明
する。
第1図は本発明の容器10の全体俯瞰図を、第
2図は第1図のX−X′断面図を示す。薬液輸送
用カプラー、すなわち内容物である薬液を輸送す
るための雄カプラー11と気体流通用カプラー、
すなわち輸送動力となる気体を送入する雄カプラ
ー12とは、容器本体13にネジ部15で固定さ
れたフランジ14に溶接固定されている。
内容物である薬液は、カプラー11又は12を
へて容器本体13に充填され、しかる後清浄気体
(好ましくは不燃性気体、例えば、0.22ミクロン
のフイルターで過された清浄窒素)で封じられ
る。使用者はこのように充填された容器10を第
3図に示すように、カート5にのせて半導体製造
装置1まで運搬し、カプラー11を前記装置1の
薬液受入用雌カプラー16に接続し、同様にカプ
ラー12を前記装置1の薬液輸送用気体(例、窒
素)送入用雌カプラー17に接続し、窒素を容器
10内に流入させて薬液をカプラー11,16を
介して半導体製造装置1へ送り込むだけでよい。
要するに、容器10の雄カプラー11を半導体製
造装置1の雌カプラーに接続するだけで移し変え
の手間も、移し変え時の汚染もなく簡単に薬液を
移送し使用に供することができるのである。
第4〜6図はカプラーを汚染防止のためにキヤ
ツプした実施態様である。すなわち、第4図はカ
プラー11,12そのものを、第5図はカプラー
11,12及びフランジ14を、第6図は容器上
部全体をそれぞれキヤツプした例であるが、第
5,6図のキヤツプ方法が好ましい。キヤツプの
材質は特に制限されず、一般には容器本体と同種
の金属製でもよいし、ゴム又はプラスチツク製で
もよい。
(発明の効果) このように、本発明における半導体製造用レジ
スト現像液又はリンス液等の薬液収納容器は、簡
便にでき、ゴミや異物を混入させることなく清浄
にかつ安全に使用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の薬液収納容器10の全体図で
あり、第2図は第1図のX−X′断面図である。
第3図は本発明の薬液収納容器10を半導体製造
装置1に接続したときの実施態様を示す。第4〜
6図はカプラーをキヤツプした実施態様であり、
第4図はカプラー11,12そのものを、第5図
はカプラー11,12及びフランジ14を、第6
図は容器上部全体をそれぞれキヤツプ30で被覆
した状態を示す。 1……半導体製造装置、5……容器運搬用カー
ト、10……薬液収納容器、11……薬液輸送用
カプラー、12……気体流通用カプラー、13…
…薬液収納容器本体、14……フランジ、15…
…ネジ、16……半導体製造装置の薬液受入用カ
プラー、17……薬液輸送用気体送入用カプラ
ー、20……半導体製造用薬液、30……キヤツ
プ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体製造用薬液の収納容器であつて、半導
    体製造装置の薬液受入用カプラーを密着接合する
    ための薬液輸送用カプラー、及び薬液輸送用気体
    送入用カプラーを密着接合するための気体流通用
    カプラーが、それぞれ任意の間隔をおいて収納容
    器の上部に設置されたフランジを貫通して、容器
    を密閉状態に保持しつつ収納容器内部に挿入され
    ており、かつ、薬液輸送用カプラーはその先端が
    収納容器底面近くに到達するような長さを有し、
    一方気体流通用カプラーはその先端が収納容器内
    のフランジ近傍に位置するような長さを有し、そ
    して、収納容器が防食性材料で構成されているこ
    とを特徴とする半導体製造用薬液収納容器。
JP57130876A 1982-07-27 1982-07-27 半導体製造用薬液収納容器 Granted JPS5921021A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57130876A JPS5921021A (ja) 1982-07-27 1982-07-27 半導体製造用薬液収納容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57130876A JPS5921021A (ja) 1982-07-27 1982-07-27 半導体製造用薬液収納容器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5921021A JPS5921021A (ja) 1984-02-02
JPH0242738B2 true JPH0242738B2 (ja) 1990-09-25

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ID=15044755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57130876A Granted JPS5921021A (ja) 1982-07-27 1982-07-27 半導体製造用薬液収納容器

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