JPH028346B2 - - Google Patents
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- JPH028346B2 JPH028346B2 JP59214403A JP21440384A JPH028346B2 JP H028346 B2 JPH028346 B2 JP H028346B2 JP 59214403 A JP59214403 A JP 59214403A JP 21440384 A JP21440384 A JP 21440384A JP H028346 B2 JPH028346 B2 JP H028346B2
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- Japan
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- pattern
- lattice
- wiring pattern
- data
- wiring
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子回路基板の電源配線或いはアー
ス配線となる格子状配線パターン内に非導通パタ
ーンを自動的に形成できる格子状配線パターン形
成方法に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention provides a method for forming a lattice-like wiring pattern that can automatically form a non-conducting pattern in a lattice-like wiring pattern that becomes the power supply wiring or ground wiring of an electronic circuit board. It is related to.
電子回路基板は、多層配線構成が一般的で、電
源配線或いはアース配線は、数mmのピツチの格子
状パターンが比較的多く採用されている。このよ
うな格子状配線パターンに対して、部品の挿入孔
や接続ピンの挿入孔等を形成する時、配線パター
ンと接触しないように、格子状配線パターンの一
部を削除する必要がある。
Electronic circuit boards generally have multilayer wiring configurations, and grid-like patterns with a pitch of several millimeters are relatively often used for power supply wiring or ground wiring. When forming component insertion holes, connection pin insertion holes, etc. in such a grid wiring pattern, it is necessary to remove a part of the grid wiring pattern so as not to contact the wiring pattern.
このような電子回路基板の配線パターンは、近
年コンピユータを利用して作成するものであり、
格子状配線パターンの場合には、その格子状配線
パターンの幅や間隔等のデータがフアイルに格納
されているから、そのデータを読出し、且つ外周
を規定する情報を入力することにより、その規定
された外周内に読出データに従つた格子状配線パ
ターンが形成され、デイスプレイ装置に表示され
ることになる。そして、表示された格子状配線パ
ターンに対して、部品の挿入孔等に対応した非導
通パターンを形成する為の入力操作を行うもので
ある。 In recent years, wiring patterns for electronic circuit boards like this have been created using computers.
In the case of a lattice-like wiring pattern, data such as the width and spacing of the lattice-like wiring pattern are stored in a file, so by reading out that data and inputting information that defines the outer circumference, the specified periphery can be determined. A grid-like wiring pattern according to the read data is formed within the outer periphery and displayed on the display device. Then, an input operation is performed on the displayed lattice-like wiring pattern to form a non-conducting pattern corresponding to a component insertion hole or the like.
所望の配線パターンが形成されると、そのデー
タをアートワーク装置等に加えて、配線パターン
形成用露光マスクとなるフイルムを自動作成する
ものである。 When a desired wiring pattern is formed, the data is added to an artwork device or the like to automatically create a film that serves as an exposure mask for forming the wiring pattern.
格子状配線パターンに対する非導通パターンの
入力は、キーボードやマウス等の入力装置を用い
て行われるが、挿入孔等と格子状配線パターンと
が接触しないように、所定の間隔が保たれること
が必要であり、その為に、形成すべき非導通パタ
ーンの寸法と関連して、格子状配線パターンの格
子辺の消去作業を行うことになるから、配置位置
の指定と共に繁雑な作業となるものであつた。又
このような非導通パターンが多数の場合には、格
子状配線パターン内に、それぞれの非導通パター
ンの内抜き形成を行う為の作業時間が非常に長く
なる欠点があつた。
Input of the non-conducting pattern to the grid wiring pattern is performed using an input device such as a keyboard or mouse, but a predetermined interval must be maintained so that the insertion hole etc. and the grid wiring pattern do not come into contact. Therefore, it is necessary to erase the lattice sides of the lattice wiring pattern in relation to the dimensions of the non-conductive pattern to be formed, which is a complicated task as well as specifying the placement position. It was hot. Moreover, when there are a large number of such non-conducting patterns, there is a drawback that the working time for forming the respective non-conducting patterns by hollowing them out in the grid-like wiring pattern becomes very long.
本発明は、前述の従来の欠点を改善することを
目的とするものである。 The present invention aims to improve the above-mentioned conventional drawbacks.
本発明の格子状配線パターン形成方法は、格子
状配線パターンの幅を零と見做して、この格子状
配線パターン内に形成すべき非導通パターンの拡
大処理を行うもので、格子状配線パターンの幅の
1/2と、非導通パターンと配線パターンとの間で
必要とする最小間隔との和を加えた寸法に拡大す
るものである。そして、拡大された非導通パター
ン内の格子状配線パターンの格子辺を消去するこ
とにより、配線パターンとの間で所定の間隔を有
する非導通パターンの内抜きを行つた格子状配線
パターンを形成するものである。
The method for forming a lattice-like wiring pattern of the present invention assumes that the width of the lattice-like wiring pattern is zero, and enlarges a non-conducting pattern to be formed within the lattice-like wiring pattern. The dimension is the sum of 1/2 of the width of the wiring pattern and the minimum distance required between the non-conducting pattern and the wiring pattern. Then, by erasing the lattice sides of the lattice-like wiring pattern within the expanded non-conductive pattern, a lattice-like wiring pattern is formed in which the non-conductive pattern is hollowed out with a predetermined interval between it and the wiring pattern. It is something.
格子状配線パターンの幅を1/2した値と、非導
通パターンと配線パターンとの間で必要とする最
小間隔とを加算した値を、非導通パターンに加え
て拡大し、この拡大された非導通パターン内の格
子状配線パターンの格子辺を消去して、配線パタ
ーンと非導通パターンとの間に所定の間隔を有す
る格子状配線パターンを作成するものであり、非
導通パターンの拡大処理や、格子辺の消去処理
は、図形処理に於ける拡大、縮小の処理や、図形
重なりの消去処理等を適用して実現することがで
き、外周データを入力するだけで、自動的に非導
通パターンの内抜きを行つた格子状配線パターン
を作成することができる。
The value obtained by adding 1/2 the width of the lattice wiring pattern and the minimum interval required between the non-conductive pattern and the wiring pattern is added to the non-conductive pattern and expanded, and this expanded non-conductive pattern is This method erases the lattice sides of the lattice wiring pattern in the conductive pattern to create a lattice wiring pattern with a predetermined interval between the wiring pattern and the non-conductive pattern, and it also involves enlarging the non-conducting pattern, Grid side deletion processing can be achieved by applying enlargement/reduction processing in figure processing, figure overlap deletion processing, etc., and by simply inputting the outer circumference data, non-conducting patterns can be automatically erased. It is possible to create a lattice-like wiring pattern with hollow holes.
以下図面を参照して、本発明の実施例について
詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は本発明の実施例のブロツク図であり、
1はプロセツサ(CPU)、2はプログラム等を格
納した領域と共に、領域A,B,C,を有するメ
モリ(MEM)、3,4,5は入出力制御装置
(I/O)、6はキーボード等の入力装置、7はデ
イスプレイ装置、8はパターン・データにより露
光、現像等を行つてマスクパターン等のフイルム
を出力するアートワーク装置、9はフアイル装置
である。フアイル装置9に格子状配線パターンの
配線幅、ピツチ等のデータや非導通パターン・デ
ータ等を含む回路パターン・データが格納されて
いるものである。 FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention.
1 is a processor (CPU), 2 is a memory (MEM) that has areas A, B, and C as well as an area that stores programs, etc., 3, 4, and 5 are input/output control units (I/O), and 6 is a keyboard. 7 is a display device, 8 is an artwork device which performs exposure, development, etc. according to pattern data and outputs a film such as a mask pattern, and 9 is a file device. The file device 9 stores circuit pattern data including data such as the wiring width and pitch of the lattice wiring pattern, non-conducting pattern data, and the like.
最初に、プロセツサ1の制御により、フアイル
装置9から回路パターン・データを読出して、メ
モリ2の領域Aに格納する。次に入力装置6から
格子状配線パターンの外周を指定する外周データ
を入力する。プロセツサ1は、この外周データを
メモリ2の領域Bに格納する。そして、プロセツ
サ1は、外周データと、回路パターン・データの
うちの格子状配線パターン・データとを読出し
て、指定された外周内に格子パターンを生成し
て、メモリ2の領域Bに格納すると共に、入出力
制御装置4を介してデイスプレイ装置7に加え
る。それによつて、デイスプレイ装置7には指定
された外周内に所定のピツチの格子パターンが表
示される。 First, under the control of the processor 1, circuit pattern data is read from the file device 9 and stored in area A of the memory 2. Next, outer circumference data specifying the outer circumference of the lattice wiring pattern is inputted from the input device 6. Processor 1 stores this peripheral data in area B of memory 2. Then, the processor 1 reads the outer circumference data and the lattice wiring pattern data of the circuit pattern data, generates a lattice pattern within the specified outer circumference, and stores it in area B of the memory 2. , to the display device 7 via the input/output control device 4. Thereby, a grid pattern of a predetermined pitch is displayed on the display device 7 within the designated outer periphery.
次に、プロセツサ1は、メモリ2の領域Aから
非導通パターン・データを一つ読出し、この非導
通パターンの拡大処理を行つてメモリ2の領域C
に格納する。この拡大処理は、格子状配線パター
ンの線幅を零と見做して、(格子状配線パターン
幅)×(1/2)+(導体間の最小間隔)=付加寸法、を
求めて、この付加寸法の値を非導通パターンの寸
法に付加する演算処理を行うものであり、図形処
理に於ける拡大、縮小処理に類似した処理により
実現することができる。 Next, the processor 1 reads out one piece of non-conducting pattern data from the area A of the memory 2, enlarges this non-conducting pattern, and expands the non-conducting pattern data from the area A of the memory 2.
Store in. This enlargement process assumes that the line width of the lattice wiring pattern is zero, and calculates (width of the lattice wiring pattern) x (1/2) + (minimum spacing between conductors) = additional dimension. It performs arithmetic processing to add the value of the additional dimension to the dimension of the non-conductive pattern, and can be realized by processing similar to enlargement and reduction processing in graphic processing.
次に、プロセツサ1は、メモリ2の領域B,C
から読出した格子パターンと拡大した非導通パタ
ーンとの重なりの識別を行うものである。なお、
非導通パターン・データには、配置位置を指定す
る位置データも含まれているので、拡大された非
導通パターンの一部と格子パターンとが重なる場
合も容易に識別することができるものである。そ
して、非導通パターン内の格子パターンの格子辺
の消去を行うものである。この場合に、拡大され
た非導通パターンの外周と交差する格子辺を含め
て消去するものである。この格子辺消去処理は、
図形処理に於ける図形重なり部分の消去処理と同
様な処理で実現することができる。この格子辺の
消去処理を行つた格子パターンをメモリ2の領域
Bに格納する。 Next, processor 1 processes areas B and C of memory 2.
This is to identify the overlap between the lattice pattern read from the lattice pattern and the enlarged non-conducting pattern. In addition,
Since the non-conducting pattern data also includes position data specifying the arrangement position, it is possible to easily identify when a portion of the enlarged non-conducting pattern overlaps with the lattice pattern. Then, the lattice sides of the lattice pattern within the non-conductive pattern are erased. In this case, the lattice sides that intersect with the outer periphery of the enlarged non-conductive pattern are also erased. This grid edge elimination process is
This can be realized by a process similar to the process of erasing overlapping parts of figures in graphic processing. The lattice pattern whose lattice sides have been erased is stored in area B of the memory 2.
メモリ2の領域Aに非導通パターンが残つてい
れば、残つている非導通パターンの一つを読出し
て、前述と同様な拡大処理、領域Bに格納されて
いる格子パターンに対する格子辺の消去処理を行
つて、メモリ2の領域Bに格納する。 If a non-conducting pattern remains in area A of the memory 2, one of the remaining non-conducting patterns is read out, and the same enlargement process as described above is performed, and the lattice sides of the lattice pattern stored in area B are erased. The data is processed and stored in area B of the memory 2.
格子辺の消去処理により、周囲の格子パターン
から完全に分離された格子辺が生じることがあ
る。このような場合は、格子辺の追加により周囲
の格子パターンと連続させる為の処理、或いは、
非導通パターンの配置位置変更処理等を行うとに
なる。 The process of erasing grid edges may result in grid edges that are completely separated from the surrounding grid pattern. In such a case, process to make it continuous with the surrounding grid pattern by adding grid edges, or
Processing such as changing the arrangement position of the non-conducting pattern will be performed.
非導通パターンについての処理が総て終了する
と、メモリ2の領域Bには、非導通パターンの内
抜きを行つた格子状配線パターンのデータが格納
されていることになり、この格子状配線パター
ン・データを入出力制御装置5を介してアートワ
ーク装置8に出力すると、格子状配線パターン・
データに従つたパターンの露光、現像により、電
子回路基板の格子状配線パターン・フイルムが作
成されて出力されるものである。 When all the processing for the non-conducting pattern is completed, the area B of the memory 2 stores the data of the lattice-like wiring pattern in which the non-conducting pattern has been hollowed out. When data is output to the artwork device 8 via the input/output control device 5, a grid wiring pattern
By exposing and developing a pattern according to the data, a lattice wiring pattern film for an electronic circuit board is created and output.
第2図及び第3図は格子状配線パターンの説明
図であり、格子状配線パターンの外周データとし
て、a(x1、y1)、b(xl、yj)、c(xn、yj)、d
(xn、yk)、e(xi、yk)、f(xi、yl)を入力装置6
等から入力する。この外周データは、ライトペン
等により直接デイスプレイ装置の表示画面に入力
する手段を採用することも可能である。又、矩形
の外周の場合は、4点の座標情報を入力すれば良
いことになる。 FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams of the grid-like wiring pattern, and the outer peripheral data of the grid-like wiring pattern include a(x 1 , y 1 ), b(x l , y j ), c(x n , y j ), d
(x n , y k ), e (x i , y k ), f (x i , y l ) from the input device 6
Input from etc. It is also possible to employ means for directly inputting this outer circumference data onto the display screen of the display device using a light pen or the like. Furthermore, in the case of a rectangular outer periphery, it is sufficient to input coordinate information of four points.
又格子状配線パターン・データが前述のように
読出されて、指定された外周a〜f内に所定のピ
ツチの格子パターンが形成される。又斜線を施し
たP1,P2,P3は非導通パターンを示し、こ
れらの非導通パターンP1,P2,P3は、順次
そのデータがメモリ2の領域Aから読出されて、
鎖線で示すように拡大処理されるものである。こ
の拡大処理は、前述のように、格子状配線パター
ンの線幅を零と見做して、その格子状配線パター
ンの幅の1/2と、配線パターンと非導通パターン
との間に必要とする最小間隔との和を付加寸法と
して、非導通パターンP1,P2,P3に加える
処理を行うものである。 Also, the lattice wiring pattern data is read out as described above, and a lattice pattern of a predetermined pitch is formed within the designated outer periphery a to f. Also, hatched P1, P2, and P3 indicate non-conductive patterns, and the data of these non-conductive patterns P1, P2, and P3 are sequentially read out from area A of the memory 2.
The image is enlarged as shown by the chain line. As mentioned above, this enlargement process assumes that the line width of the lattice wiring pattern is zero, and requires 1/2 of the width of the lattice wiring pattern and the space between the wiring pattern and the non-conducting pattern. The process of adding the sum of the minimum distance and the minimum interval to the non-conductive patterns P1, P2, and P3 as an additional dimension is performed.
拡大された非導通パターン内、即ち、鎖線内の
格子パターンの格子辺を消去することにより、第
3図に示すように、非導通パターンP1,P2,
P3の周囲に内抜き領域N1,N2,N3が形成
された格子状配線パターンとなる。そして、非導
通パターンと配線パターンとは、少なくとも、格
子状配線パターンの幅の1/2と、必要最小限度の
間隔との和の値の間隔を有するものとなり、部品
等を挿入しても短絡事故の発生がない配線パター
ンとなる。 By erasing the lattice sides of the lattice pattern within the enlarged non-conducting pattern, that is, within the chain lines, the non-conducting patterns P1, P2,
A grid-like wiring pattern is formed in which hollow regions N1, N2, and N3 are formed around P3. The non-conducting pattern and the wiring pattern have an interval equal to at least 1/2 of the width of the lattice wiring pattern plus the minimum necessary interval, so even if parts are inserted, there will be no short circuit. This results in a wiring pattern that does not cause accidents.
又非導通パターンの配置位置によつては、格子
状配線パターンが、島状に分離される場合が生じ
る。これは、作成された格子状配線パターンを順
次走査して、内抜き領域によつて周囲が包囲され
た配線パターンが存在するか否かを調べることに
よつて検出できるから、島状に分離されているこ
とを検出した場合には、格子辺を追加するか、又
は、非導通パターンの配置位置の変更を行うこと
になる。 Furthermore, depending on the arrangement position of the non-conductive pattern, the grid-like wiring pattern may be separated into islands. This can be detected by sequentially scanning the created lattice-like wiring pattern and checking whether there is a wiring pattern surrounded by a hollow area. If it is detected that there is a lattice side, a grid side is added or the placement position of the non-conductive pattern is changed.
第4図は本発明の実施例のフローチヤートの一
例を示すものであり、回路パターン・データをフ
アイル装置9から読出して、メモリ2の領域Aに
格納し、外周を指定する外周データを入力装置6
等から入力する。それにより、領域Aから格子状
配線パターン・データの読出しを行い、指定外周
内に格子パターンを生成する。 FIG. 4 shows an example of a flowchart of an embodiment of the present invention, in which circuit pattern data is read from the file device 9, stored in area A of the memory 2, and outer circumference data specifying the outer circumference is input to the input device. 6
Input from etc. Thereby, lattice wiring pattern data is read from area A, and a lattice pattern is generated within the designated outer periphery.
次にメモリ2の領域Aから非導通パターン・デ
ータを読出して、非導通パターンの拡大処理を行
い、この拡大された非導通パターン内の格子辺を
消去して、内抜きが形成された格子状配線パター
ン・データをメモリ2の領域Bに格納する。 Next, the non-conductive pattern data is read from area A of the memory 2, the non-conductive pattern is enlarged, and the lattice sides in the enlarged non-conductive pattern are erased to form a lattice with hollows formed. The wiring pattern data is stored in area B of the memory 2.
メモリ2の領域Aに非導通パターンが残つてい
るか否か判断し、残つている場合は、非導通パタ
ーンの読出しを行うことになり、又残つていない
場合は、格子状配線パターンの形成が終了したこ
とになり、アートワーク装置8へそのデータが転
送され、格子状配線パターン・フイルムが作成さ
れて出力されることになる。 It is determined whether or not a non-conductive pattern remains in the area A of the memory 2, and if it remains, the non-conductive pattern is read out, and if it does not remain, the formation of the lattice wiring pattern is performed. This means that the data is transferred to the artwork device 8, and a lattice wiring pattern film is created and output.
以上説明したように、本発明は、格子状配線パ
ターンの幅を零と見做して、格子状配線パターン
内に形成すべき部品挿入等の為の非導通パターン
を、格子状配線パターンの幅の1/2と、非導通パ
ターンと配線パターンとの間で必要とする最小間
隔との和を加えた寸法に拡大する処理を行い、こ
の拡大された非導通パターン内の格子状配線パタ
ーンの格子辺を消去する処理を行うことにより、
非導通パターンの内抜きを行つた格子状配線パタ
ーンを形成するものであり、格子状配線パターン
の外周データを入力するだけで、自動的に所望の
回路パターンに於ける非導通パターンに対応した
内抜きを形成することができるので、電子回路基
板用の格子状配線パターンの形成を簡単且つ短時
間で行うことができる利点がある。
As explained above, the present invention assumes that the width of the lattice wiring pattern is zero, and creates a non-conductive pattern for inserting a component to be formed in the lattice wiring pattern by adjusting the width of the lattice wiring pattern. The lattice of the lattice-like wiring pattern within this enlarged non-conducting pattern is enlarged to the sum of 1/2 of By performing the process of erasing the edges,
It forms a lattice-like wiring pattern in which non-conducting patterns are cut out, and by simply inputting the outer circumferential data of the lattice-like wiring pattern, the inner part corresponding to the non-conducting pattern in the desired circuit pattern is automatically created. Since punching can be formed, there is an advantage that a grid wiring pattern for an electronic circuit board can be formed easily and in a short time.
第1図は本発明の実施例のブロツク図、第2図
及び第3図は格子状配線パターンの作成過程の説
明図、第4図は本発明の実施例のフローチヤート
の一例を示すものである。
1はプロセツサ(CPU)、2はメモリ
(MEM)、3〜5は入出力制御装置(I/O)、
6は入力装置、7はデイスプレイ装置、8はアー
トワーク装置、9はフアイル装置である。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams of the process of creating a grid wiring pattern, and FIG. 4 is an example of a flowchart of an embodiment of the present invention. be. 1 is a processor (CPU), 2 is a memory (MEM), 3 to 5 are input/output control devices (I/O),
6 is an input device, 7 is a display device, 8 is an artwork device, and 9 is a file device.
Claims (1)
板の格子状配線パターンを作成する方法に於い
て、格子状配線パターンの幅を零と見做し、該格
子状配線パターン内に形成すべき非導通パターン
を、前記格子状配線パターンの幅の1/2と、非導
通パターンと配線パターンとの間で必要とする最
小間隔との和を加えた寸法に拡大し、該拡大され
た非導通パターン内の格子状配線パターンの格子
辺を消去して、非導通パターンの内抜きを行うこ
とを特徴とする格子状配線パターン形成方法。1. In a method for creating a lattice wiring pattern for an electronic circuit board in which a non-conductive pattern is hollowed out, the width of the lattice wiring pattern is assumed to be zero, and the The conductive pattern is enlarged to a dimension equal to the sum of 1/2 the width of the lattice-like wiring pattern and the minimum interval required between the non-conductive pattern and the wiring pattern, and the expanded non-conductive pattern 1. A method for forming a lattice-like wiring pattern, the method comprising: erasing the lattice sides of the lattice-like wiring pattern inside the lattice-like wiring pattern to remove the inside of the non-conducting pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214403A JPS6193695A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Generation of lattice-like wire pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214403A JPS6193695A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Generation of lattice-like wire pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6193695A JPS6193695A (en) | 1986-05-12 |
| JPH028346B2 true JPH028346B2 (en) | 1990-02-23 |
Family
ID=16655212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59214403A Granted JPS6193695A (en) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | Generation of lattice-like wire pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6193695A (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63108466A (en) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Fujitsu Ltd | Computer aided design system |
| JPH0199173A (en) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | Fujitsu Ltd | Computer-aided designing equipment |
| JPH0239273A (en) * | 1988-07-28 | 1990-02-08 | Fujitsu General Ltd | Method for designing printed circuit board |
| JP4643157B2 (en) * | 2004-03-04 | 2011-03-02 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | Automatic design method of semiconductor integrated circuit |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59214403A patent/JPS6193695A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6193695A (en) | 1986-05-12 |
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