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JPH0322000B2 - - Google Patents
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JPH0322000B2 - - Google Patents

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JPH0322000B2
JPH0322000B2 JP9983184A JP9983184A JPH0322000B2 JP H0322000 B2 JPH0322000 B2 JP H0322000B2 JP 9983184 A JP9983184 A JP 9983184A JP 9983184 A JP9983184 A JP 9983184A JP H0322000 B2 JPH0322000 B2 JP H0322000B2
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JP
Japan
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transistors
memory block
decoder
information storage
rom
Prior art date
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JP9983184A
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Japanese (ja)
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JPS60242595A (en
Inventor
Akira Yonezu
Kazuhiro Sakashita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH0322000B2 publication Critical patent/JPH0322000B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は半導体集積回路装置、特にMOSゲ
ートアレイLSI(以下ゲートアレイと称す)に関
し、その内部に任意の大きさの読み出し専用記憶
回路(以下ROMと称す)が内蔵可能である半導
体集積回路装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, particularly a MOS gate array LSI (hereinafter referred to as a gate array). The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device that can have a built-in device.

〔従来技術〕[Prior art]

一般に、MOSトランジスタによるROMは第1
図に示す回路構成を持つている。ここでは16ワー
ド×1ビツト構成のROMについて説明する。図
において、1は第1のデコーダを構成する行デコ
ーダで、入力には上位(又は下位)アドレス2,
3が接続され、行デコーダ出力4a〜4dは情報
が伝搬するビツト線5a,5b,5c,5dと互
いに接続されないように直交し、かつ両者で網目
状になるよう配置されている。ビツト線5a〜5
dにはMOSトランジスタ6a〜6dの各ソース
(またはドレイン、以下、一方の電極と称す)と、
ビツト線5a〜5dのうちの必要とするビツト線
を選択するMOSトランジスタ7a〜7dの各ド
レイン(またはソース、以下、他方の電極と称
す)とがそれぞれ接続されている。ビツト線選択
用MOSトランジスタ7a〜7dの各一方の電極
は全て記憶内容を読み出すための読み出し手段を
構成するための論理反転型のバツフア9の入力に
接続され、該バツフア9の出力は情報出力端子1
0に接続されている。ビツト線選択用MOSトラ
ンジスタ7a〜7dの各ゲートは、下位(又は上
位)アドレス11,12がその入力に接続されて
いる第2のデコーダを構成する列デコーダ13の
デコード出力14a〜14dに接続されている。
網目状に配置された行デコード出力4a〜4dと
ビツト線5a〜5dとの交点には、情報を記憶し
ているMOSトランジスタからなる情報記憶トラ
ンジスタ15a〜15hが配置されており、これ
らの各ゲートは行デコード出力4a〜4dに、各
ソース(またはドレイン)はビツト線5a〜5d
に、各他方の電極は接地にそれぞれ接続されてい
る。
Generally, ROM using MOS transistors is
It has the circuit configuration shown in the figure. Here, a ROM with a 16 word x 1 bit configuration will be explained. In the figure, 1 is a row decoder constituting the first decoder, and its inputs include an upper (or lower) address 2,
The row decoder outputs 4a to 4d are orthogonal to the bit lines 5a, 5b, 5c, and 5d through which information is transmitted so as not to be connected to each other, and are arranged so that they form a mesh. Bit lines 5a-5
d, each source (or drain, hereinafter referred to as one electrode) of the MOS transistors 6a to 6d;
The drains (or sources, hereinafter referred to as the other electrodes) of MOS transistors 7a-7d for selecting a required bit line among bit lines 5a-5d are connected to each other. One electrode of each of the bit line selection MOS transistors 7a to 7d is all connected to the input of a logic inversion type buffer 9 constituting a reading means for reading out the memory contents, and the output of the buffer 9 is connected to an information output terminal. 1
Connected to 0. Each gate of the bit line selection MOS transistors 7a to 7d is connected to a decode output 14a to 14d of a column decoder 13 forming a second decoder to which lower (or upper) addresses 11, 12 are connected. ing.
Information storage transistors 15a to 15h, which are MOS transistors that store information, are arranged at the intersections of the row decode outputs 4a to 4d arranged in a mesh pattern and the bit lines 5a to 5d. are connected to the row decode outputs 4a to 4d, and each source (or drain) is connected to the bit line 5a to 5d.
, each other electrode is respectively connected to ground.

この情報記憶MOSトランジスタはROMが必要
とするアドレスに対する情報の種類によつてその
接続される交点及び数量が変化する。しかしなが
ら情報を記憶するMOSトランジスタは、必ずゲ
ートが行デコード出力に、一方の電極はビツト線
に、他方の電極は接地にそれぞれ接続されてい
る。
The number and intersections of these information storage MOS transistors to which they are connected vary depending on the type of information for the address required by the ROM. However, a MOS transistor that stores information always has its gate connected to the row decode output, one electrode connected to the bit line, and the other electrode connected to ground.

次に動作について説明する。第1図において、
情報を読み出すアドレスをアドレス入力2,3,
11,12に加える。行デコーダ1と列デコーダ
13によりアドレスがデコードされ、選ばれた出
力は電源電圧値を出力する。なお、その他のデコ
ーダ出力はほぼ接地電位となる。
Next, the operation will be explained. In Figure 1,
Input the address to read the information 2, 3,
Add to 11 and 12. The address is decoded by the row decoder 1 and column decoder 13, and the selected output outputs the power supply voltage value. Note that other decoder outputs are approximately at ground potential.

ここで行デコーダ1によつてアドレス入力2,
3を、列デコーダ13によつてアドレス入力1
1,12をデコードした結果、行デコード出力4
b及び列デコード出力14bに電源電圧値が出力
されたとする。行デコード出力4bが電源電圧値
を出力したことによりMOSトランジスタ15d
が導通して、あらかじめMOSトランジスタ6b
によつて電源電圧値に充電されていたビツト線5
bの電位を接地電位付近まで下げる。ビツト線5
bの電位は列デコード出力14bが電源電圧値を
出力することにより導通状態にあるMOSトラン
ジスタ7bを通して共通ビツト線5eに伝搬す
る。共通ビツト線5eに伝搬した電圧は論理反転
型バツフア9により論理が反転され、つまり電源
電圧値を出力し、情報出力端子10に論理“1”
(電源電圧値)を出力する。以上は、ROMの選
択したアドレスの情報が“1”の場合であつた
が、選択したアドレスの情報が“0”の場合は以
下の動作を行なう。
Here, address input 2,
3 to the address input 1 by the column decoder 13.
As a result of decoding 1 and 12, row decode output 4
Assume that the power supply voltage value is output to b and the column decode output 14b. Since the row decode output 4b outputs the power supply voltage value, the MOS transistor 15d
becomes conductive, and the MOS transistor 6b becomes conductive in advance.
The bit line 5 was charged to the power supply voltage value by
Lower the potential of b to near ground potential. Bit line 5
The potential of b is propagated to the common bit line 5e through the MOS transistor 7b which is in a conductive state as the column decode output 14b outputs the power supply voltage value. The logic of the voltage propagated to the common bit line 5e is inverted by the logic inversion type buffer 9, that is, the power supply voltage value is output, and a logic "1" is output to the information output terminal 10.
Outputs (power supply voltage value). The above is a case where the information of the selected address of the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力
2,3,11,12に加え、行デコーダ1及び列
デコーダ13によりデコードされた結果、行デコ
ード出力4b及び列デコード出力14cに電源電
圧値が出力されたとする。行デコード出力4bが
電源電圧値を出力することによりMOSトランジ
スタ15dは導通するが、MOSトランジスタ1
5dのソース(またはドレイン)はビツト線5c
に接続されていないためMOSトランジスタ6c
によりあらかじめ充電されていたビツト線5cの
電位は変化しない。その結果列デコード出力14
cに出力されている電源電圧値により導通してい
るMOSトランジスタ7cによりビツト線5c電
位が共通ビツト線5eに伝搬し、その電圧は論理
反転型バツフア9により論理が反転され、つまり
接地電圧に近い値を出力し、情報出力端子10に
論理“0”(ほぼ接地電圧値)を出力する。
Now, assume that the address from which information is to be read is added to address inputs 2, 3, 11, and 12, and as a result of being decoded by row decoder 1 and column decoder 13, power supply voltage values are output to row decode output 4b and column decode output 14c. . When the row decode output 4b outputs the power supply voltage value, the MOS transistor 15d becomes conductive, but the MOS transistor 1
The source (or drain) of 5d is bit line 5c
MOS transistor 6c because it is not connected to
The potential of the bit line 5c, which has been charged in advance, does not change. The resulting column decode output 14
The potential of the bit line 5c is propagated to the common bit line 5e by the MOS transistor 7c, which is turned on by the power supply voltage value outputted to A logic "0" (approximately the ground voltage value) is output to the information output terminal 10.

以上のように行デコーダ1によりデコード出力
4a〜4dから選ばれた“1”出力と列デコーダ
13により選択されたMOSトランジスタ7a〜
7dによつて共通ビツト線5eと導通したビツト
線5a〜5dとが交差する位置にMOSトランジ
スタを置くか置かないかにより情報の種類を決定
する。
As described above, the "1" output selected from the decoded outputs 4a to 4d by the row decoder 1 and the MOS transistors 7a to 7a selected by the column decoder 13
The type of information is determined by whether or not a MOS transistor is placed at a position where the bit lines 5a to 5d, which are electrically connected to the common bit line 5e by 7d, intersect.

従来の半導体集積回路装置は以上のように構成
されているので、ROMをゲートアレイに内蔵し
ようとする場合、ゲートアレイ内の横構造のトラ
ンジスタ列上にはROMは実現しにくく、第2図
に示す如くゲートアレイチツプ16上に論理回路
領域18の他にROM専用領域19を設けなけれ
ばならないことになる。また内蔵しようとする
ROMの大きさもROM専用領域の大きさに制限
され、自由度がなく、また、ROMの大きさが
ROM専用領域よりも小さい場合、ROM専用領
域の使用効率が悪くなるなどの欠点があつた。な
お第2図中17はI/Oバツフアである。
Conventional semiconductor integrated circuit devices are configured as described above, so when trying to incorporate ROM into a gate array, it is difficult to implement ROM on a horizontally structured transistor row within the gate array. As shown, in addition to the logic circuit area 18, a ROM dedicated area 19 must be provided on the gate array chip 16. I'll try to incorporate it again
The size of the ROM is also limited to the size of the ROM dedicated area, so there is no degree of freedom, and the size of the ROM is
If it is smaller than the ROM-only area, there are drawbacks such as poor usage efficiency of the ROM-only area. Note that 17 in FIG. 2 is an I/O buffer.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は、上記のような従来のものの欠点を
除去するためになされたもので、他の論理回路と
ともに構成するROMを、同一直線上に配設さ
れ、かつ、同一直線上に設けられたMOSトラン
ジスタからなる複数の情報記憶トランジスタ及び
番地選択トランジスタとを有した複数の記憶ブロ
ツクと、各記憶ブロツク内の複数の情報記憶トラ
ンジスタを選択的に導通状態となすための第1の
デコーダと、記憶ブロツク内の番地選択トランジ
スタを選択的に導通状態となすための第2のデコ
ーダとを備えたものとすることにより、ROM専
用領域を設けずにROMを論理回路と混在させる
ことができ、任意の大きさを持つたROMをゲー
トアレイに内蔵可能であり、さらにLSI内の
MOSトランジスタの使用効率を改善することの
できる半導体集積回路装置を提供することを目的
としている 〔発明の実施例〕 以下この発明の一実施例を図について説明す
る。
This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and the ROM configured with other logic circuits is arranged on the same straight line, and the MOS A plurality of memory blocks each having a plurality of information storage transistors and an address selection transistor each consisting of a transistor, a first decoder for selectively bringing on a plurality of information storage transistors in each memory block, and a memory block. By providing a second decoder for selectively turning on the address selection transistor in the ROM, the ROM can be mixed with logic circuits without providing a ROM-dedicated area, and any size It is possible to incorporate a ROM with high performance into the gate array, and also
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Embodiment of the invention] An embodiment of the invention will be described below with reference to the drawings.

第3図は本発明の一実施例による半導体集積回
路装置を示す。図において、第2図と同一符号は
同一のものを示す。本実施例装置において、論理
回路領域18は論理素子と同様、同一列(行)の
情報記憶、番地選択トランジスタに横一列に配列
されたトランジスタを用いて構成されたROMを
内蔵しており、第2図に見られるようなROM専
用領域19は必要としない。
FIG. 3 shows a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate the same parts. In the device of this embodiment, the logic circuit area 18 has a built-in ROM configured using transistors arranged horizontally in the same column (row) as information storage and address selection transistors, as well as logic elements. The ROM dedicated area 19 as shown in FIG. 2 is not required.

また第4図は、第3図の論理回路領域に設けら
れるROMを示す。但し、このROMのビツト構
成は第1図と同じく16×1ビツト構成とする。図
において、15i〜15l,20a,6eはゲー
トアレイ内で横一列に配列されたROMトランジ
スタで、情報を記憶しているMOSトランジスタ
15i〜15lの各ソース(またはドレイン)は
ビツト線5fに、各ゲートは上位(または下位)
アドレス2,3を入力とする、各記憶ブロツク2
1a〜21d内の複数のMOSトランジスタ15
i〜15lを選択的に導通状態となすための第1
のデコーダを構成する行デコーダ1のデコード出
力4a〜4dに接続され、MOSトランジスタ1
5i,15kの各他方の電極は読出す番地を選択
するための番地選択トランジスタである
MOSFET20aのソース(またはドレイン)に
接続され、MOSFET20aのドレイン(または
ソース)は低電位点となる接地に、ゲートは下位
(または上位)アドレス11,12を入力とする、
記憶ブロツク21a〜21d内のMOSFET20
aを選択的に導通状態となすための第2のデコー
ダを構成する列デコーダ13のデコード出力14
aにそれぞれ接続されている。ビツト線5fを所
定電位に充電するためのMOSトランジスタ6e
のソース(またはドレイン)はビツト線5fに、
ゲートとドレイン(またはソース)は高電位点と
なる電源端子8に接続されている。ビツト線5f
は論理反転型バツフア9の入力に接続され、論理
反転型バツフア9の出力は情報出力端子10に接
続されている。記憶ブロツク21aのMOSトラ
ンジスタ15i〜15l,20aは上記の構造を
持つているが、他の記憶ブロツク21b〜21d
も同様なMOSトランジスタの接続構造を持つて
いる。記憶ブロツク21b〜21dは各々行デコ
ード出力4a〜4dとビツト線5fに記憶ブロツ
ク21aと同様に接続されている。また、列デコ
ード出力14aが記憶ブロツク21a内のMOS
トランジスタ20aのゲートに接続されているよ
うに列デコード出力14b〜14dはそれぞれ記
憶ブロツク21b〜21d内のMOSトランジス
タのゲートに接続されている。そして以上の記憶
ブロツク21a〜21dとMOSトランジスタ6
eおよび論理反転型バツフア9を横方向に結合し
てROM主体22が構成されている。
Further, FIG. 4 shows a ROM provided in the logic circuit area of FIG. 3. However, the bit configuration of this ROM is the same as in FIG. 1, 16×1 bit configuration. In the figure, ROM transistors 15i to 15l, 20a, and 6e are arranged horizontally in a row in the gate array, and the sources (or drains) of the MOS transistors 15i to 15l that store information are connected to the bit line 5f. Gate is upper (or lower)
Each memory block 2 takes addresses 2 and 3 as input.
A plurality of MOS transistors 15 within 1a to 21d
The first step for selectively bringing i to 15l into a conductive state.
is connected to decode outputs 4a to 4d of row decoder 1 constituting the decoder of
The other electrodes of 5i and 15k are address selection transistors for selecting the address to be read.
It is connected to the source (or drain) of MOSFET 20a, the drain (or source) of MOSFET 20a is grounded as a low potential point, and the gate receives lower (or upper) addresses 11 and 12 as input.
MOSFET 20 in memory blocks 21a to 21d
Decode output 14 of column decoder 13 constituting a second decoder for selectively bringing a into conduction state.
each connected to a. MOS transistor 6e for charging the bit line 5f to a predetermined potential
The source (or drain) of is connected to bit line 5f,
The gate and drain (or source) are connected to a power supply terminal 8, which is a high potential point. Bit line 5f
is connected to the input of the logic inversion type buffer 9, and the output of the logic inversion type buffer 9 is connected to the information output terminal 10. The MOS transistors 15i to 15l and 20a of the memory block 21a have the above structure, but the other memory blocks 21b to 21d
also has a similar MOS transistor connection structure. Memory blocks 21b-21d are connected to row decode outputs 4a-4d and bit line 5f, respectively, in the same way as memory block 21a. Further, the column decode output 14a is output from the MOS in the memory block 21a.
Column decode outputs 14b-14d are connected to the gates of MOS transistors in storage blocks 21b-21d, respectively, just as they are connected to the gate of transistor 20a. The above memory blocks 21a to 21d and the MOS transistor 6
The ROM main body 22 is configured by horizontally combining the ROM 2 and the logic inversion type buffer 9.

次に動作について説明する。ROMの全アドレ
スに対してあらかじめ必要とする情報が設定され
ているとする。
Next, the operation will be explained. It is assumed that the necessary information is set in advance for all addresses in the ROM.

今、第4図において行デコーダ1によつて上位
(または下位)アドレス入力2,3を、列デコー
ダ13によつて下位(または上位)アドレス入力
11,12をデコードした結果、行デコード出力
4a及び列デコード出力14aに電源電圧値が出
力されたとする。行デコード出力4aと列デコー
ド出力14aが電源電圧値を出力したことにより
MOSトランジスタ15i,20aが導通してあ
らかじめMOSトランジスタ6eにより電源電圧
値に充電されていたビツト線5fの電位を接地電
位付近まで下げる。ビツト線5fの電圧は論理反
転型バツフア9により論理が反転され、つまり電
源電圧値を出力し、情報出力端子10に論理
“1”(電源電圧値)を出力する。以上はROMの
選択したアドレスの情報が“1”の場合であつた
が、選択したアドレスの情報が“0”の場合は以
下の動作を行なう。
Now, in FIG. 4, as a result of decoding the upper (or lower) address inputs 2 and 3 by the row decoder 1 and the lower (or upper) address inputs 11 and 12 by the column decoder 13, the row decode output 4a and Assume that a power supply voltage value is output to the column decode output 14a. Because the row decode output 4a and column decode output 14a output the power supply voltage value,
MOS transistors 15i and 20a are turned on, and the potential of bit line 5f, which has been previously charged to the power supply voltage value by MOS transistor 6e, is lowered to near the ground potential. The logic of the voltage on the bit line 5f is inverted by the logic inversion type buffer 9, that is, the power supply voltage value is outputted, and the logic "1" (power supply voltage value) is outputted to the information output terminal 10. The above is a case where the information of the selected address of the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力
2,3,11,12に加え、行デコーダ1及び列
デコーダ13によりデコードされた結果、行デコ
ード出力4b及び列デコード出力14aに電源電
圧値が出力されたとする。デコード出力4b,1
4aが電源電圧値を出力することによりMOSト
ランジスタ15j,20aは導通するが、MOS
トランジスタ15jの他方の電極はMOSトラン
ジスタ20aのソース(またはドレイン)には接
続されていないためMOSトランジスタ6eによ
り電源電圧値にまで充電されているビツト線5f
電位は変化せず、その電位は論理反転型バツフア
9により論理が反転され、つまり接地電圧に近い
値を出力し、情報出力端子10に論理“0”(ほ
ぼ接地電圧値)を出力する。
Now, assume that the address from which information is to be read is added to address inputs 2, 3, 11, and 12, and as a result of being decoded by row decoder 1 and column decoder 13, a power supply voltage value is output to row decode output 4b and column decode output 14a. . Decode output 4b,1
4a outputs the power supply voltage value, MOS transistors 15j and 20a become conductive, but the MOS
Since the other electrode of the transistor 15j is not connected to the source (or drain) of the MOS transistor 20a, the bit line 5f is charged to the power supply voltage value by the MOS transistor 6e.
The potential does not change, and the logic of the potential is inverted by the logic inversion buffer 9, that is, a value close to the ground voltage is output, and a logic "0" (approximately the ground voltage value) is output to the information output terminal 10.

以上のように行デコード出力4a〜4dがゲー
トに接続されている記憶ブロツク21a〜21d
内のMOSトランジスタの他方の電極が、列デコ
ード出力14a〜14dにゲートが接続されてい
る同じ記憶ブロツク21a〜21d内のMOSト
ランジスタのソース(またはドレイン)に接続さ
れているかいないかにより記憶する情報の種類を
選択する。
As described above, the row decode outputs 4a to 4d are connected to the gates of the memory blocks 21a to 21d.
The information to be stored depends on whether the other electrode of the MOS transistor in the block is connected to the source (or drain) of the MOS transistor in the same storage block 21a to 21d whose gate is connected to the column decode outputs 14a to 14d. Select the type.

このように、本実施例では同一列(又は行)の
情報記憶、番地選択トランジスタにゲートアレイ
内で横一列に配列されているトランジスタを用い
てROMを構成するようにしたので、ゲートアレ
イ内にROM専用領域を設ける必要がなく、任意
の大きさのROMを効率よくゲートアレイ内に形
成できる効果がある。
In this way, in this embodiment, the ROM is constructed using transistors arranged horizontally in the gate array as information storage and address selection transistors in the same column (or row). There is no need to provide a dedicated ROM area, and a ROM of any size can be efficiently formed within the gate array.

さらに、記憶ブロツクの数及び記憶ブロツク内
のMOSトランジスタの数を行アドレス及び列ア
ドレスと共に増減させることにより、ゲートアレ
イ内に任意の大きさのROMを実現可能である。
Furthermore, by increasing or decreasing the number of memory blocks and the number of MOS transistors within the memory blocks along with the row and column addresses, it is possible to realize an arbitrarily large ROM within the gate array.

なお、上記実施例では第5図の如く記憶情報の
区別をMOSトランジスタ15i〜15lのソー
ス(またはドレイン)をMOSトランジスタ20
aのソース(またはドレイン)に接続するか否か
により行つていたが、記憶情報の区別を第6図の
如くMOSトランジスタ15i〜15lのゲート
を行デコード出力4a〜4dに接続するか、接地
に接続するかにより行つてもよい。
In the above embodiment, as shown in FIG.
The storage information is distinguished by connecting the gates of the MOS transistors 15i to 15l to the row decode outputs 4a to 4d or by connecting them to the ground, as shown in FIG. You can do this depending on whether you connect it to

つまり、第6図に示したものは、記憶ブロツク
21a内の複数のMOSトランジスタ15i〜1
5lの一方の電極が共通接続されて論理反転型バ
ツフア9に接続されるとともに他方の電極が共通
接続され、記憶ブロツク21a内の複数のMOS
トランジスタ15i〜15lのうちの選択された
MOSトランジスタ15i,15kのゲート電極
が行デコーダ出力4a,4cに接続され、記憶ブ
ロツク21aのMOSトランジスタ20aが記憶
ブロツク21a内のMOSトランジスタ15i〜
15lの共通接続された他方の電極と接地との間
に接続されるとともに、ゲート電極が列デコーダ
出力14aに接続されているものである。
In other words, what is shown in FIG.
One electrode of the transistor 5l is commonly connected to the logic inverting buffer 9, and the other electrode is commonly connected to the plurality of MOS transistors in the memory block 21a.
selected among transistors 15i to 15l
The gate electrodes of the MOS transistors 15i and 15k are connected to the row decoder outputs 4a and 4c, and the MOS transistor 20a of the memory block 21a is connected to the MOS transistors 15i to 15k in the memory block 21a.
15l and the other commonly connected electrode and ground, and the gate electrode is connected to the column decoder output 14a.

また上記実施例ではROMを横一列に配列され
たトランジスタ全部を用いて構成したが、該横一
列のトランジスタの一部のトランジスタにより構
成してもよい。また横一列のトランジスタだけで
は足らない場合は複数列のトランジスタを用いて
ROMを構成してもよい。
Further, in the above embodiment, the ROM is constructed using all the transistors arranged in a horizontal row, but it may be constructed using some of the transistors in the horizontal row. Also, if one horizontal row of transistors is not enough, use multiple rows of transistors.
ROM may also be configured.

また、上記実施例ではNチヤンネルMOSゲー
トアレイに適用した例について説明したが、相補
型MOSゲートアレイに適用してもよく、上記実
施例と同様の効果を奏する。
Further, in the above embodiment, an example in which the present invention is applied to an N-channel MOS gate array has been described, but the present invention may also be applied to a complementary MOS gate array, and the same effects as in the above embodiment can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明に係る半導体集積回路
装置によれば、他の論理回路とともに構成する
ROMを、同一直線上に配設され、かつ、同一直
線上に設けられたMOSトランジスタからなる複
数の情報記憶トランジスタ及び番地選択トランジ
スタとを有した複数の記憶ブロツクと、各記憶ブ
ロツク内の複数の情報記憶トランジスタを選択的
に導通状態となすための第1のデコーダと、記憶
ブロツク内の番地選択トランジスタを選択的に導
通状態となすための第2のデコーダとを備えたも
のとしたので、例えば、ゲートアレイ内に容易に
ROMを実現でき、ROM専用領域を設ける必要
はなく、論理素子と混在でき、LSIの高い使用効
率、高集積化の達成が可能である。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the semiconductor integrated circuit device is configured together with other logic circuits.
The ROM is arranged on the same straight line and has a plurality of information storage transistors and address selection transistors made of MOS transistors arranged on the same straight line, and a plurality of memory blocks in each memory block. Since the device is equipped with a first decoder for selectively turning on the information storage transistors and a second decoder for selectively turning on the address selection transistors in the memory block, for example, , easily within the gate array
ROM can be realized, there is no need to provide a dedicated ROM area, it can be mixed with logic elements, and it is possible to achieve high usage efficiency and high integration of LSI.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のROMの回路構成図、第2図は
ROM専用領域を設けたゲートアレイの構成図、
第3図はこの発明の一実施例による半導体集積回
路装置の構成図、第4図は第3図の装置内に形成
されるROMの一例を示す回路図、第5図は第4
図の一部を抜粋した回路図、第6図は第3図の装
置内に形成されるROMの他の一例を示す回路図
である。 1……行デコーダ、2,3……行アドレス入
力、4a〜4d……行デコード出力、5a〜5d
……ビツト線、5e……共通ビツト線、6a〜6
e,7a〜7d,15a〜15l,20a……N
チヤンネルMOSトランジスタ、8……電源端子、
9……論理反転型バツフア、10……情報出力端
子、11,12……列アドレス入力、13……列
デコーダ、14a〜14d……列デコード出力、
16……ゲートアレイチツプ、17……I/Oバ
ツフア、18……論理回路領域、19……ROM
専用領域、21a〜21d……記憶ブロツク、2
2……ROM主体。なお図中、同一符号は同一又
は相当部分を示す。
Figure 1 is a circuit diagram of a conventional ROM, Figure 2 is
A configuration diagram of a gate array with a dedicated ROM area,
3 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a ROM formed in the device of FIG. 3, and FIG.
FIG. 6 is a circuit diagram showing another example of the ROM formed in the device of FIG. 3, which is a partial excerpt of the circuit diagram. 1... Row decoder, 2, 3... Row address input, 4a-4d... Row decode output, 5a-5d
...Bit line, 5e...Common bit line, 6a-6
e, 7a-7d, 15a-15l, 20a...N
Channel MOS transistor, 8...Power terminal,
9...Logic inversion type buffer, 10...Information output terminal, 11, 12...Column address input, 13...Column decoder, 14a to 14d...Column decode output,
16... Gate array chip, 17... I/O buffer, 18... Logic circuit area, 19... ROM
Dedicated area, 21a to 21d...Memory block, 2
2... Mainly ROM. In the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 同一直線上に配設され、かつ、同一直線上に
設けられたMOSトランジスタからなる複数の情
報記憶トランジスタ及び番地選択トランジスタと
を有した複数の記憶ブロツク、 上記各記憶ブロツク内の複数の情報記憶トラン
ジスタを選択的に導通状態となすための第1のデ
コーダ、 上記記憶ブロツク内の番地選択トランジスタを
選択的に導通状態となすための第2のデコーダ、 を備えたROMを他の論理回路とともに構成した
ことを特徴とする半導体集積回路装置。 2 各記憶ブロツク内の複数の情報記憶トランジ
スタの一方の電極は共通接続されて記憶内容を読
み出すための読み出し手段に接続されるととも
に、ゲート電極に第1のデコーダからの信号を受
け、各記憶ブロツク内の番地選択トランジスタは
対応した記憶ブロツク内の複数の情報記憶トラン
ジスタのうちの選択された情報記憶トランジスタ
の他方の電極と低電位点との間に接続されるとと
もに、ゲート電極に第2のデコーダからの信号を
受けることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の半導体集積回路装置。 3 各記憶ブロツク内の複数の情報記憶トランジ
スタの一方の電極は共通接続されて記憶内容を読
み出すための読み出し手段に接続されるとともに
他方の電極が共通接続され、各記憶ブロツク内の
複数の情報記憶トランジスタのうちの選択された
情報記憶トランジスタのゲート電極に第1のデコ
ーダからの信号を受け、各記憶ブロツク内の番地
選択トランジスタは対応した記憶ブロツク内の複
数の情報記憶トランジスタの共通接続された他方
の電極と低電位点との間に接続されるとともに、
ゲート電極に第2のデコーダからの信号を受ける
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
導体集積回路装置。
[Scope of Claims] 1. A plurality of memory blocks arranged on the same straight line and having a plurality of information storage transistors and address selection transistors made of MOS transistors provided on the same straight line, each of the above-mentioned memory blocks a ROM comprising: a first decoder for selectively bringing on a plurality of information storage transistors in the memory block; and a second decoder for selectively bringing on an address selection transistor in the memory block. A semiconductor integrated circuit device characterized in that it is configured together with other logic circuits. 2 One electrode of the plurality of information storage transistors in each memory block is commonly connected to a readout means for reading out the memory contents, and the gate electrode receives a signal from the first decoder, and each memory block The address selection transistor in the memory block is connected between the other electrode of the information storage transistor selected from among the plurality of information storage transistors in the corresponding memory block and a low potential point, and has a gate electrode connected to a second decoder. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device receives a signal from the semiconductor integrated circuit device. 3 One electrode of the plurality of information storage transistors in each memory block is commonly connected and connected to a reading means for reading out the memory contents, and the other electrode is commonly connected, and the plurality of information storage transistors in each memory block The gate electrode of a selected information storage transistor among the transistors receives a signal from the first decoder, and the address selection transistor in each memory block is connected to the commonly connected other of the plurality of information storage transistors in the corresponding memory block. is connected between the electrode and the low potential point, and
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the gate electrode receives a signal from the second decoder.
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