JPH0257002B2 - - Google Patents
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- JPH0257002B2 JPH0257002B2 JP18413883A JP18413883A JPH0257002B2 JP H0257002 B2 JPH0257002 B2 JP H0257002B2 JP 18413883 A JP18413883 A JP 18413883A JP 18413883 A JP18413883 A JP 18413883A JP H0257002 B2 JPH0257002 B2 JP H0257002B2
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- Japan
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- mold
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Description
本発明は光学部品の製造方法に関する。
従来光学部品であるレンズ、ミラーおよびフイ
ルターなどの多くはガラスで形成されていた。ガ
ラスには多くの種類があり、要求に応じた光学特
性を有する光学部品が形成できる他、平面や球面
の光学表面が研磨により高精度で形成できるから
である。しかし、研磨は加工時間が長くかかり、
また加工コストも高くなる欠点がある。また、特
に非球面光学素子を形成する場合、加工コストは
一層高くなる欠点がある。 これらの欠点を解消する光学部品の他の製造法
として、透明な樹脂を型に注入して成形加工し
て、いわゆるプラスチツクレンズを製造する方法
がある。この方法では研磨加工が不要で、適当な
成形条件を選べば低コストで大量生産が可能であ
る。しかし、光学部品としての高い光学精度を備
えたものをつくるのは容易でなく、また、物理的
あるいは化学的性質においてもガラス材料に比べ
て劣つており、特に、熱膨張率や熱による屈折率
変化が大きく、加工に際して内部に歪やひけが生
じやすい欠点がある。 このようなガラス材料と樹脂材料のもつ双方の
欠点を補う方法として、両者の材料を併用した光
学部品の製造方法がある。この方法は、形成しよ
うとする光学部品の光学表面を有するマスターと
ガラス基板とを近接して配置し、その間隙に樹脂
を挾んで又は注入して固化することによつて、ガ
ラス基板とマスターとの間に光学表面を有する樹
脂層を形成し、次いでマスターとガラス基板とを
分離することで、ガラス基板と樹脂層とからなる
光学部品を形成するものである。この方法では、
多くはガラス基板をある程度高精度に研磨するこ
とが必要であるが、樹脂層によつて光学部品とし
ての光学精度を得ることができるため、ガラス自
体の研磨工程を大幅に省略でき、また、樹脂層は
薄膜になつているので、熱膨張や熱による屈折率
の変化による影響が小さく、歪やひけの発生も最
少限に押えることができる。非球面レンズなどの
非球面を備えた光学部品もマスターの形状を非球
面にすることによつて球面の場合と全く同様に容
易に形成できる。このマスターを用いる方法の最
も大きい問題点は、マスターとガラス基板との間
に樹脂層を形成後、マスターとガラス基板とを分
離する際、樹脂層とマスターが樹脂層の光学表面
を損傷することなく分離することが容易でない点
にある。そこで従来この問題に対処するために、
樹脂材料中にマスターとの接着性を阻止して離型
を容易にする物質を混入する方法があり、シリコ
ーンオイル、各種ワツクス類などが用いられてい
る。これらの物質は多くの場合樹脂材料との相溶
性がないか、又は低いものであつて、成形した樹
脂層の表面に滲み出して離型の効果を果すもので
ある。したがつて樹脂層の機械的特性、透明性、
表面物性等を劣化させることが多い。また成形し
た樹脂層の表面に他の光学部品の接着を行う等の
二次加工に際しては、接着剤の接着性を低下させ
るので好ましいことではない。 一方離型剤を樹脂材料中に混入しないで、マス
ターの表面に塗布して離型層とし、樹脂材料とマ
スターとの接着を防ぐ方法も一般的に利用されて
いる方法である。 このような離型層としてはシリコーンオイル、
シリコーングリース、シリコーンワニス、カルナ
バワツクス、ミネラルワツクス、フツ素樹脂の粉
末またはコーテイング被膜、水溶性樹脂、グリセ
リン、各種の油脂類、ステアリン酸塩等が用いら
れている。しかしながら、これらの離型剤では、
十分な離型効果が期待できなかつたものである。
特に従来の離型剤ではレンズ、ミラー等の光学部
品の精密成形では、成形材料がアクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂等の液状モノマー又はオリゴマーが多
く利用されている。このような液状材料の注入の
際、なかんずくエポキシ樹脂のようにとくに接着
性のすぐれた材料の場合はとくにマスターとの接
着が起りやすい。また、光学部品の場合は、樹脂
層表面の成形精度が問題とされるため、離型層は
できるだけ薄いことが望まれるが、従来の離型剤
では薄くできないか、薄くすると部分的に離型層
が剥離してしまう問題があつた。 このような難点を避ける一つの方法として、従
来、金・銀・銅などの金属蒸着膜を離型層に利用
する方法が知られている。それにはまずマスター
表面にこれらの金属をスパツタリング、真空蒸着
などの手段できわめて薄い膜として形成する。こ
の上に所望の樹脂材料をたとえばキヤステイング
などで注型し離型を行う。このとき離型用の金属
蒸着層は成形品の表面に付着して型から外されて
くる。したがつて次の工程として成形品表面に付
着した離型層の金属膜を取除く必要があり、酸・
アルカリ等で化学的に溶解したり、粘着テープ等
を用いて引きはがす機械的手段が利用されてい
る。 そのため成形品の表面が薬品の影響をうけて肌
荒れを起したりキズが入るなどの弊害が生じると
ともに離型層除去の工程が必要となるなどの欠点
が生じてくる。 而して本発明は離型性が良好で、離型作用の持
続性に優れ、且つ薄く形成した離型層を用いるこ
とによつて、光学精度の高い表面を有する光学部
品の製造方法を提供することを主たる目的とす
る。 本発明は、表面に離型層を有するマスターとガ
ラス基板との間に形成される間隙に樹脂を介在さ
せることによりガラス基板表面に樹脂層を形成し
た後、マスターを分離してガラス基板と樹脂層か
らなる光学部品を製造する方法において、マスタ
ー表面にフツ素置換炭化水素基とアルコキシシラ
ン基若しくはハロゲン化シラン基とを有する化合
物を塗布後、少くなくともマスター表面に化学結
合した当該化合物をマスター表面全体に均一に残
して他を除去することにより形成した離型層であ
ることを特徴とするものである。 本発明による光学部品の製造方法の代表的な態
様は第１図〜第５図に示される。 第１図は、ガラス、金属などの基板１の上にマ
スター２が固定されている部材を示す。マスター
２の表面は成形しようとする光学表面精度を有し
ており、ガラス、金属などで形成されている。こ
のマスター２上に第２図に示すように離型層３を
形成する。この離型層はフツ素置換炭化水素基と
アルコキシシラン基若しくはハロゲン化シラン基
とを有する化合物で形成する。 一方、第３図に示すように、ガラス基板４を支
持部材５に固定載置し、ガラス基板４の上には樹
脂６を少量滴下しておく。次に第４図に示すよう
に、ガラス基板４の上にマスター２を重ねること
によつてマスター２とガラス基板４との間隙に樹
脂が充満し固化して樹脂層８が形成できる。マス
ターとガラス基板との所望の間隙はスペーサー７
によつて確保される。次に、マスター２をガラス
基板から分離することによつて、第５図に示すよ
うな光学表面を有する樹脂層８とガラス基板４か
ら成る光学部品が形成できるものである。マスタ
ーの表面が平面の場合、球面の場合および非球面
の場合にそれぞれ、フイルター、球面レンズおよ
び非球面レンズあるいは、ミラー、球面ミラー、
非球面ミラーなどの光学部品が成形できるもので
ある。なお、ミラーの場合には、樹脂層を形成
後、その上に、Al、Agなどの金属を蒸着して形
成できるものである。 本発明に用いる離型剤の代表的なものは、フツ
素置換炭化水素基と、次の一般式で示されるアル
コキシシラン基(1)、又はハロゲン化シラン基(2)を
有するものである。 −Si（OR〓）nR〓（３−ｎ） −(1) −SiXmR〓（３−ｍ） −(2) ここで、R〓およびR〓はアルキル基（例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
ど）、ｎおよびｍは１、２または３、R〓はアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基など）又はアルコキシ基（例えば、
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）であ
る。Ｘはハロゲン原子（例えば、Cl、Br、Ｉ）
である。 また、R〓、R〓、R〓又はＸがSiに２以上結合し
ている場合には、上記の基又は原子の範囲内で例
えば、２つのR〓がアルキル基とアルコキシ基で
あるように異つていてもよい。フツ素置換炭化水
素基としては、特に分子構造の一端にCF3（CF2）
ａ−基や
ルターなどの多くはガラスで形成されていた。ガ
ラスには多くの種類があり、要求に応じた光学特
性を有する光学部品が形成できる他、平面や球面
の光学表面が研磨により高精度で形成できるから
である。しかし、研磨は加工時間が長くかかり、
また加工コストも高くなる欠点がある。また、特
に非球面光学素子を形成する場合、加工コストは
一層高くなる欠点がある。 これらの欠点を解消する光学部品の他の製造法
として、透明な樹脂を型に注入して成形加工し
て、いわゆるプラスチツクレンズを製造する方法
がある。この方法では研磨加工が不要で、適当な
成形条件を選べば低コストで大量生産が可能であ
る。しかし、光学部品としての高い光学精度を備
えたものをつくるのは容易でなく、また、物理的
あるいは化学的性質においてもガラス材料に比べ
て劣つており、特に、熱膨張率や熱による屈折率
変化が大きく、加工に際して内部に歪やひけが生
じやすい欠点がある。 このようなガラス材料と樹脂材料のもつ双方の
欠点を補う方法として、両者の材料を併用した光
学部品の製造方法がある。この方法は、形成しよ
うとする光学部品の光学表面を有するマスターと
ガラス基板とを近接して配置し、その間隙に樹脂
を挾んで又は注入して固化することによつて、ガ
ラス基板とマスターとの間に光学表面を有する樹
脂層を形成し、次いでマスターとガラス基板とを
分離することで、ガラス基板と樹脂層とからなる
光学部品を形成するものである。この方法では、
多くはガラス基板をある程度高精度に研磨するこ
とが必要であるが、樹脂層によつて光学部品とし
ての光学精度を得ることができるため、ガラス自
体の研磨工程を大幅に省略でき、また、樹脂層は
薄膜になつているので、熱膨張や熱による屈折率
の変化による影響が小さく、歪やひけの発生も最
少限に押えることができる。非球面レンズなどの
非球面を備えた光学部品もマスターの形状を非球
面にすることによつて球面の場合と全く同様に容
易に形成できる。このマスターを用いる方法の最
も大きい問題点は、マスターとガラス基板との間
に樹脂層を形成後、マスターとガラス基板とを分
離する際、樹脂層とマスターが樹脂層の光学表面
を損傷することなく分離することが容易でない点
にある。そこで従来この問題に対処するために、
樹脂材料中にマスターとの接着性を阻止して離型
を容易にする物質を混入する方法があり、シリコ
ーンオイル、各種ワツクス類などが用いられてい
る。これらの物質は多くの場合樹脂材料との相溶
性がないか、又は低いものであつて、成形した樹
脂層の表面に滲み出して離型の効果を果すもので
ある。したがつて樹脂層の機械的特性、透明性、
表面物性等を劣化させることが多い。また成形し
た樹脂層の表面に他の光学部品の接着を行う等の
二次加工に際しては、接着剤の接着性を低下させ
るので好ましいことではない。 一方離型剤を樹脂材料中に混入しないで、マス
ターの表面に塗布して離型層とし、樹脂材料とマ
スターとの接着を防ぐ方法も一般的に利用されて
いる方法である。 このような離型層としてはシリコーンオイル、
シリコーングリース、シリコーンワニス、カルナ
バワツクス、ミネラルワツクス、フツ素樹脂の粉
末またはコーテイング被膜、水溶性樹脂、グリセ
リン、各種の油脂類、ステアリン酸塩等が用いら
れている。しかしながら、これらの離型剤では、
十分な離型効果が期待できなかつたものである。
特に従来の離型剤ではレンズ、ミラー等の光学部
品の精密成形では、成形材料がアクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂等の液状モノマー又はオリゴマーが多
く利用されている。このような液状材料の注入の
際、なかんずくエポキシ樹脂のようにとくに接着
性のすぐれた材料の場合はとくにマスターとの接
着が起りやすい。また、光学部品の場合は、樹脂
層表面の成形精度が問題とされるため、離型層は
できるだけ薄いことが望まれるが、従来の離型剤
では薄くできないか、薄くすると部分的に離型層
が剥離してしまう問題があつた。 このような難点を避ける一つの方法として、従
来、金・銀・銅などの金属蒸着膜を離型層に利用
する方法が知られている。それにはまずマスター
表面にこれらの金属をスパツタリング、真空蒸着
などの手段できわめて薄い膜として形成する。こ
の上に所望の樹脂材料をたとえばキヤステイング
などで注型し離型を行う。このとき離型用の金属
蒸着層は成形品の表面に付着して型から外されて
くる。したがつて次の工程として成形品表面に付
着した離型層の金属膜を取除く必要があり、酸・
アルカリ等で化学的に溶解したり、粘着テープ等
を用いて引きはがす機械的手段が利用されてい
る。 そのため成形品の表面が薬品の影響をうけて肌
荒れを起したりキズが入るなどの弊害が生じると
ともに離型層除去の工程が必要となるなどの欠点
が生じてくる。 而して本発明は離型性が良好で、離型作用の持
続性に優れ、且つ薄く形成した離型層を用いるこ
とによつて、光学精度の高い表面を有する光学部
品の製造方法を提供することを主たる目的とす
る。 本発明は、表面に離型層を有するマスターとガ
ラス基板との間に形成される間隙に樹脂を介在さ
せることによりガラス基板表面に樹脂層を形成し
た後、マスターを分離してガラス基板と樹脂層か
らなる光学部品を製造する方法において、マスタ
ー表面にフツ素置換炭化水素基とアルコキシシラ
ン基若しくはハロゲン化シラン基とを有する化合
物を塗布後、少くなくともマスター表面に化学結
合した当該化合物をマスター表面全体に均一に残
して他を除去することにより形成した離型層であ
ることを特徴とするものである。 本発明による光学部品の製造方法の代表的な態
様は第１図〜第５図に示される。 第１図は、ガラス、金属などの基板１の上にマ
スター２が固定されている部材を示す。マスター
２の表面は成形しようとする光学表面精度を有し
ており、ガラス、金属などで形成されている。こ
のマスター２上に第２図に示すように離型層３を
形成する。この離型層はフツ素置換炭化水素基と
アルコキシシラン基若しくはハロゲン化シラン基
とを有する化合物で形成する。 一方、第３図に示すように、ガラス基板４を支
持部材５に固定載置し、ガラス基板４の上には樹
脂６を少量滴下しておく。次に第４図に示すよう
に、ガラス基板４の上にマスター２を重ねること
によつてマスター２とガラス基板４との間隙に樹
脂が充満し固化して樹脂層８が形成できる。マス
ターとガラス基板との所望の間隙はスペーサー７
によつて確保される。次に、マスター２をガラス
基板から分離することによつて、第５図に示すよ
うな光学表面を有する樹脂層８とガラス基板４か
ら成る光学部品が形成できるものである。マスタ
ーの表面が平面の場合、球面の場合および非球面
の場合にそれぞれ、フイルター、球面レンズおよ
び非球面レンズあるいは、ミラー、球面ミラー、
非球面ミラーなどの光学部品が成形できるもので
ある。なお、ミラーの場合には、樹脂層を形成
後、その上に、Al、Agなどの金属を蒸着して形
成できるものである。 本発明に用いる離型剤の代表的なものは、フツ
素置換炭化水素基と、次の一般式で示されるアル
コキシシラン基(1)、又はハロゲン化シラン基(2)を
有するものである。 −Si（OR〓）nR〓（３−ｎ） −(1) −SiXmR〓（３−ｍ） −(2) ここで、R〓およびR〓はアルキル基（例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
ど）、ｎおよびｍは１、２または３、R〓はアルキ
ル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基など）又はアルコキシ基（例えば、
メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）であ
る。Ｘはハロゲン原子（例えば、Cl、Br、Ｉ）
である。 また、R〓、R〓、R〓又はＸがSiに２以上結合し
ている場合には、上記の基又は原子の範囲内で例
えば、２つのR〓がアルキル基とアルコキシ基で
あるように異つていてもよい。フツ素置換炭化水
素基としては、特に分子構造の一端にCF3（CF2）
ａ−基や
【式】基などのパーフル
オロ基（ａおよびa′は整数）をもつフツ素置換炭
化水素基が好ましく、また、パーフルオロ基の長
さが炭素数にして２個以上が好ましく、CF3
（CF2）ａ−のCF3につゞくCF2基の数は５以上が
適切である。 またパーフルオロ基は直鎖である必要はなく、
たとえば
化水素基が好ましく、また、パーフルオロ基の長
さが炭素数にして２個以上が好ましく、CF3
（CF2）ａ−のCF3につゞくCF2基の数は５以上が
適切である。 またパーフルオロ基は直鎖である必要はなく、
たとえば
【式】のように分岐構
造を有していてもよい。この場合にはa′は４以上
が好ましい。このように本発明における離型性
は、このパーフルオロ基によつて発揮されるもの
である。本発明で使用する離型剤の、パーフルオ
ロ基のない方の一端は少くとも１つのアルコキシ
シラン基あるいはハロゲン化シラン基を有してい
る。アルコキシシラン基−SiOR〓、およびハロゲ
ン化シラン基−SiXは水分と反応して−SiOH、
となりさらにこれがガラス、金属等の型材料の表
面に存在する−OH基との間で脱水縮合又は水素
結合等を起して結合する。 すなわち本発明に使用する離型剤はその一端で
成形用のマスターの表面に化学結合し、他端にパ
ーフルオロ基を配向してマスター表面を被うこと
となり、薄くて耐久性に優れ均一な離型層を形成
することができる。 パーフルオロ基とアルコキシシラン基又はハロ
ゲン化シラン基の珪素原子とは直接結合されてい
てもよいし構造単位として、−（CH2）ｌ−、−Ｏ
−（CH2）ｌ−Ｏ−、−NH−（CH2）ｌ−NH−、
−（CH2）−Ｏ−（CH2）ｌ−、−（CH2）ｌ−NH
−（CH2）ｌ−、−CONH−（CH2）ｌ−、−COO
（CH2）ｌ−等の構造を介して結合されていても
よい。これらの構造は可能なかぎり短いものでｌ
は３又はそれ以下がよい。具体的な化合物例とし
ては、下記のものを挙げることができる。 (1) CF3−（CF2）7−（CH2）3−NH−（CH2）3−Si
（OCH3）3 (2) CF3−（CF2）7−Ｏ−（CH2）3−Ｏ−Si
（OCH3）3 (3) CF3−（CF2）7−NH−（CH2）3−NH−Si
（OCH3）3 (4) CF3−（CF2）7−（CH2）3−Ｏ−（CH2）3−Si
（OCH3）3 (5) CF3−（CF2）6−CONH−（CH2）3−Si
（OC2H5）3 (6) CF3−（CF2）7−（CH2）3−Si（OCH3）3 (7) CF3−（CF2）6−COO−（CH2）3−Si（OCH3）3 (8) CF3−（CF2）7−（CH2）3−NH−（CH2）3−
SiCl3 (9) CF3−（CF2）7−Ｏ−（CH2）3−Ｏ−SiCl3 上記のフツ素離型剤は通常は固体であるが、こ
れをマスター表面に適用するには有機溶剤に溶解
した溶液とする必要がある。離型剤の分子構造に
よつて異つてくるが、多くはその溶媒としてフツ
化炭化水素系の溶剤又はそれに若干の有機溶媒を
混合したものが適している。たとえば、CCl2F−
CCl2F、CCl2F−CClF2あるいはこれらとメタノ
ール、エタノール、アセトン、トリクロルエチレ
ンなどの相溶性のある有機溶媒を混合したものを
用いることができる。溶媒の濃度はとくに限定は
ないが必要とする離型膜はとくに薄いことが特徴
であるので、濃度は低いもので充分であり１〜３
重量％でよい。 この溶液をマスターの表面に塗布するには浸漬
塗布、スプレー塗布、ハケ塗り等の通常の塗布方
法を用いることができる。とくに光学部品ではホ
コリ・ゴミ等の付着は好ましくないので、塗布す
る溶液、塗布雰囲気、型そのもの等はホコリを取
除いておく必要がある。塗布後は通常は自然乾燥
で溶媒を蒸発させて乾燥塗膜とするが、このとき
塗布された膜厚はとくに規定するべきものではな
いが、最終的には後述の薄膜化処理後、1μ以下
にするのが好適である。離型層はマスター表面と
強固に密着するように、離型剤をマスター表面に
化合結合するように処理される。このための処理
の例としては、アミン又は酸による処理が挙げら
れる。例えば、離型剤の塗布が終つたマスター
は、アミンを含有する処理液中で加熱処理され
る。こゝで用いるアミンは１級アミン、２級アミ
ン、３級アミンの何れでもよいが、とくに１級ア
ミンと２級アミンが有効である。具体的にはたと
えばエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミ
ン、アミルアミン、ヘキシルアミン等の１級アミ
ンや２級アミンとしてはジエチルアミン等があ
る。これらのアミンはいずれも水溶性のアミン
で、少くとも20重量％まで水に溶解する。 これらのアミンは処理液から離型層中に拡散
し、離型剤のアルコキシシラン又はハロゲン化シ
ランの基と反応して、下地のマスター表面の−
OHとの脱水縮合を促進することがその目的であ
るので、分子構造はなるべく簡単な構造を持ちか
つ分子量も小さく、離型剤層内に拡散しやすいも
のが適している。これらアミンの濃度は15重量％
以下望しくは0.5〜３重量％程度が適している。 この処理液のもう一つの作用は離型剤末端の−
Si−OR〓又はSiXを−SiOHに加水分解すること
にあるので、この処理液は水を有することが要件
である。したがつて処理液としてはアミンの水溶
液を用いる。 この処理液中での処理は60〜95℃の温度で0.5
〜３時間程度の条件下で行われるのがよい。温度
は反応促進の意味では高温である方がよいが、95
℃を越えると水が沸騰を起し、気泡が激しく発生
してマスター表面を攻撃して離型剤層を機械的に
脱落させることがあるので上記の通り60〜95℃が
適切である。 また、本発明の好ましい具体例では、アミン化
合物の水溶液を予めマスターの表面に塗布し、こ
れを乾燥した後に、前述と同様のパーフルオロ基
とアルコキシシラン基若しくは、ハロゲン化シラ
ン基を少なくとも有する離型剤を塗布することに
よつて離型膜を形成することもできる。アミンは
離型処理に際してあらかじめマスターの表面に塗
布されるが、このときマスター材料として用いら
れるガラス又は金属の表面に存在する−OH基と
の間に水素結合を起すかあるいは単純な吸着を起
すなどしてマスター表面に結合する。次に離型剤
がこの上に塗布され、後述の熱水処理が行われる
ときに、離型剤分子構造の末端の−SiOR〓又は−
SiXを−SiOHに加水分解し、さらに型表面の−
OHと脱水縮合を起す際に、これらのアミンは触
媒作用を発揮する。したがつて水の存在は必須で
あるので、あらかじめ使用するアミンも水溶液と
して使用するのが妥当である。しかしながら次に
使用される離型剤は、水と相溶性がないので、こ
のアミン処理の後にマスターの表面が液体の水あ
るいはアミンで濡れた状態では、離型剤を塗布す
る時にその溶液から離型剤が析出して均一な塗膜
となり得ない。そこでアミン溶液塗布後のマスタ
ーは一応乾燥状態にする必要がある。しかし型表
面から完全にアミンを無くすることは無意味であ
るので、乾燥は風乾かあるいは60〜70℃程度の温
度で短時間に止めるべきである。 次に、このようにアミンをあらかじめ塗布し、
乾燥したマスターの上に前述の離型剤を塗布する
工程が用いられる。離型剤の塗布が終つたマスタ
ーは、次に熱水中で処理を行う。この処理は水を
離型剤層を通してマスター表面に拡散させ、あら
かじめ塗布されているアミンと共に先に記した離
型剤中のアルコキシシラン基又はハロゲン化シラ
ン基を加水分解しかつマスター表面の−OH基と
結合させる化学反応を促進するために必要な処理
である。したがつて反応促進の目的からはより高
い温度が好ましいが、水が沸騰を起すと気泡によ
つて離型層が破壊され、ピンホールの発生等があ
るので注意しなければならない。したがつて好ま
しい処理温度は60〜95℃、時間は0.5〜３時間程
度が良好な結果を得る。 本発明の別の好ましい具体例では、パーフルオ
ロ基とアルコキシシラン基若しくはハロゲン化シ
ラン基を少なくとも有する離型処理剤をマスター
の上に塗布し、次いで酸の水溶液に浸漬すること
によつて離型層を形成することができる。 離型剤の塗布後の型は、特に酸の水溶液中で加
熱処理する。こゝで用いる酸としては、塩酸、硝
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、シ
ユウ酸、トルエンスルフオン酸などの有機酸が利
用できる。これらの酸は処理液から離型剤塗膜中
を拡散しマスター表面との界面に至つて離型剤の
アルコキシシラン基又はハロゲン化シラン基と反
応してこれらを加水分解して−SiOHとすると共
にさらにマスター表面に存在する−OH基との間
で縮合を起させる触媒としての作用をする。なお
このとき−SiOR〓又は−SiXを−SiOHとするに
は水の存在が必要であるので、これらの酸は水溶
液として使用され、その濃度は５重量％又はそれ
以下とし、処理液のPHが3.0又はそれ以下とする
濃度であることが望ましい。この処理液中での処
理条件は60〜90℃で0.5〜50時間程度である。温
度は反応促進の目的からすれば高温の方が好まし
いが、95℃を超えると沸騰が起り、気泡によつて
離型剤が脱落することがあり好ましいことではな
い。 このようにして形成された離型層は薄膜化処理
される。この薄膜化処理は、上記したアミン又は
酸による処理によつてマスター表面に化学結合に
よつて密着している離型剤を少くなくともマスタ
ー表面に均一に残して他の離型剤を除去すること
によつて行う。この除去手段としては、離型層の
摺擦処理、離型層表面の溶剤による溶解除去など
適宜選択すればよいが、特に、フツ化炭化水素系
などの溶媒中に入れ超音波洗浄を行うことで余分
な離型剤を溶解させたり、又は一度樹脂を離型層
の表面で硬化してから分離することでマスター表
面に結合した薄い離型層のみを除去されずに残す
ことが好適である。 なお場合によつてはマスター表面との結合を促
進してさらに強固な離型層とするためにこの後
100〜150℃の温度で１〜２時間の熱処理を行つて
もよい。 樹脂層形成用の樹脂としては、例えばメチルメ
タアクリレートなどのアクリル系モノマー又はオ
リゴマー、スチレン又はスチレンを主体とする共
重合を目的とするコモノマーの混合体又はそのオ
リゴマー、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂等のプレポリマー等の材料を使用することがで
きる。 実施例 １ 直径約50mm厚さ約10mmのBK−７ガラスの円形
の基板に、表面を非球面に研磨仕上げを行つたマ
スターを接着してマスター部材を作る。これをフ
ツ素系離型剤FS−116（ダイキン工業株式会社製、
商品名）をダイフロンＳ−３（ダイキン工業株式
会社、商品名）で約３倍に希釈した溶液中に浸漬
して表面に均一にFS−116を塗布し自然乾燥す
る。 次にこのマスターを約１重量％のｎ−プロピル
アミンの水溶液中に浸漬して90℃で約１時間処理
する。次にダイフロンＳ−３（ダイキン工業株式
会社製、商品名）中につけて超音波洗浄を約３分
間行う。超音波洗浄を行う前はFS−116の塗膜が
青紫色の干渉色を示していたが洗浄によつてFS
−116の塗膜の干渉色は見えなくなり、何も処理
しない時の表面と全く区別がつかなくなつた。こ
のようにして第２図に示すような離型層３を形成
した。次に第３図に示すように黄銅製の支持部材
５の中心部に凹球面をもつたレンズ状のガラス材
SF−４よりなるガラス基板４を置きこの上に置
かれるマスターとガラス基板４の間に最大部分で
約0.3mm、最小部分で約0.1mmの間隙を作ように作
製したスペーサー７を置く。ついで透明なエポキ
シ樹脂エポテツク301−２（エポキシテクノロジー
社製、商品名）を少量ガラス基板の凹部におき、
この上から第４図に示すようにマスターを挿入す
る。これを恒温槽に入れ80℃３時間加熱硬化し徐
冷してから取り出す。次いでマスターを支持部材
５から引出すとマスターの表面に硬化したエポキ
シ樹脂を介してガラス基板が付着して取り出され
てくる。マスターの表面に添つてカミソリの刃を
当て軽く衝撃を加えるとガラス基板は硬化した樹
脂層とともに容易にマスターから離型でき、第５
図に示すようなガラス基板と樹脂層よりなるレン
ズが成形された。このレンズの表面はきわめて精
度の高いマスターと同一の非球面をなしており、
光学部材として品質の高いものであつた。 FS−116の赤外吸収スペクトルを第６図に示
す。このチヤートから明らかなようにFS−116は
CF3−（CF2）ｎ基とSi（OCH3）3基とを有する化合
物であることがわかる。図中１１はＣ−Ｆの振動
スペクトル、１２はSiOCH3、１３はSiOの振動
スペクトルを示している。 実施例 ２ ｎ−C8F17CH2CH2Si（OCH3）3の化学構造を有
する液晶配向用特殊シランLP−8T（信越化学工
業株式会社製、商品名）をダイフロンＳ−３で約
２重量％の濃度の溶液とし、これを実施例１にお
けるFS−116の代りに用いて実施例１と全く同じ
実験を行つたところ、実施例１におけると同様に
マスターと成形レンズを容易に離型することがで
き、精度の高い樹脂の非球面を有するレンズが成
形できた。さらに離型処理を行わずに、上記の成
型をくり返し行つたところ４回まで離型が可能で
あつた。 実施例 ３ 全型用金属材料YSSマルエージング鋼YAG（日
立金属株式会社製、商品名）を用いて第１図に示
すマスター部材を一体のものとして研削仕上げで
作成した。このマスター表面の部分は非球面の研
磨仕上げとした。このマスターを前出のLP−8T
の約２重量％のダイフロンＳ−３溶液に浸漬塗布
し、次いでこれをｎ−アミルアミン水溶液中で90
℃１時間の熱処理を行つた。次いでこれをダイフ
ロンＳ−３中で約５分間超音波洗浄を行つて離型
層を形成したところマスターの表面はきれいに仕
上り何もついていないような外観を呈した。これ
を用いて実施例１と同様にレンズの成形を行い、
カミソリの刃を用いて離型を行つたところきわめ
て容易に離型でき、精度の高い非球面レンズを作
ることができた。この型材を用いて、再度離型処
理を行うことなしに成形をつゞけたところ４回ま
で離型が可能で光学部材として充分な精度を持つ
たレンズが成形できた。 実施例 ４ FS−116（ダイキン工業株式会社製、商品名）
を用いて実施例１と同様に浸漬塗布により離型層
を形成したガラスのマスターを約３％HCl水中に
つけて90℃約１時間の熱処理を行つた。これをダ
イフロンＳ−３中で超音波洗浄を行うとFS−116
の塗膜の大部分が溶解除去され外観上無処理の表
面と全く同様に仕上げられた。このマスターを用
いて実施例１と同様に成形実験を行つたところ、
非球面樹脂層を有するレンズがきわめて容易に離
型でき、その表面の精度はきわめて良いものであ
つた。 また離型処理を追加せずに成形をつゞけたとこ
ろ４回まで充分に離型が可能であつた。 実施例 ５ フツ素系有機シロキサン化合物
C7F15CONHCH2CH2CH2Si（OCH3）3の約２重量
％ダイフロンＳ−３溶液を用いて、実施例１で用
いたマスターの塗布処理を行い離型層を形成し
た。次にｎ−ブチルアミン１重量％の水溶液中に
浸漬して90℃１時間加熱処理した。その後これを
ダイフロンＳ−３中に入れて約３分間超音波洗浄
を行つてマスター表面に付着している上記化合物
を洗い落したところ何も付着していないときと全
く同様の外観を呈した。 このマスターを用いて実施例１と同様のレンズ
の成型を行つたところきわめて容易にレンズが離
型できた。この離型効果は４回の成型まで有効で
あつた。 実施例 ６ フツ素系有機シロキサン化合物
C7F15COOCH2CH2CH2Si（OCH3）3の約２重量％
ダイフロンＳ−３溶液を用いて実施例１で用いた
マスターの塗布処理により離型層を形成した。次
に、これをｎ−ブチルアミン１重量％の水溶液中
に浸漬して90℃１時間の加熱処理を行つた。その
後これをダイフロンＳ−３中に入れて約５分間超
音波洗浄を行つてマスター表面に付着している上
記化合物を洗い落したところ何も付着していない
ときと全く同様の外観を呈した。このマスターを
用いて実施例１と同様のレンズの成形を行つたと
ころ、レンズの離型はきわめて容易にできた。ま
た離型処理を追加することなく成形をつゞけたと
ころ４回まで可能であつた。 比較例 １ 実施例１で用いたマスターの表面にシリコーン
系ペースト状離型剤KS−61（信越化学工業株式会
社製、商品名）を不織布を用いて塗布した。この
ときマスターを約60℃に加熱し、離型剤を軟くし
てできるだけマスター表面を平滑になるように拭
き上げた。このマスターを用いて実施例１に示し
たプロセスでレンズの成形を行つた。樹脂硬化後
カミソリの刃を用いて離型しようとしたが部分的
にはく離が起つたがレンズをはずすことはできな
かつた。 比較例 ２ 実施例１で用いたマスター表面にシリコーンワ
ニス離型剤KS−700（信越化学工業株式会社製、
商品名）を、ｎ−ヘキサンを用いて約10倍に希釈
したものを塗布した。これを不織布を用いて光学
的曲面の精度を害さぬようきれいに拭き上げてか
ら、270℃で１時間焼付け後徐冷した。次いでこ
のマスターを用いて実施例１と同様のレンズの成
型実験を行つたところ、レンズは離型性不十分
で、カミソリ刃の打撃部のガラス基板にヒビが入
つてしまつた。 比較例 ３ 実施例１で用いたマスターを約80℃に加熱して
おき、このマスターの表面にカルナウバワツクス
（融点約65℃）をこすりつけて溶解しながら塗布
する。次に不織布を用いて余分に付着してとけて
いるカルナウバワツクスを拭きとり表面を平滑な
処理面に拭き上げてから常温にもどす。このマス
ターを用いて実施例１と同様にしてレンズの成形
を行つたが離型が不充分で一部レンズが割れてし
まつた。離型できた部分のレンズの樹脂表面には
離型剤の拭きムラにもとずく微小な凹凸が、その
表面の反射像でみられた。
が好ましい。このように本発明における離型性
は、このパーフルオロ基によつて発揮されるもの
である。本発明で使用する離型剤の、パーフルオ
ロ基のない方の一端は少くとも１つのアルコキシ
シラン基あるいはハロゲン化シラン基を有してい
る。アルコキシシラン基−SiOR〓、およびハロゲ
ン化シラン基−SiXは水分と反応して−SiOH、
となりさらにこれがガラス、金属等の型材料の表
面に存在する−OH基との間で脱水縮合又は水素
結合等を起して結合する。 すなわち本発明に使用する離型剤はその一端で
成形用のマスターの表面に化学結合し、他端にパ
ーフルオロ基を配向してマスター表面を被うこと
となり、薄くて耐久性に優れ均一な離型層を形成
することができる。 パーフルオロ基とアルコキシシラン基又はハロ
ゲン化シラン基の珪素原子とは直接結合されてい
てもよいし構造単位として、−（CH2）ｌ−、−Ｏ
−（CH2）ｌ−Ｏ−、−NH−（CH2）ｌ−NH−、
−（CH2）−Ｏ−（CH2）ｌ−、−（CH2）ｌ−NH
−（CH2）ｌ−、−CONH−（CH2）ｌ−、−COO
（CH2）ｌ−等の構造を介して結合されていても
よい。これらの構造は可能なかぎり短いものでｌ
は３又はそれ以下がよい。具体的な化合物例とし
ては、下記のものを挙げることができる。 (1) CF3−（CF2）7−（CH2）3−NH−（CH2）3−Si
（OCH3）3 (2) CF3−（CF2）7−Ｏ−（CH2）3−Ｏ−Si
（OCH3）3 (3) CF3−（CF2）7−NH−（CH2）3−NH−Si
（OCH3）3 (4) CF3−（CF2）7−（CH2）3−Ｏ−（CH2）3−Si
（OCH3）3 (5) CF3−（CF2）6−CONH−（CH2）3−Si
（OC2H5）3 (6) CF3−（CF2）7−（CH2）3−Si（OCH3）3 (7) CF3−（CF2）6−COO−（CH2）3−Si（OCH3）3 (8) CF3−（CF2）7−（CH2）3−NH−（CH2）3−
SiCl3 (9) CF3−（CF2）7−Ｏ−（CH2）3−Ｏ−SiCl3 上記のフツ素離型剤は通常は固体であるが、こ
れをマスター表面に適用するには有機溶剤に溶解
した溶液とする必要がある。離型剤の分子構造に
よつて異つてくるが、多くはその溶媒としてフツ
化炭化水素系の溶剤又はそれに若干の有機溶媒を
混合したものが適している。たとえば、CCl2F−
CCl2F、CCl2F−CClF2あるいはこれらとメタノ
ール、エタノール、アセトン、トリクロルエチレ
ンなどの相溶性のある有機溶媒を混合したものを
用いることができる。溶媒の濃度はとくに限定は
ないが必要とする離型膜はとくに薄いことが特徴
であるので、濃度は低いもので充分であり１〜３
重量％でよい。 この溶液をマスターの表面に塗布するには浸漬
塗布、スプレー塗布、ハケ塗り等の通常の塗布方
法を用いることができる。とくに光学部品ではホ
コリ・ゴミ等の付着は好ましくないので、塗布す
る溶液、塗布雰囲気、型そのもの等はホコリを取
除いておく必要がある。塗布後は通常は自然乾燥
で溶媒を蒸発させて乾燥塗膜とするが、このとき
塗布された膜厚はとくに規定するべきものではな
いが、最終的には後述の薄膜化処理後、1μ以下
にするのが好適である。離型層はマスター表面と
強固に密着するように、離型剤をマスター表面に
化合結合するように処理される。このための処理
の例としては、アミン又は酸による処理が挙げら
れる。例えば、離型剤の塗布が終つたマスター
は、アミンを含有する処理液中で加熱処理され
る。こゝで用いるアミンは１級アミン、２級アミ
ン、３級アミンの何れでもよいが、とくに１級ア
ミンと２級アミンが有効である。具体的にはたと
えばエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミ
ン、アミルアミン、ヘキシルアミン等の１級アミ
ンや２級アミンとしてはジエチルアミン等があ
る。これらのアミンはいずれも水溶性のアミン
で、少くとも20重量％まで水に溶解する。 これらのアミンは処理液から離型層中に拡散
し、離型剤のアルコキシシラン又はハロゲン化シ
ランの基と反応して、下地のマスター表面の−
OHとの脱水縮合を促進することがその目的であ
るので、分子構造はなるべく簡単な構造を持ちか
つ分子量も小さく、離型剤層内に拡散しやすいも
のが適している。これらアミンの濃度は15重量％
以下望しくは0.5〜３重量％程度が適している。 この処理液のもう一つの作用は離型剤末端の−
Si−OR〓又はSiXを−SiOHに加水分解すること
にあるので、この処理液は水を有することが要件
である。したがつて処理液としてはアミンの水溶
液を用いる。 この処理液中での処理は60〜95℃の温度で0.5
〜３時間程度の条件下で行われるのがよい。温度
は反応促進の意味では高温である方がよいが、95
℃を越えると水が沸騰を起し、気泡が激しく発生
してマスター表面を攻撃して離型剤層を機械的に
脱落させることがあるので上記の通り60〜95℃が
適切である。 また、本発明の好ましい具体例では、アミン化
合物の水溶液を予めマスターの表面に塗布し、こ
れを乾燥した後に、前述と同様のパーフルオロ基
とアルコキシシラン基若しくは、ハロゲン化シラ
ン基を少なくとも有する離型剤を塗布することに
よつて離型膜を形成することもできる。アミンは
離型処理に際してあらかじめマスターの表面に塗
布されるが、このときマスター材料として用いら
れるガラス又は金属の表面に存在する−OH基と
の間に水素結合を起すかあるいは単純な吸着を起
すなどしてマスター表面に結合する。次に離型剤
がこの上に塗布され、後述の熱水処理が行われる
ときに、離型剤分子構造の末端の−SiOR〓又は−
SiXを−SiOHに加水分解し、さらに型表面の−
OHと脱水縮合を起す際に、これらのアミンは触
媒作用を発揮する。したがつて水の存在は必須で
あるので、あらかじめ使用するアミンも水溶液と
して使用するのが妥当である。しかしながら次に
使用される離型剤は、水と相溶性がないので、こ
のアミン処理の後にマスターの表面が液体の水あ
るいはアミンで濡れた状態では、離型剤を塗布す
る時にその溶液から離型剤が析出して均一な塗膜
となり得ない。そこでアミン溶液塗布後のマスタ
ーは一応乾燥状態にする必要がある。しかし型表
面から完全にアミンを無くすることは無意味であ
るので、乾燥は風乾かあるいは60〜70℃程度の温
度で短時間に止めるべきである。 次に、このようにアミンをあらかじめ塗布し、
乾燥したマスターの上に前述の離型剤を塗布する
工程が用いられる。離型剤の塗布が終つたマスタ
ーは、次に熱水中で処理を行う。この処理は水を
離型剤層を通してマスター表面に拡散させ、あら
かじめ塗布されているアミンと共に先に記した離
型剤中のアルコキシシラン基又はハロゲン化シラ
ン基を加水分解しかつマスター表面の−OH基と
結合させる化学反応を促進するために必要な処理
である。したがつて反応促進の目的からはより高
い温度が好ましいが、水が沸騰を起すと気泡によ
つて離型層が破壊され、ピンホールの発生等があ
るので注意しなければならない。したがつて好ま
しい処理温度は60〜95℃、時間は0.5〜３時間程
度が良好な結果を得る。 本発明の別の好ましい具体例では、パーフルオ
ロ基とアルコキシシラン基若しくはハロゲン化シ
ラン基を少なくとも有する離型処理剤をマスター
の上に塗布し、次いで酸の水溶液に浸漬すること
によつて離型層を形成することができる。 離型剤の塗布後の型は、特に酸の水溶液中で加
熱処理する。こゝで用いる酸としては、塩酸、硝
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、シ
ユウ酸、トルエンスルフオン酸などの有機酸が利
用できる。これらの酸は処理液から離型剤塗膜中
を拡散しマスター表面との界面に至つて離型剤の
アルコキシシラン基又はハロゲン化シラン基と反
応してこれらを加水分解して−SiOHとすると共
にさらにマスター表面に存在する−OH基との間
で縮合を起させる触媒としての作用をする。なお
このとき−SiOR〓又は−SiXを−SiOHとするに
は水の存在が必要であるので、これらの酸は水溶
液として使用され、その濃度は５重量％又はそれ
以下とし、処理液のPHが3.0又はそれ以下とする
濃度であることが望ましい。この処理液中での処
理条件は60〜90℃で0.5〜50時間程度である。温
度は反応促進の目的からすれば高温の方が好まし
いが、95℃を超えると沸騰が起り、気泡によつて
離型剤が脱落することがあり好ましいことではな
い。 このようにして形成された離型層は薄膜化処理
される。この薄膜化処理は、上記したアミン又は
酸による処理によつてマスター表面に化学結合に
よつて密着している離型剤を少くなくともマスタ
ー表面に均一に残して他の離型剤を除去すること
によつて行う。この除去手段としては、離型層の
摺擦処理、離型層表面の溶剤による溶解除去など
適宜選択すればよいが、特に、フツ化炭化水素系
などの溶媒中に入れ超音波洗浄を行うことで余分
な離型剤を溶解させたり、又は一度樹脂を離型層
の表面で硬化してから分離することでマスター表
面に結合した薄い離型層のみを除去されずに残す
ことが好適である。 なお場合によつてはマスター表面との結合を促
進してさらに強固な離型層とするためにこの後
100〜150℃の温度で１〜２時間の熱処理を行つて
もよい。 樹脂層形成用の樹脂としては、例えばメチルメ
タアクリレートなどのアクリル系モノマー又はオ
リゴマー、スチレン又はスチレンを主体とする共
重合を目的とするコモノマーの混合体又はそのオ
リゴマー、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂等のプレポリマー等の材料を使用することがで
きる。 実施例 １ 直径約50mm厚さ約10mmのBK−７ガラスの円形
の基板に、表面を非球面に研磨仕上げを行つたマ
スターを接着してマスター部材を作る。これをフ
ツ素系離型剤FS−116（ダイキン工業株式会社製、
商品名）をダイフロンＳ−３（ダイキン工業株式
会社、商品名）で約３倍に希釈した溶液中に浸漬
して表面に均一にFS−116を塗布し自然乾燥す
る。 次にこのマスターを約１重量％のｎ−プロピル
アミンの水溶液中に浸漬して90℃で約１時間処理
する。次にダイフロンＳ−３（ダイキン工業株式
会社製、商品名）中につけて超音波洗浄を約３分
間行う。超音波洗浄を行う前はFS−116の塗膜が
青紫色の干渉色を示していたが洗浄によつてFS
−116の塗膜の干渉色は見えなくなり、何も処理
しない時の表面と全く区別がつかなくなつた。こ
のようにして第２図に示すような離型層３を形成
した。次に第３図に示すように黄銅製の支持部材
５の中心部に凹球面をもつたレンズ状のガラス材
SF−４よりなるガラス基板４を置きこの上に置
かれるマスターとガラス基板４の間に最大部分で
約0.3mm、最小部分で約0.1mmの間隙を作ように作
製したスペーサー７を置く。ついで透明なエポキ
シ樹脂エポテツク301−２（エポキシテクノロジー
社製、商品名）を少量ガラス基板の凹部におき、
この上から第４図に示すようにマスターを挿入す
る。これを恒温槽に入れ80℃３時間加熱硬化し徐
冷してから取り出す。次いでマスターを支持部材
５から引出すとマスターの表面に硬化したエポキ
シ樹脂を介してガラス基板が付着して取り出され
てくる。マスターの表面に添つてカミソリの刃を
当て軽く衝撃を加えるとガラス基板は硬化した樹
脂層とともに容易にマスターから離型でき、第５
図に示すようなガラス基板と樹脂層よりなるレン
ズが成形された。このレンズの表面はきわめて精
度の高いマスターと同一の非球面をなしており、
光学部材として品質の高いものであつた。 FS−116の赤外吸収スペクトルを第６図に示
す。このチヤートから明らかなようにFS−116は
CF3−（CF2）ｎ基とSi（OCH3）3基とを有する化合
物であることがわかる。図中１１はＣ−Ｆの振動
スペクトル、１２はSiOCH3、１３はSiOの振動
スペクトルを示している。 実施例 ２ ｎ−C8F17CH2CH2Si（OCH3）3の化学構造を有
する液晶配向用特殊シランLP−8T（信越化学工
業株式会社製、商品名）をダイフロンＳ−３で約
２重量％の濃度の溶液とし、これを実施例１にお
けるFS−116の代りに用いて実施例１と全く同じ
実験を行つたところ、実施例１におけると同様に
マスターと成形レンズを容易に離型することがで
き、精度の高い樹脂の非球面を有するレンズが成
形できた。さらに離型処理を行わずに、上記の成
型をくり返し行つたところ４回まで離型が可能で
あつた。 実施例 ３ 全型用金属材料YSSマルエージング鋼YAG（日
立金属株式会社製、商品名）を用いて第１図に示
すマスター部材を一体のものとして研削仕上げで
作成した。このマスター表面の部分は非球面の研
磨仕上げとした。このマスターを前出のLP−8T
の約２重量％のダイフロンＳ−３溶液に浸漬塗布
し、次いでこれをｎ−アミルアミン水溶液中で90
℃１時間の熱処理を行つた。次いでこれをダイフ
ロンＳ−３中で約５分間超音波洗浄を行つて離型
層を形成したところマスターの表面はきれいに仕
上り何もついていないような外観を呈した。これ
を用いて実施例１と同様にレンズの成形を行い、
カミソリの刃を用いて離型を行つたところきわめ
て容易に離型でき、精度の高い非球面レンズを作
ることができた。この型材を用いて、再度離型処
理を行うことなしに成形をつゞけたところ４回ま
で離型が可能で光学部材として充分な精度を持つ
たレンズが成形できた。 実施例 ４ FS−116（ダイキン工業株式会社製、商品名）
を用いて実施例１と同様に浸漬塗布により離型層
を形成したガラスのマスターを約３％HCl水中に
つけて90℃約１時間の熱処理を行つた。これをダ
イフロンＳ−３中で超音波洗浄を行うとFS−116
の塗膜の大部分が溶解除去され外観上無処理の表
面と全く同様に仕上げられた。このマスターを用
いて実施例１と同様に成形実験を行つたところ、
非球面樹脂層を有するレンズがきわめて容易に離
型でき、その表面の精度はきわめて良いものであ
つた。 また離型処理を追加せずに成形をつゞけたとこ
ろ４回まで充分に離型が可能であつた。 実施例 ５ フツ素系有機シロキサン化合物
C7F15CONHCH2CH2CH2Si（OCH3）3の約２重量
％ダイフロンＳ−３溶液を用いて、実施例１で用
いたマスターの塗布処理を行い離型層を形成し
た。次にｎ−ブチルアミン１重量％の水溶液中に
浸漬して90℃１時間加熱処理した。その後これを
ダイフロンＳ−３中に入れて約３分間超音波洗浄
を行つてマスター表面に付着している上記化合物
を洗い落したところ何も付着していないときと全
く同様の外観を呈した。 このマスターを用いて実施例１と同様のレンズ
の成型を行つたところきわめて容易にレンズが離
型できた。この離型効果は４回の成型まで有効で
あつた。 実施例 ６ フツ素系有機シロキサン化合物
C7F15COOCH2CH2CH2Si（OCH3）3の約２重量％
ダイフロンＳ−３溶液を用いて実施例１で用いた
マスターの塗布処理により離型層を形成した。次
に、これをｎ−ブチルアミン１重量％の水溶液中
に浸漬して90℃１時間の加熱処理を行つた。その
後これをダイフロンＳ−３中に入れて約５分間超
音波洗浄を行つてマスター表面に付着している上
記化合物を洗い落したところ何も付着していない
ときと全く同様の外観を呈した。このマスターを
用いて実施例１と同様のレンズの成形を行つたと
ころ、レンズの離型はきわめて容易にできた。ま
た離型処理を追加することなく成形をつゞけたと
ころ４回まで可能であつた。 比較例 １ 実施例１で用いたマスターの表面にシリコーン
系ペースト状離型剤KS−61（信越化学工業株式会
社製、商品名）を不織布を用いて塗布した。この
ときマスターを約60℃に加熱し、離型剤を軟くし
てできるだけマスター表面を平滑になるように拭
き上げた。このマスターを用いて実施例１に示し
たプロセスでレンズの成形を行つた。樹脂硬化後
カミソリの刃を用いて離型しようとしたが部分的
にはく離が起つたがレンズをはずすことはできな
かつた。 比較例 ２ 実施例１で用いたマスター表面にシリコーンワ
ニス離型剤KS−700（信越化学工業株式会社製、
商品名）を、ｎ−ヘキサンを用いて約10倍に希釈
したものを塗布した。これを不織布を用いて光学
的曲面の精度を害さぬようきれいに拭き上げてか
ら、270℃で１時間焼付け後徐冷した。次いでこ
のマスターを用いて実施例１と同様のレンズの成
型実験を行つたところ、レンズは離型性不十分
で、カミソリ刃の打撃部のガラス基板にヒビが入
つてしまつた。 比較例 ３ 実施例１で用いたマスターを約80℃に加熱して
おき、このマスターの表面にカルナウバワツクス
（融点約65℃）をこすりつけて溶解しながら塗布
する。次に不織布を用いて余分に付着してとけて
いるカルナウバワツクスを拭きとり表面を平滑な
処理面に拭き上げてから常温にもどす。このマス
ターを用いて実施例１と同様にしてレンズの成形
を行つたが離型が不充分で一部レンズが割れてし
まつた。離型できた部分のレンズの樹脂表面には
離型剤の拭きムラにもとずく微小な凹凸が、その
表面の反射像でみられた。
第１図は本発明に用いるマスターの断面図であ
る。第２図は表面に離型層を形成したマスターの
断面図である。第３図は光学部品を形成するため
にガラス基板を支持部材に配置した状態の断面図
である。第４図はガラス基板とマスターを重ねた
状態の断面図である。第５図は形成された光学部
品の断面図である。第６図は実施例に用いて離型
剤の赤外吸収スペクトル特性を示すグラフであ
る。 １……基板、２……マスター、３……離型層、
４……ガラス基板、５……支持部材、６……樹
脂、７……スペーサー、８……樹脂層。
る。第２図は表面に離型層を形成したマスターの
断面図である。第３図は光学部品を形成するため
にガラス基板を支持部材に配置した状態の断面図
である。第４図はガラス基板とマスターを重ねた
状態の断面図である。第５図は形成された光学部
品の断面図である。第６図は実施例に用いて離型
剤の赤外吸収スペクトル特性を示すグラフであ
る。 １……基板、２……マスター、３……離型層、
４……ガラス基板、５……支持部材、６……樹
脂、７……スペーサー、８……樹脂層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 表面に離型層を有するマスターとガラス基板
との間に形成される間隙に樹脂を介在させること
によりガラス基板表面に樹脂層を形成した後、マ
スターを分離してガラス基板と樹脂層からなる光
学部品を製造する方法において、マスター表面に
フツ素置換炭化水素基とアルコキシシラン基若し
くはハロゲン化シラン基とを有する化合物を塗布
後、少くなくともマスター表面に化学結合した当
該化合物をマスター表面全体に均一に残して他を
除去することにより形成した離型層であることを
特徴とする光学部品の製造方法。 ２ 離型層を形成する化合物のマスター表面への
化学結合をアミン又は酸の処理で形成する特許請
求の範囲第１項記載の光学部品の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18413883A JPS6073817A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学部品の製造方法 |
| US06/653,727 US4566930A (en) | 1983-09-30 | 1984-09-24 | Process for producing optical members |
| GB08424543A GB2148783B (en) | 1983-09-30 | 1984-09-28 | Process for producing optical members |
| DE19843436004 DE3436004A1 (de) | 1983-09-30 | 1984-10-01 | Verfahren zur herstellung von optischen bauelementen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18413883A JPS6073817A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6073817A JPS6073817A (ja) | 1985-04-26 |
| JPH0257002B2 true JPH0257002B2 (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=16148031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18413883A Granted JPS6073817A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 光学部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6073817A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE60325866D1 (de) | 2003-11-28 | 2009-03-05 | Xenocs S A | Verfahren zur Herstellung einer Abformungsmatrize, sowie Abformungsmatrize |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP18413883A patent/JPS6073817A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6073817A (ja) | 1985-04-26 |
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