JPH0314835B2 - - Google Patents
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- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 16
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 56
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 12
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 12
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexene Chemical compound CC1=CCCCC1 CTMHWPIWNRWQEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005574 norbornylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- KUKRLSJNTMLPPK-UHFFFAOYSA-N 4,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical group C1CC2(C)C=CC1C2(C)C KUKRLSJNTMLPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVKGYRREXOCIB-UHFFFAOYSA-N Bornylene Natural products CC1CCC(C(C)(C)C)C=C1 GLVKGYRREXOCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKJQJOPCXQWDJ-UHFFFAOYSA-N dichloro(cyclooctylmethyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1CCCCCCC1 JHKJQJOPCXQWDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSZPFWZTTDBVLN-UHFFFAOYSA-N dichloro-(6-chlorohexyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCl VSZPFWZTTDBVLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- UNFUYWDGSFDHCW-UHFFFAOYSA-N monochlorocyclohexane Chemical compound ClC1CCCCC1 UNFUYWDGSFDHCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000000707 stereoselective effect Effects 0.000 description 1
- FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclopentyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCC1 FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はシクロアルキルシランの製造方法、特
にはシクロヘキセンのような不飽和環式炭化水素
とハイドロジエンシランとを白金系触媒の存在下
でハイドロシリレーシヨン反応によつて、ポリシ
ラン、ポリシロキサンあるいは立体特異性を有す
るシリル化剤の原料として有用とされる飽和環式
炭化水素基を含有するシクロアルキルシランを収
率よく製造する方法に関するものである。 （従来の技術） 飽和環式炭化水素基を含有するシクロアルキル
シランがシクロヘキセンのような不飽和環式炭化
水素とメチルジクロロシランのようなオルガノハ
イドロジエンシランとの白金系触媒の存在下での
ハイドロシリレーシヨン反応で得られることはよ
く知られているところであるが、このハイドロシ
リレーシヨン反応を高収率で行なわせることは困
難な技術とされている。 しかして、このシクロアルキルシランの製造に
ついては例えばシクロヘキセンとメチルジクロロ
シランとをガラス封管中で式 H2PtCl6・6H2Oで示される塩化白金酸の存在
下に、沸騰水中で20時間反応させると100％の収
率でシクロアルキルシランが得られると報告され
ている〔J.Amer.Chem.SOC.79，947（1957）〕が、
当業者の追試によれば目的物は反応系内に15％程
度生成されているだけでそれ以上反応は進行しな
いとされている。またこゝに使用する塩化白金酸
をｎ−オクチルアルコールと共に加熱反応処理し
てHCl、H2O、未反応アルコールを除去した白金
系触媒を使用すると、この白金系触媒が活性化さ
れるためにシクロヘキセンとメチルジクロロシラ
ンとこのような白金系触媒の存在下にハイドロシ
リレーシヨン反応させるとガラス封管中での100
℃、６時間の反応でシクロアルキルシランが50％
の収率で得られると述べられている（米国特許第
3220972号明細書参照）が、この場合も白金系触
媒が反応途中で触媒活性を失うために50％以上の
収率は得られないとされている。 そのため、この種のハイドロシリレーシヨン反
応をNi錯体の存在下で反応させるとことも試み
られているが、この場合には副生物が多いために
シクロアルキルシランを工業的に得ることはでき
ないと報告されており、J.Organometal，Chem.
50，297（1973）参照〕、したがつて飽和環式炭化
水素を含有するシクロアルキルシランの工業的製
造は、現在クロロシクロヘキサンのようなハロゲ
ン化飽和環式炭化水素とメチルトリクロロシラン
のようなアルキルハロゲノシランとをグリニヤー
ル反応させるという反応によつて行われている
が、この反応には多量の反応溶剤が使用されるた
めに溶剤回収設備や生成してくるマグネシウム塩
を過するための過設備が必要とされているほ
か、この反応も生産性がわるいために製品コスト
が高いものになるという不利がある。 （発明の構成） 本発明はこのような不利を解決した飽和環式炭
化水素基を含有するシクロアルキルシランの製造
方法に関するものであり、これは一般式 CnR1 oAp （こゝにR1は水素原子、フツ
素原子または炭素原子数１〜８の一価炭化水素基
あるいは一価フツ素化炭化水素基、ＡはCH2、
Ｃ（CH3）2または０で示される分子内架橋構
造基、ｍは４〜８の整数、ｐは０または１、ｎは
ｎ＝2m−2p−２で示される整数）で示される不
飽和環式炭化水素と、式HR2 qSiX3-q （こゝ
にR2は非置換または置換一価炭化水素基、Ｘは
ハロゲン原子またはアルコキシ基、ｑは０〜２の
整数）で示されるハイドロジエンシランとに白金
系触媒を添加し、これらを光の照射下にハイドロ
シリレーシヨン反応させることを特徴とするもの
である。 すなわち、本発明者らは前記したような不利を
伴わないシクロアルキルシランの製造方法につい
て種々検討した結果、不飽和環式炭化水素とハイ
ドロジエンシランとの白金系触媒の存在下のハイ
ドロシリレーシヨン反応に光を照射したところ、
意外にもこの光の照射によつて白金系触媒が活性
を失うことがなくなるのでこの反応は殆ど完結に
到るまで進行し、これによれば90％以上の高収率
で容易にシクロアルキルシランが得られることを
見出すと共に、これを常圧、70℃の反応温度で行
なえばこの反応を10時間以内で殆ど完結させるこ
とができるので、工業的に有利に目的とするシク
ロアルキルシランを得ることができることを確認
して本発明を完成させた。 本発明の方法は上記したように不飽和環式炭化
水素とハイドロジエンシランとをハイドロシリレ
ーシヨン反応させるものであるが、この不飽和環
式炭化水素は一般式 CnR1 oAp で示され、こ
のR1は水素原子、フツ素原子またはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基な
どのアルキル基、フエニル基、トリル基などのア
リール基などのような炭素数１〜８の一価炭化水
素基あるいはこれらの基の炭素に結合した水素原
子の一部または全部をフツ素原子で置換した一価
フツ化化炭化水素基、Ａは＝CH2、＝Ｃ（CH3）2、
＝Ｏなどで示される分子内架橋構造基、ｍは４〜
８の整数、ｐは０または１、ｎはｎ＝2m−2p−
２で示される整数であるものとされる。この不飽
和環式炭化水素としてはシクロヘキセン
（C6H10）、シクロヘプテン（C7H12）、シクロオク
テン（C8H14）、１−メチル−１−シクロヘキセ
ン（C6H9CH3、４−メチル−１−シクロヘキセ
ン（C6H9CH3）、ノルボルニレン（【式】 C6H8CH2）、５−パーフルオロヘキシルノルボル
ニレン（【式】）ボルニレン （【式】）などが例示されるが、こ れらは目的とするシクロアルキルシランの種類に
応じて適宜選択すればよい。 また、この不飽和環式炭化水素と反応させるべ
きシクロアルキルシランは一般式HR2 qSiX3-qで
示され、このR2はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などのアルキル基、フエニル基、
トリル基などのアリール基またはこれらの基の炭
素に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子、シアノ基などで置換した、クロロメチル
基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基な
どから選択される非置換または置換一価炭化水素
基、ＸはCl、Br、Ｉなどのハロゲン原子または
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基などのアルコキシ基、ｑは０〜２の整数であ
るものとされるが、これにはトリクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、
トリメトキシシラン、メチルジエトキシシランな
どが例示される。 なお、この不飽和環式炭化水素とハイドロジエ
ンシランをハイドロシリレーシヨン反応させるた
めに使用される白金系触媒はハイドロシリレーシ
ヨン反応用として公知のものでよく、これには塩
化白金酸が例示されるが、この塩化白金酸はアル
コール溶液、塩化白金酸のオレフイン、ビニルシ
ロキサンとの錯化合物であつてもよく、これらの
添加量はハイドロシラン100重量部に対して
50ppm以下では若干反応が遅くなるので100ppm
以上となるようにすればよい。 本発明の方法はこの不飽和環式炭化水素とハイ
ドロジエンシランとの白金系触媒の存在下にける
ハイドロシリレーシヨン反応を光の照射下に行な
わせるものであり、この光は太陽光の下であつて
もよいが工業的にはこれを紫外線とすることがよ
く、この紫外線は例えば公知の低圧または高圧水
銀灯から発生するものとすればよい。 なお、この不飽和環式炭化水素とハイドロジエ
ンシランとハイドロシリレーシヨン反応は還流冷
却器、撹拌装置および光照射装置を備えた反応器
中において行なわせればよく、この不飽和環式炭
化水素とハイドロジエンシランの配合量は等モル
量とすればよいが、これらは必要に応じいずれか
一方を等モル量よりも多く添加してもよい。ま
た、この不飽和環式炭化水素に対するハイドロジ
エンシランの添加はこのハイドロジエンシラン自
体が不均化反応を起すものであるし、安全性の面
からも不飽和環式炭化水素に予め所定量の白金系
触媒を添加したのち、こゝにハイドロジエンシラ
ンを外部から供給するようにすることがよい。こ
の反応は常温でも進行するが、常温では反応速度
が遅く反応完了までに長時間を要するので加熱す
ることがよいが、80℃以上とすると却つて反応が
阻害されるの60〜70℃で反応させることがよい。
また、この反応は通常は溶剤を使用する必要はな
いが、必要であればオクタン、トルエン、キシレ
ンのような反応に不活性な溶剤を使用してもよ
い。 つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例１、比較例１ 還流冷却器、撹拌機および光照射のための高圧
水銀ランプ・UM−102型〔ウシオ電機(株)製商品
名〕を備えた250mlのガラス製反応容器中に、シ
クロヘキセン1.0モルとメチルジクロロシラン1.0
モルを仕込み、これに塩化白金酸
（H2PtCl6.6H2O）を２−エチルヘキシルアルコー
ルで熱処理したのちHCl、H2Oおよび未反応アル
コールを除去した白金含有量２重量％のもの0.43
ｇ（H2PtCl6、6H2Oとして200ppm／メチルジク
ロロシラン）を添加し、高圧水銀ランプからの紫
外線を照射して、シクロヘキセンとメチルジクロ
ロシランとを室温（20℃）でハイドロシリレーシ
ヨン反応させたところ、この反応は発熱反応であ
ることから室温より５〜６℃高い温度で進行し、
40時間で殆ど終了したので、反応液を蒸留したと
ころ、クロヘキシルメチルジクロロシランが90％
の収率で得られた。しかし、比較のために上記と
同様の組成物について紫外線を照射せず、この反
応を還流下に行なわせたところ、この場合には20
時間で反応系の温度は55℃から71℃まで上昇した
がシクロヘキシルメチルジクロロシランの生成は
９％にすぎず、それ以降は加熱を続けても反応は
進行しなかつた。 また、比較のために上記した塩化白金酸の添加
量を1.08ｇ（500ppm／メチルジクロロシラン）
に増加し、撹拌装置を備えたステンレススチール
製のオートクレーブを用い、密閉系で反応系の温
度を100℃にまで加熱したが、紫外線を照射しな
いで反応させたところ、シクロヘキシルメチルジ
クロロシランの生成は７時間で32％、16時間で34
％まで上昇したが、以降反応は殆ど進行しなくな
つたのでこの反応液を蒸留したところ、この収率
は40％に止まつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ反応容器中に実施例１で使用し
た塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.21ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕
込み、70℃まで昇温させてからメチルジクロロシ
ランを0.5モル滴下したが紫外線を照射しないと
きには反応は殆ど進行しなかつた。 しかし、ここに高圧水銀ランプからの紫外線を
照射したところ、反応が進行したのでここにメチ
ルジクロロシラン1.7モルを追加滴下したところ、
この反応は８時間で殆ど完了したので反応液を蒸
留したところ、シクロヘキシルメチルジクロロシ
ランが95％の収率で得られた。 実施例 ３ 実施例１と同じ反応容器中に実施例１で使用し
た塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.18ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕
込み、70℃まで昇温したのち高圧水銀ランプから
の紫外線を照射しつつこゝにメチルジクロロシラ
ン1.0モルを滴下したところ、反応は10時間で終
了し、反応液の蒸留によつてシクロヘキシルメチ
ルジクロロシランが85％の収率で得られた。 実施例 ４ 実施例１で使用して反応容器中に実施例１で使
用した塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコー
ル溶液0.50ｇを添加したシクロペンテン1.0モル
を仕込み、70℃まで昇温したのち高圧水銀ランプ
からの紫外線を照射しつつこゝにトリクロロシラ
ン1.0モルを滴下したところ、反応は６時間で終
了し、反応液の蒸留によつてシクロペンチルトリ
クロロシランが93％の収率で得られた。 実施例 ５ 実施例１と同じ反応容器に実施例１で使用した
塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.22ｇを添加したシクロオクテン1.0モルを仕込
み、70℃まで昇温してから高圧水銀ランプからの
紫外線を照射しつつこゝにメチルジクロロシラン
1.0モルを滴下したところ、反応は10時間で終了
し、反応液の蒸留によつてシクロオクチルメチル
ジクロロシランが90％の収率で得られた。 実施例 ６ 実施例１と同じ反応容器にH2PtCl6・6H2Oを
20％含有する２−エチルヘキシルアルコール溶液
（白金含有量7.5重量％）0.06ｇを添加したノルボ
ルニレン1.0モルを仕込み、70℃まで昇温してか
ら低圧水銀ランプ・LP−11B型〔(株)東芝製商品
名〕からの紫外線を照射しつつこゝにメチルジク
ロロシラン1.0モルを滴下したところ、反応は６
時間で終了し、この反応液の蒸留によつてノルボ
ルニルメチルジクロロシランが91％の収率で得ら
れた。 実施例 ７ 実施例１と同じ反応容器に実施例６で使用した
クロロシランの２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.06ｇを添加した５−パーフルオロヘキシルノ
ルボルニレル1.0モルを仕込み、70℃まで昇温し
たのち高圧水銀ランプからの紫外線を照射しつつ
こゝにメチルジクロロシラン1.0モルを滴下した
ところ、反応は６時間で終了し、この反応液の蒸
留によつてパーフルオロヘキシルノルボルニルメ
チルジクロロシランが90％の収率で得られた。 実施例 ８ 実施例１と同じ反応容器に実施例１で使用した
塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.23ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕込
み、70℃まで昇温してから高圧水銀ランプからの
紫外線を照射しつつこゝにトリメトキシシラン
1.0モルを滴化したところ、反応は７時間で終了
し、この反応液の蒸留によつてシクロヘキシルト
リメトキシシランが90％の収率で得られた。 実施例 ９ 還流冷却器と撹拌機を備えた100mlのガラスフ
ラスコ中にシクロヘキセン0.25モルとメチルジク
ロロシラン0.25モルおよび実施例１で使用した塩
化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.11ｇを添加し、太陽光の下において室温で反応
させたところ、反応は進行し、触媒活性も失われ
ず、70時間で反応は殆ど終了したので、この反応
液を蒸留したところ、シクロヘキシルメチルジク
ロロシシランが91％の収率で得られた。
にはシクロヘキセンのような不飽和環式炭化水素
とハイドロジエンシランとを白金系触媒の存在下
でハイドロシリレーシヨン反応によつて、ポリシ
ラン、ポリシロキサンあるいは立体特異性を有す
るシリル化剤の原料として有用とされる飽和環式
炭化水素基を含有するシクロアルキルシランを収
率よく製造する方法に関するものである。 （従来の技術） 飽和環式炭化水素基を含有するシクロアルキル
シランがシクロヘキセンのような不飽和環式炭化
水素とメチルジクロロシランのようなオルガノハ
イドロジエンシランとの白金系触媒の存在下での
ハイドロシリレーシヨン反応で得られることはよ
く知られているところであるが、このハイドロシ
リレーシヨン反応を高収率で行なわせることは困
難な技術とされている。 しかして、このシクロアルキルシランの製造に
ついては例えばシクロヘキセンとメチルジクロロ
シランとをガラス封管中で式 H2PtCl6・6H2Oで示される塩化白金酸の存在
下に、沸騰水中で20時間反応させると100％の収
率でシクロアルキルシランが得られると報告され
ている〔J.Amer.Chem.SOC.79，947（1957）〕が、
当業者の追試によれば目的物は反応系内に15％程
度生成されているだけでそれ以上反応は進行しな
いとされている。またこゝに使用する塩化白金酸
をｎ−オクチルアルコールと共に加熱反応処理し
てHCl、H2O、未反応アルコールを除去した白金
系触媒を使用すると、この白金系触媒が活性化さ
れるためにシクロヘキセンとメチルジクロロシラ
ンとこのような白金系触媒の存在下にハイドロシ
リレーシヨン反応させるとガラス封管中での100
℃、６時間の反応でシクロアルキルシランが50％
の収率で得られると述べられている（米国特許第
3220972号明細書参照）が、この場合も白金系触
媒が反応途中で触媒活性を失うために50％以上の
収率は得られないとされている。 そのため、この種のハイドロシリレーシヨン反
応をNi錯体の存在下で反応させるとことも試み
られているが、この場合には副生物が多いために
シクロアルキルシランを工業的に得ることはでき
ないと報告されており、J.Organometal，Chem.
50，297（1973）参照〕、したがつて飽和環式炭化
水素を含有するシクロアルキルシランの工業的製
造は、現在クロロシクロヘキサンのようなハロゲ
ン化飽和環式炭化水素とメチルトリクロロシラン
のようなアルキルハロゲノシランとをグリニヤー
ル反応させるという反応によつて行われている
が、この反応には多量の反応溶剤が使用されるた
めに溶剤回収設備や生成してくるマグネシウム塩
を過するための過設備が必要とされているほ
か、この反応も生産性がわるいために製品コスト
が高いものになるという不利がある。 （発明の構成） 本発明はこのような不利を解決した飽和環式炭
化水素基を含有するシクロアルキルシランの製造
方法に関するものであり、これは一般式 CnR1 oAp （こゝにR1は水素原子、フツ
素原子または炭素原子数１〜８の一価炭化水素基
あるいは一価フツ素化炭化水素基、ＡはCH2、
Ｃ（CH3）2または０で示される分子内架橋構
造基、ｍは４〜８の整数、ｐは０または１、ｎは
ｎ＝2m−2p−２で示される整数）で示される不
飽和環式炭化水素と、式HR2 qSiX3-q （こゝ
にR2は非置換または置換一価炭化水素基、Ｘは
ハロゲン原子またはアルコキシ基、ｑは０〜２の
整数）で示されるハイドロジエンシランとに白金
系触媒を添加し、これらを光の照射下にハイドロ
シリレーシヨン反応させることを特徴とするもの
である。 すなわち、本発明者らは前記したような不利を
伴わないシクロアルキルシランの製造方法につい
て種々検討した結果、不飽和環式炭化水素とハイ
ドロジエンシランとの白金系触媒の存在下のハイ
ドロシリレーシヨン反応に光を照射したところ、
意外にもこの光の照射によつて白金系触媒が活性
を失うことがなくなるのでこの反応は殆ど完結に
到るまで進行し、これによれば90％以上の高収率
で容易にシクロアルキルシランが得られることを
見出すと共に、これを常圧、70℃の反応温度で行
なえばこの反応を10時間以内で殆ど完結させるこ
とができるので、工業的に有利に目的とするシク
ロアルキルシランを得ることができることを確認
して本発明を完成させた。 本発明の方法は上記したように不飽和環式炭化
水素とハイドロジエンシランとをハイドロシリレ
ーシヨン反応させるものであるが、この不飽和環
式炭化水素は一般式 CnR1 oAp で示され、こ
のR1は水素原子、フツ素原子またはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基な
どのアルキル基、フエニル基、トリル基などのア
リール基などのような炭素数１〜８の一価炭化水
素基あるいはこれらの基の炭素に結合した水素原
子の一部または全部をフツ素原子で置換した一価
フツ化化炭化水素基、Ａは＝CH2、＝Ｃ（CH3）2、
＝Ｏなどで示される分子内架橋構造基、ｍは４〜
８の整数、ｐは０または１、ｎはｎ＝2m−2p−
２で示される整数であるものとされる。この不飽
和環式炭化水素としてはシクロヘキセン
（C6H10）、シクロヘプテン（C7H12）、シクロオク
テン（C8H14）、１−メチル−１−シクロヘキセ
ン（C6H9CH3、４−メチル−１−シクロヘキセ
ン（C6H9CH3）、ノルボルニレン（【式】 C6H8CH2）、５−パーフルオロヘキシルノルボル
ニレン（【式】）ボルニレン （【式】）などが例示されるが、こ れらは目的とするシクロアルキルシランの種類に
応じて適宜選択すればよい。 また、この不飽和環式炭化水素と反応させるべ
きシクロアルキルシランは一般式HR2 qSiX3-qで
示され、このR2はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基などのアルキル基、フエニル基、
トリル基などのアリール基またはこれらの基の炭
素に結合した水素原子の一部または全部をハロゲ
ン原子、シアノ基などで置換した、クロロメチル
基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基な
どから選択される非置換または置換一価炭化水素
基、ＸはCl、Br、Ｉなどのハロゲン原子または
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基などのアルコキシ基、ｑは０〜２の整数であ
るものとされるが、これにはトリクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、
トリメトキシシラン、メチルジエトキシシランな
どが例示される。 なお、この不飽和環式炭化水素とハイドロジエ
ンシランをハイドロシリレーシヨン反応させるた
めに使用される白金系触媒はハイドロシリレーシ
ヨン反応用として公知のものでよく、これには塩
化白金酸が例示されるが、この塩化白金酸はアル
コール溶液、塩化白金酸のオレフイン、ビニルシ
ロキサンとの錯化合物であつてもよく、これらの
添加量はハイドロシラン100重量部に対して
50ppm以下では若干反応が遅くなるので100ppm
以上となるようにすればよい。 本発明の方法はこの不飽和環式炭化水素とハイ
ドロジエンシランとの白金系触媒の存在下にける
ハイドロシリレーシヨン反応を光の照射下に行な
わせるものであり、この光は太陽光の下であつて
もよいが工業的にはこれを紫外線とすることがよ
く、この紫外線は例えば公知の低圧または高圧水
銀灯から発生するものとすればよい。 なお、この不飽和環式炭化水素とハイドロジエ
ンシランとハイドロシリレーシヨン反応は還流冷
却器、撹拌装置および光照射装置を備えた反応器
中において行なわせればよく、この不飽和環式炭
化水素とハイドロジエンシランの配合量は等モル
量とすればよいが、これらは必要に応じいずれか
一方を等モル量よりも多く添加してもよい。ま
た、この不飽和環式炭化水素に対するハイドロジ
エンシランの添加はこのハイドロジエンシラン自
体が不均化反応を起すものであるし、安全性の面
からも不飽和環式炭化水素に予め所定量の白金系
触媒を添加したのち、こゝにハイドロジエンシラ
ンを外部から供給するようにすることがよい。こ
の反応は常温でも進行するが、常温では反応速度
が遅く反応完了までに長時間を要するので加熱す
ることがよいが、80℃以上とすると却つて反応が
阻害されるの60〜70℃で反応させることがよい。
また、この反応は通常は溶剤を使用する必要はな
いが、必要であればオクタン、トルエン、キシレ
ンのような反応に不活性な溶剤を使用してもよ
い。 つぎに本発明の実施例をあげる。 実施例１、比較例１ 還流冷却器、撹拌機および光照射のための高圧
水銀ランプ・UM−102型〔ウシオ電機(株)製商品
名〕を備えた250mlのガラス製反応容器中に、シ
クロヘキセン1.0モルとメチルジクロロシラン1.0
モルを仕込み、これに塩化白金酸
（H2PtCl6.6H2O）を２−エチルヘキシルアルコー
ルで熱処理したのちHCl、H2Oおよび未反応アル
コールを除去した白金含有量２重量％のもの0.43
ｇ（H2PtCl6、6H2Oとして200ppm／メチルジク
ロロシラン）を添加し、高圧水銀ランプからの紫
外線を照射して、シクロヘキセンとメチルジクロ
ロシランとを室温（20℃）でハイドロシリレーシ
ヨン反応させたところ、この反応は発熱反応であ
ることから室温より５〜６℃高い温度で進行し、
40時間で殆ど終了したので、反応液を蒸留したと
ころ、クロヘキシルメチルジクロロシランが90％
の収率で得られた。しかし、比較のために上記と
同様の組成物について紫外線を照射せず、この反
応を還流下に行なわせたところ、この場合には20
時間で反応系の温度は55℃から71℃まで上昇した
がシクロヘキシルメチルジクロロシランの生成は
９％にすぎず、それ以降は加熱を続けても反応は
進行しなかつた。 また、比較のために上記した塩化白金酸の添加
量を1.08ｇ（500ppm／メチルジクロロシラン）
に増加し、撹拌装置を備えたステンレススチール
製のオートクレーブを用い、密閉系で反応系の温
度を100℃にまで加熱したが、紫外線を照射しな
いで反応させたところ、シクロヘキシルメチルジ
クロロシランの生成は７時間で32％、16時間で34
％まで上昇したが、以降反応は殆ど進行しなくな
つたのでこの反応液を蒸留したところ、この収率
は40％に止まつた。 実施例 ２ 実施例１と同じ反応容器中に実施例１で使用し
た塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.21ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕
込み、70℃まで昇温させてからメチルジクロロシ
ランを0.5モル滴下したが紫外線を照射しないと
きには反応は殆ど進行しなかつた。 しかし、ここに高圧水銀ランプからの紫外線を
照射したところ、反応が進行したのでここにメチ
ルジクロロシラン1.7モルを追加滴下したところ、
この反応は８時間で殆ど完了したので反応液を蒸
留したところ、シクロヘキシルメチルジクロロシ
ランが95％の収率で得られた。 実施例 ３ 実施例１と同じ反応容器中に実施例１で使用し
た塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.18ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕
込み、70℃まで昇温したのち高圧水銀ランプから
の紫外線を照射しつつこゝにメチルジクロロシラ
ン1.0モルを滴下したところ、反応は10時間で終
了し、反応液の蒸留によつてシクロヘキシルメチ
ルジクロロシランが85％の収率で得られた。 実施例 ４ 実施例１で使用して反応容器中に実施例１で使
用した塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコー
ル溶液0.50ｇを添加したシクロペンテン1.0モル
を仕込み、70℃まで昇温したのち高圧水銀ランプ
からの紫外線を照射しつつこゝにトリクロロシラ
ン1.0モルを滴下したところ、反応は６時間で終
了し、反応液の蒸留によつてシクロペンチルトリ
クロロシランが93％の収率で得られた。 実施例 ５ 実施例１と同じ反応容器に実施例１で使用した
塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.22ｇを添加したシクロオクテン1.0モルを仕込
み、70℃まで昇温してから高圧水銀ランプからの
紫外線を照射しつつこゝにメチルジクロロシラン
1.0モルを滴下したところ、反応は10時間で終了
し、反応液の蒸留によつてシクロオクチルメチル
ジクロロシランが90％の収率で得られた。 実施例 ６ 実施例１と同じ反応容器にH2PtCl6・6H2Oを
20％含有する２−エチルヘキシルアルコール溶液
（白金含有量7.5重量％）0.06ｇを添加したノルボ
ルニレン1.0モルを仕込み、70℃まで昇温してか
ら低圧水銀ランプ・LP−11B型〔(株)東芝製商品
名〕からの紫外線を照射しつつこゝにメチルジク
ロロシラン1.0モルを滴下したところ、反応は６
時間で終了し、この反応液の蒸留によつてノルボ
ルニルメチルジクロロシランが91％の収率で得ら
れた。 実施例 ７ 実施例１と同じ反応容器に実施例６で使用した
クロロシランの２−エチルヘキシルアルコール溶
液0.06ｇを添加した５−パーフルオロヘキシルノ
ルボルニレル1.0モルを仕込み、70℃まで昇温し
たのち高圧水銀ランプからの紫外線を照射しつつ
こゝにメチルジクロロシラン1.0モルを滴下した
ところ、反応は６時間で終了し、この反応液の蒸
留によつてパーフルオロヘキシルノルボルニルメ
チルジクロロシランが90％の収率で得られた。 実施例 ８ 実施例１と同じ反応容器に実施例１で使用した
塩化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.23ｇを添加したシクロヘキセン1.0モルを仕込
み、70℃まで昇温してから高圧水銀ランプからの
紫外線を照射しつつこゝにトリメトキシシラン
1.0モルを滴化したところ、反応は７時間で終了
し、この反応液の蒸留によつてシクロヘキシルト
リメトキシシランが90％の収率で得られた。 実施例 ９ 還流冷却器と撹拌機を備えた100mlのガラスフ
ラスコ中にシクロヘキセン0.25モルとメチルジク
ロロシラン0.25モルおよび実施例１で使用した塩
化白金酸の２−エチルヘキシルアルコール溶液
0.11ｇを添加し、太陽光の下において室温で反応
させたところ、反応は進行し、触媒活性も失われ
ず、70時間で反応は殆ど終了したので、この反応
液を蒸留したところ、シクロヘキシルメチルジク
ロロシシランが91％の収率で得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 CnR1 oAp （こゝにR1は水素原子、フツ素原子または炭素
原子数１〜８の一価炭化水素基あるいは一価フツ
素化炭化水素基、ＡはCH2、Ｃ（CH3）2また
は０で示される分子内架橋構造基、ｍは４〜８
の整数、ｐは０または１、ｎはｎ＝2m−2p−２
で示される整数）で示される不飽和環式炭化水素
と、式 HR2 pSiX3-q （こゝにR2は非置換または置換一価炭化水素基、
Ｘはハロゲン原子またはアルコキシ基、ｑは０〜
２の整数）で示されるハイドロジエンシランとに
白金系触媒を添加し、これらを光の照射下にハイ
ドロシリレーシヨン反応させることを特徴とする
シクロアルキルシランの製造方法。 ２ 光が紫外線光である特許請求の範囲第１項記
載のシクロアルキルシランの製造方法。 ３ 不飽和環式炭化水素基C6H10で示されるシク
ロヘキセンである特許請求の範囲第１項記載のシ
クロアルキルシランの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62030994A JPS63198692A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | シクロアルキルシランの製造方法 |
| EP88400270A EP0278863B1 (en) | 1987-02-13 | 1988-02-05 | A method for the preparation of a cycloalkyl silane compound |
| DE88400270T DE3886063T2 (de) | 1987-02-13 | 1988-02-05 | Methode zur Herstellung einer Cycloalkylsilan-Verbindung. |
| US07/154,691 US4883569A (en) | 1987-02-13 | 1988-02-11 | Method for the preparation of a cycloalkyl silane compound |
| US07/380,350 US4957607A (en) | 1987-02-13 | 1989-07-17 | Method for the preparation of a cycloalkyl silane compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62030994A JPS63198692A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | シクロアルキルシランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63198692A JPS63198692A (ja) | 1988-08-17 |
| JPH0314835B2 true JPH0314835B2 (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=12319154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62030994A Granted JPS63198692A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | シクロアルキルシランの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4883569A (ja) |
| EP (1) | EP0278863B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63198692A (ja) |
| DE (1) | DE3886063T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0791307B2 (ja) * | 1990-06-07 | 1995-10-04 | 信越化学工業株式会社 | シクロペンチルトリクロロシランの製造方法 |
| US5359111A (en) * | 1991-09-18 | 1994-10-25 | Dow Corning Corporation | Method for controlling hydrosilylation in a reaction mixture |
| US5118829A (en) * | 1991-09-27 | 1992-06-02 | Dow Corning Corporation | Process for cycloalkyl substitution of hydrogen containing silanes |
| US6150546A (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-21 | General Electric Company | Irradiation-curable silicone compositions, photo-active platinum (IV) compounds, and method |
| JP2007077252A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
| CN101353427B (zh) * | 2008-09-09 | 2010-12-01 | 西北工业大学 | 紫外光引发乙烯基硅氮烷快速聚合制备液态乙烯基聚硅氮烷树脂的方法 |
| CN101353426B (zh) * | 2008-09-09 | 2011-04-27 | 西北工业大学 | 一种液态乙烯基聚硅氮烷树脂及其制备方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1210846B (de) * | 1962-07-27 | 1966-02-17 | Elfriede Husemann Dr | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen |
| JPS4928189A (ja) * | 1972-07-17 | 1974-03-13 | ||
| US4038302A (en) * | 1976-02-23 | 1977-07-26 | Veb Chemiewerk Nuenchritz | Process for preparing 2-(cyclohexenyl-4-)ethyl-silicon compounds and novel products made thereby |
| US4394317A (en) * | 1981-02-02 | 1983-07-19 | Sws Silicones Corporation | Platinum-styrene complexes which promote hydrosilation reactions |
| US4398010A (en) * | 1981-12-07 | 1983-08-09 | Sws Silicones Corporation | Method for accelerating the activity of a hydrosilation catalyst |
| US4530879A (en) * | 1983-03-04 | 1985-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation activated addition reaction |
| US4600484A (en) * | 1983-12-06 | 1986-07-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Hydrosilation process using a (η5 -cyclopentadienyl)tri(σ-aliphatic) platinum complex as the catalyst |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62030994A patent/JPS63198692A/ja active Granted
-
1988
- 1988-02-05 DE DE88400270T patent/DE3886063T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-05 EP EP88400270A patent/EP0278863B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-11 US US07/154,691 patent/US4883569A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-17 US US07/380,350 patent/US4957607A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0278863A2 (en) | 1988-08-17 |
| EP0278863B1 (en) | 1993-12-08 |
| US4957607A (en) | 1990-09-18 |
| JPS63198692A (ja) | 1988-08-17 |
| EP0278863A3 (en) | 1990-06-13 |
| US4883569A (en) | 1989-11-28 |
| DE3886063T2 (de) | 1994-05-05 |
| DE3886063D1 (de) | 1994-01-20 |
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