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JPH0533542B2 - - Google Patents
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JPH0533542B2 - - Google Patents

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JPH0533542B2
JPH0533542B2 JP21783584A JP21783584A JPH0533542B2 JP H0533542 B2 JPH0533542 B2 JP H0533542B2 JP 21783584 A JP21783584 A JP 21783584A JP 21783584 A JP21783584 A JP 21783584A JP H0533542 B2 JPH0533542 B2 JP H0533542B2
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rom
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column
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JP21783584A
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Akira Yonezu
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/90Masterslice integrated circuits
    • H10D84/903Masterslice integrated circuits comprising field effect technology

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体集積回路装置、特にMOSゲ
ートアレイLSI(以下ゲートアレイと称す)に関
し、その内部に任意の大きさの読み出し専用記憶
回路(以下ROMと称す)が内蔵可能である半導
体集積回路装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, particularly a MOS gate array LSI (hereinafter referred to as gate array), and a read-only memory circuit (hereinafter referred to as The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device that can have a built-in ROM (ROM).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般にMOSトランジスタによるROMは第6図
に示す回路構成を持つている。ここでは16ワード
×1ビツト構成のROMについて説明する。図に
おいて、1は行デコーダであり、入力には上位
(又は下位)アドレス2,3が接続され、行デコ
ーダ出力4a〜4dは情報が伝搬するビツト線5
a〜5dと互いに接続されないように直交し、か
つ両者で網目状になるように配置されている。ビ
ツト線5a〜5dにはMOSトランジスタ6a〜
6dの各ソース(又はドレイン)と、ビツト線5
a〜5dのうちの必要とするビツト線を選択する
MOSトランジスタ7a〜7dの各ドレイン(又
はソース)とがそれぞれ接続されている。ビツト
線選択用MOSトランジスタ7a〜7dの各ソー
ス(又はドレイン)は全て論理反転型のバツフア
9の入力に接続され、該バツフア9の出力は情報
出力端子10に接続されている。ビツト線選択用
MOSトランジスタ7a〜7dの各ゲートは、下
位(又は上位)アドレス11,12がその入力に
接続されている列デコーダ13のデコード出力1
4a〜14dに接続されている。網目状に配置さ
れた行デコーダ出力4a〜4dとビツト網5a〜
5dとの交点には、情報を記憶しているMOSト
ランジスタ15a〜15hが配置されており、こ
れらの各ゲートは行デコード出力4a〜4dに、
各ソース(又はドレイン)はビツト線5a〜5d
に、各ドレイン(又はソース)は接地にそれぞれ
接続されている。
Generally, a ROM using MOS transistors has a circuit configuration shown in FIG. Here, a ROM with a 16 word x 1 bit configuration will be explained. In the figure, 1 is a row decoder, upper (or lower) addresses 2 and 3 are connected to its input, and row decoder outputs 4a to 4d are bit lines 5 through which information is propagated.
They are orthogonal to a to 5d so as not to be connected to each other, and are arranged so that they form a mesh. MOS transistors 6a to 6a are connected to bit lines 5a to 5d.
6d and each source (or drain) of bit line 5
Select the required bit line from a to 5d
The drains (or sources) of MOS transistors 7a to 7d are connected to each other. The sources (or drains) of the bit line selection MOS transistors 7a to 7d are all connected to the input of a logic inversion type buffer 9, and the output of the buffer 9 is connected to an information output terminal 10. For bit line selection
Each gate of the MOS transistors 7a to 7d is connected to the decode output 1 of the column decoder 13 to which the lower (or upper) address 11, 12 is connected.
4a to 14d. Row decoder outputs 4a to 4d and bit networks 5a to 4d arranged in a mesh pattern
MOS transistors 15a to 15h that store information are arranged at the intersections with 5d, and their respective gates output row decode outputs 4a to 4d.
Each source (or drain) is connected to a bit line 5a to 5d.
, each drain (or source) is connected to ground.

この情報記憶MOSトランジスタはROMが必要
とするアドレスに対する情報の種類によつてその
接続される交点及び数量が変化する。しかしなが
ら情報を記憶するMOSトランジスタは必ずゲー
トが行デコーダ出力に、ドレイン(又はソース)
はビツト線に、ソース(又はドレイン)は接地に
それぞれ接続されている。
The number and intersections of these information storage MOS transistors to which they are connected vary depending on the type of information for the address required by the ROM. However, in a MOS transistor that stores information, the gate always connects to the row decoder output, and the drain (or source) connects to the row decoder output.
is connected to the bit line, and its source (or drain) is connected to ground.

次に動作について説明する。第6図において、
情報を読み出すアドレスをアドレス入力2,3,
11,12に加える。行デコーダ1と列デコーダ
13によりアドレスがデコードされ、選ばれた出
力は電源電圧値を出力する。なお、その他のデコ
ード出力はほぼ接地電位となる。
Next, the operation will be explained. In Figure 6,
Input the address to read the information 2, 3,
Add to 11 and 12. The address is decoded by the row decoder 1 and column decoder 13, and the selected output outputs the power supply voltage value. Note that other decode outputs are approximately at ground potential.

ここで行デコーダ1によつてアドレス入力2,
3を、列デコーダ13によつてアドレス入力1
1,12をデコードした結果、行デコード出力4
b及び列デコード出力14bに電源電圧値が出力
されたとする。行デコード出力4bが電源電圧を
出力したことによりMOSトランジスタ15dが
導通して、予めMOSトランジスタ6bによつて
電源電圧値に充電されていたビツト線5bの電位
を接地電位付近まで下げる。ビツト線5bの電位
は列デコード出力14bが電源電圧値を出力する
ことにより導通状態にあるMOSトランジスタ7
bを通して共通ビツト線5eに伝搬する。共通ビ
ツト線5eに伝搬した電圧は論理反転型バツフア
9により論理が反転され、つまり電源電圧値を出
力し、情報出力端子10に論理“1”(電源電圧
値)を出力する。以上は、ROMの選択したアド
レスの情報が“1”の場合であつたが、選択した
アドレスの情報が“0”の場合は以下の動作を行
なう。
Here, address input 2,
3 to the address input 1 by the column decoder 13.
As a result of decoding 1 and 12, row decode output 4
Assume that the power supply voltage value is output to b and the column decode output 14b. As the row decode output 4b outputs the power supply voltage, the MOS transistor 15d becomes conductive and lowers the potential of the bit line 5b, which had been previously charged to the power supply voltage value by the MOS transistor 6b, to near the ground potential. The potential of the bit line 5b is changed to the MOS transistor 7 which is in a conductive state as the column decode output 14b outputs the power supply voltage value.
b to the common bit line 5e. The logic of the voltage propagated to the common bit line 5e is inverted by the logic inversion type buffer 9, that is, the power supply voltage value is outputted, and the logic "1" (power supply voltage value) is outputted to the information output terminal 10. The above is a case where the information of the selected address of the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力
2,3,11,12に加え、行デコーダ1及び列
デコーダ13によりデコードされた結果、行デコ
ード出力4b及び列デコード出力14cに電源電
圧値が出力されたとする。行デコード出力4bが
電源電圧値を出力することによりMOSトランジ
スタ15dは導通するがMOSトランジスタ15
dのソース(又はドレイン)はビツト線5cに接
続されていないため、MOSトランジスタ6cに
より予め充電されていたビツト線5cの電位は変
化しない。その結果、列デコード出力14cに出
力されている電源電圧値により導通している
MOSトランジスタ7cによりビツト線5cの電
位が共通ビツト線5eに伝搬し、その電圧は論理
反転型バツフア9により論理が反転され、つまり
接地電圧に近い値を出力し、情報出力端子10に
論理“0”(ほぼ接地電圧値)を出力する。
Now, assume that the address from which information is to be read is added to address inputs 2, 3, 11, and 12, and as a result of being decoded by row decoder 1 and column decoder 13, power supply voltage values are output to row decode output 4b and column decode output 14c. . When the row decode output 4b outputs the power supply voltage value, the MOS transistor 15d becomes conductive; however, the MOS transistor 15
Since the source (or drain) of d is not connected to the bit line 5c, the potential of the bit line 5c, which was previously charged by the MOS transistor 6c, does not change. As a result, conduction occurs due to the power supply voltage value output to the column decode output 14c.
The potential of the bit line 5c is propagated to the common bit line 5e by the MOS transistor 7c, and the logic of the voltage is inverted by the logic inversion type buffer 9, that is, a value close to the ground voltage is output, and a logic "0" is output to the information output terminal 10. ” (approximately the ground voltage value).

以上のように、行デコーダ1によりデコード出
力4a〜4dから選ばれた“1”出力と列デコー
ダ13により選択されたMOSトランジスタ7a
〜7dによつて共通ビツト線5eと導通したビツ
ト線5a〜5dとが交差する位置にMOSトラン
ジスタを置くか置かないかにより情報の種類を決
定する。
As described above, the "1" output selected from the decode outputs 4a to 4d by the row decoder 1 and the MOS transistor 7a selected by the column decoder 13
The type of information is determined by whether or not a MOS transistor is placed at a position where the common bit line 5e and the conductive bit lines 5a to 5d intersect with each other by 7d.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の半導体集積回路装置は以上のように構成
されているので、ROMをゲートアレイに内蔵し
ようとする場合、ゲートアレイ内の横構造のトラ
ンジスタ列上にはROMは実現しにくく、第7図
に示す如くゲートアレイチツプ16上に論理回路
領域18の他にROM専用領域19を設けなけれ
ばならないことになる。また内蔵しようとする
ROMの大きさもROM専用領域の大きさに制限
されて自由度がなく、またROMの大きさが
ROM専用領域よりも小さい場合、ROM専用領
域の使用効率が悪くなるなどの欠点があつた。な
お第7図中、17はI/Oバツフアである。
Conventional semiconductor integrated circuit devices are configured as described above, so when trying to incorporate ROM into a gate array, it is difficult to implement ROM on a horizontally structured transistor row within the gate array. As shown, in addition to the logic circuit area 18, a ROM dedicated area 19 must be provided on the gate array chip 16. I'll try to incorporate it again
The size of the ROM is also limited by the size of the ROM dedicated area, so there is no flexibility, and the size of the ROM is
If it is smaller than the ROM-only area, there are drawbacks such as poor usage efficiency of the ROM-only area. In FIG. 7, 17 is an I/O buffer.

この発明は、上記のような従来のものの欠点を
除去するためになされたもので、ROM専用領域
を設けずにROMを論理回路と混在させることが
でき、任意の大きさを持つたROMをゲートアレ
イに内蔵可能であり、しかもLSI内のMOSトラ
ンジスタの使用効率がよい半導体集積回路装置を
提供することを目的としている。
This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and allows ROM to be mixed with logic circuits without providing a ROM-dedicated area. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that can be built into an array and has high efficiency in the use of MOS transistors within an LSI.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る半導体集積回路装置は同一列
(又は行)の情報記憶トランジスタと番地選択ト
ランジスタとに同一直線上に配列されたトランジ
スタを用いてROMを構成し、かつ、情報記憶ト
ランジスタを各列(又は行)の“1”あるいは
“0”のいずれか一方を記憶すべきアドレスだけ
に設けるようにしたものである。
A semiconductor integrated circuit device according to the present invention configures a ROM using transistors arranged on the same straight line as information storage transistors and address selection transistors in the same column (or row), and also includes information storage transistors in each column (or row). Either "1" or "0" in the address (or row) is provided only at the address to be stored.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、情報記憶トランジスタと
番地選択トランジスタとを直結してROMが構成
され、かつ情報記憶トランジスタは同じ行(又は
列)に記憶すべき2値情報のうち“1”または
“0”のいずれか一方を記憶すべきアドレスのみ
に設けられるから、行(又は列)方向に配列され
たトランジスタを用いてROMが構成され、LSI
内のMOSトランジスタの使用効率が大きくなる。
In this invention, a ROM is configured by directly connecting an information storage transistor and an address selection transistor, and the information storage transistor selects "1" or "0" among binary information to be stored in the same row (or column). Since either one is provided only for addresses that are to be stored, a ROM is configured using transistors arranged in the row (or column) direction, and an LSI
The efficiency of use of the MOS transistors within is increased.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図について説明す
る。第1図は本発明の1実施例による半導体集積
回路装置を示し、本実施例装置において、論理回
路領域18は論理素子と同様、同一列(又は行)
の情報記憶、番地選択トランジスタに横一列に配
列されたトランジスタを用いて構成されたROM
を内蔵しており、第7図に見られるようなROM
専用領域19は必要としない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. In the device of this embodiment, the logic circuit area 18 is located in the same column (or row) as the logic elements.
A ROM that uses transistors arranged horizontally in an address selection transistor to store information in
It has a built-in ROM as shown in Figure 7.
The dedicated area 19 is not required.

ここでゲートアレイに内蔵すべきROMをブロ
ツクに分け、各ブロツクを隣接させることにより
該ROM回路を成立させる過程を第2,3,4図
を用いて順に示す。
Here, the process of forming the ROM circuit by dividing the ROM to be built into the gate array into blocks and making each block adjacent to each other will be sequentially explained using FIGS. 2, 3, and 4.

第2図において、32,20〜25はブロツク
であり、これらはゲートアレイの基本構成単位で
あるベーシツクセルからなり、このベーシツクセ
ルは1対のNチヤネルエンハンスメント,デプレ
ツシヨントランジスタから構成されている。そし
てブロツク32はXアドレス入力端子33a〜3
3dを持ち、各Xアドレス入力端子にはブロツク
内部配線26〜29が接続され、該内部配線の他
の端はブロツク32の右辺上方のある決つた位置
にある。ブロツク20は内部にトランジスタ20
tを持ち、これはエンハンスメントトランジスタ
により実現されている。そしてこのMOSトラン
ジスタ20tのゲートはYアドレス入力端子34
に、ソースは接地に、ドレインはブロツク内配線
31にそれぞれ接続されている。ブロツク20内
のブロツク内配線31の端はブロツク20左辺下
方の定位置に配置してある。ブロツク21は内部
にMOSトランジスタ6eと論理反転型バツフア
9を持つている。MOSトランジスタ6eのゲー
トとドレインは電源端子8に、ソースはブロツク
内配線30にそれぞれ接続されている。また論理
反転型バツフア9の入力はブロツク内配線30
に、出力は情報出力端子35に接続されている。
ブロツク22〜25は各々ブロツク内にMOSト
ランジスタ22a〜25aを持ち、MOSトラン
ジスタ22a〜25aのソースは各ブロツク内配
線31に、ドレインは各ブロツク内配線30に接
続されている。各MOSトランジスタ22a〜2
5aの各ゲートはそれぞれデプレツシヨントラン
ジスタ上の一層目配線により実現されたブロツク
内配線26〜29の内、他のブロツクと同じブロ
ツク内配線にならないように二層目配線により接
続されている。
In FIG. 2, blocks 32, 20 to 25 are comprised of basic cells, which are the basic constituent units of a gate array, and each basic cell is comprised of a pair of N-channel enhancement and depletion transistors. The block 32 has X address input terminals 33a to 3.
3d, and each block internal wiring 26 to 29 is connected to each X address input terminal, and the other end of the internal wiring is located at a certain position above the right side of the block 32. The block 20 has a transistor 20 inside.
t, which is realized by an enhancement transistor. The gate of this MOS transistor 20t is the Y address input terminal 34.
Furthermore, the source is connected to the ground, and the drain is connected to the intra-block wiring 31, respectively. The end of the intra-block wiring 31 in the block 20 is placed at a fixed position below the left side of the block 20. The block 21 has a MOS transistor 6e and a logic inversion type buffer 9 inside. The gate and drain of the MOS transistor 6e are connected to the power supply terminal 8, and the source is connected to the intra-block wiring 30, respectively. In addition, the input of the logic inversion type buffer 9 is connected to the internal wiring 30.
The output is connected to the information output terminal 35.
Each of the blocks 22 to 25 has MOS transistors 22a to 25a within the block, and the sources of the MOS transistors 22a to 25a are connected to each intrablock wiring 31, and the drains are connected to each intrablock wiring 30. Each MOS transistor 22a-2
Each gate of 5a is connected by a second layer wiring so as not to be the same intrablock wiring as another block among the intrablock wirings 26 to 29 realized by the first layer wiring on the depletion transistor.

第3図は第2図に示した基本ブロツクをROM
が必要とする情報の並び方にし、さらにROMの
機能を果たすように各ブロツクを必要数用意し、
並び変えた図である。第4図は第3図に示したブ
ロツクを隣接させてROM本体36とし、回路機
能が働くようにした図である。
Figure 3 shows the basic block shown in Figure 2 as a ROM.
Arrange the information required by the ROM, prepare the necessary number of each block to perform the ROM function,
This is a rearranged diagram. FIG. 4 is a diagram in which the blocks shown in FIG. 3 are placed adjacent to each other to form a ROM main body 36, so that the circuit functions are activated.

第4図においては、第2図,第3図にて別れて
いたブロツク内配線26〜30は一本の配線とな
り、ブロツク内配線31はブロツク22〜25が
隣接した場合、隣接したブロツクのブロツク内配
線31と一本になつている。
In FIG. 4, the intra-block wiring 26 to 30, which were separated in FIGS. It is connected to the internal wiring 31.

第5図はROM本体36をROMとして使うた
めの構成図であり、行デコーダ1に上位アドレス
2,3が接続され、行デコーダ出力4a〜4dは
それぞれROM本体36の行デコード入力33a
〜33dに接続されている。下位アドレス11,
12は列デコーダ13に接続され、列デコード出
力14a〜14dはROM本体36の列デコード
入力34a〜34dにそれぞれ接続されている。
情報出力10には該ROM本体36の情報出力端
子35が接続されている。なおここでトランジス
タ20a〜20dは番地選択トランジスタとなつ
ており、またトランジスタ15i〜15mは情報
記憶トランジスタとなつており、これは“1”を
記憶すべきアドレスのみに設けられている。
FIG. 5 is a configuration diagram for using the ROM main body 36 as a ROM, in which the upper addresses 2 and 3 are connected to the row decoder 1, and the row decoder outputs 4a to 4d are the row decode inputs 33a of the ROM main body 36, respectively.
~33d. Lower address 11,
12 is connected to a column decoder 13, and column decode outputs 14a to 14d are connected to column decode inputs 34a to 34d of the ROM main body 36, respectively.
The information output terminal 35 of the ROM body 36 is connected to the information output 10. Note that the transistors 20a to 20d are address selection transistors, and the transistors 15i to 15m are information storage transistors, which are provided only at addresses where "1" is to be stored.

次に動作について説明する。なお、この動作は
各トランジスタブロツクが接続したROM本体が
動作可能であるように周辺の回路を接続した図で
ある第5図について行なう。ROMの全アドレス
に対して予め必要とする情報が設定されていると
する。
Next, the operation will be explained. Note that this operation is performed with reference to FIG. 5, which is a diagram in which peripheral circuits are connected so that the ROM body to which each transistor block is connected is operable. It is assumed that necessary information is set in advance for all addresses in the ROM.

今、第5図において行デコーダ1によつて上位
(又は下位)アドレス入力2,3をデコードし、
列デコーダ13によつて下位(又は上位)アドレ
ス入力11,12をデコードした結果、行デコー
ド出力4a及び列デコード出力14aに電源電圧
値が出力されたとする。行デコード出力4aと列
デコード出力14aが電源電圧値を出力したこと
によりMOSトランジスタ15j,20aが導通
して予めMOSトランジスタ6eにより電源電圧
値に充電されていたビツト線5fの電位を接地電
位付近まで下げる。ビツト線5fの電圧は論理反
転型バツフア9により論理が反転され、つまり電
源電圧値を出力し、情報出力端子10に論理
“1”(電源電圧値)を出力する。以上はROMの
選択したアドレスの情報が“1”の場合であつた
が、選択したアドレスの情報が“0”の場合は以
下の動作を行なう。
Now, in FIG. 5, the upper (or lower) address inputs 2 and 3 are decoded by the row decoder 1,
Assume that as a result of decoding the lower (or upper) address inputs 11 and 12 by the column decoder 13, a power supply voltage value is output to the row decode output 4a and the column decode output 14a. As the row decode output 4a and the column decode output 14a output the power supply voltage value, the MOS transistors 15j and 20a become conductive, and the potential of the bit line 5f, which had been previously charged to the power supply voltage value by the MOS transistor 6e, drops to near the ground potential. Lower it. The logic of the voltage on the bit line 5f is inverted by the logic inversion type buffer 9, that is, the power supply voltage value is outputted, and the logic "1" (power supply voltage value) is outputted to the information output terminal 10. The above is a case where the information of the selected address of the ROM is "1", but if the information of the selected address is "0", the following operation is performed.

今、情報を読み出すアドレスをアドレス入力
2,3,11,12に加え、行デコーダ1及び列
デコーダ13によりデコードされた結果、行デコ
ード出力4b及び列デコーダ出力14aに電源電
圧値が出力されたとする。デコード出力4b,1
4aが電源電圧値を出力することによりMOSト
ランジスタ15m,20aは導通するが、MOS
トランジスタ15mのソース(又はドレイン)と
MOSトランジスタ20aのドレイン(又はソー
ス)とは接続されていないため、MOSトランジ
スタ6eにより電源電圧値にまで充電されている
ビツト線5fの電位は変化せず、その電位は論理
反転型バツフア9により論理が反転され、つまり
接地電圧に近い値を出力し、情報出力端子10に
論理“0”(ほぼ接地電圧値)を出力する。
Now, assume that the address from which information is to be read is added to address inputs 2, 3, 11, and 12, and as a result of being decoded by row decoder 1 and column decoder 13, a power supply voltage value is output to row decode output 4b and column decoder output 14a. . Decode output 4b,1
4a outputs the power supply voltage value, MOS transistors 15m and 20a become conductive, but the MOS
Source (or drain) of transistor 15m
Since it is not connected to the drain (or source) of the MOS transistor 20a, the potential of the bit line 5f, which is charged to the power supply voltage value by the MOS transistor 6e, does not change, and the potential is changed to a logic level by the logic inverting buffer 9. is inverted, that is, outputs a value close to the ground voltage, and outputs logic "0" (approximately the ground voltage value) to the information output terminal 10.

このように、本実施例では同一列(又は行)の
情報記憶,番地選択トランジスタにゲートアレイ
内で横一列に配列されているトランジスタを用い
てROMを構成するようにしたので、ROM専用
領域を設けることなくROMをゲートアレイ内に
形成することができる。
In this way, in this embodiment, the ROM is constructed using transistors arranged horizontally in the gate array as information storage and address selection transistors in the same column (or row), so the ROM-dedicated area is ROM can be formed within the gate array without the provision of a ROM.

また、基本ブロツク内の行アドレス線数及び番
地選択トランジスタを持つ基本ブロツクの数を行
アドレス及び列アドレスと共に増減させることに
より、任意の大きさのROMを実現可能である。
Further, by increasing or decreasing the number of row address lines in a basic block and the number of basic blocks having address selection transistors together with the row address and column address, it is possible to realize a ROM of any size.

さらに、“1”情報を記憶すべきアドレスのみ
に情報記憶トランジスタを設けるようにしたの
で、ゲートアレイ内のトランジスタの使用効率を
極めて大きくすることができる。
Furthermore, since information storage transistors are provided only at addresses where "1" information is to be stored, the efficiency of use of transistors in the gate array can be extremely increased.

なお、上記実施例では記憶する情報が“1”の
アドレスのみに記憶トランジスタを持つブロツク
を使用したが、逆に記憶する情報が“0”のアド
レスのみに、記憶トランジスタを持つブロツクを
使用してもよい。この場合、論理反転型バツフア
は用いず、論理非反転型バツフアを使用する。ま
た、上記実施例ではNチヤンネルMOSゲートア
レイに適用した例について説明したが、相補型
MOSゲートアレイに適用してもよく、上記実施
例と同様の効果を奏する。
Note that in the above embodiment, a block with a memory transistor is used only for the address where the information to be stored is "1", but conversely, a block with a memory transistor is used only for the address where the information to be stored is "0". Good too. In this case, a logic non-inversion type buffer is used instead of a logic inversion type buffer. In addition, although the above embodiment describes an example applied to an N-channel MOS gate array, complementary type
The present invention may be applied to a MOS gate array, and the same effects as those of the above embodiments can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明に係る半導体集積回路
装置によれば、ROMをゲートアレイに内蔵する
場合、同一列(又は行)の情報記憶トランジスタ
と番地選択トランジスタにゲートアレイ内の同一
直線上に配列されたMOSトランジスタを用いて
ROMを構成し、かつ情報記憶トランジスタを、
同じ列(又は行)内の“1”または“0”のいず
れか一方を記憶すべきアドレスのみに設けるよう
にしたので、ゲートアレイ内に容易にROMが実
現でき、かつ記憶トランジスタもROMの持つア
ドレスの全てについて必要とせず、情報の種類の
うち一方のみに形成すればよく、ROM専用領域
を設ける必要もなく、論理素子と混在でき、LSI
の高い使用効率、高集積化の達成が可能である。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, when a ROM is built into a gate array, the information storage transistor and the address selection transistor in the same column (or row) are arranged on the same straight line in the gate array. using a MOS transistor
configuring ROM and information storage transistors,
Since either "1" or "0" in the same column (or row) is provided only at the address to be stored, ROM can be easily implemented in the gate array, and the storage transistor can also be used as ROM. It is not necessary for all addresses, it only needs to be formed for one of the types of information, there is no need to provide a dedicated ROM area, it can be mixed with logic elements, and LSI
It is possible to achieve high usage efficiency and high integration.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の1実施例による論理ゲート領
域だけの半導体集積回路装置の構成図、第2図は
この発明を構成するブロツクの回路構成図、第3
図は第2図のブロツクを並べた図、第4図は第2
図のブロツクからなるROM本体の図、第5図は
第4図のROM本体を使用した場合のROMの構
成図、第6図は従来のROMの構成図、第7図は
ROM専用領域を有するゲートアレイの構成図で
ある。 1…行デコーダ、2,3…下位アドレス入力、
4a〜4d…行デコード出力、5a〜5e…ビツ
ト線、6a〜6d,7a,20t,20a〜20
d,21a,22a,23a,24a,25a…
MOSトランジスタ、8…電源端子、9…論理反
転型バツフア、10…情報出力、11,12…上
位アドレス入力、13…列デコーダ、14a〜1
4d…列デコード出力、16…ゲートアレイチツ
プ、17…I/Oバツフア、18…論理回路領
域、19…ROM専用領域、20〜25,32…
基本ブロツク、26〜31…基本ブロツク内配
線、33a〜33d…行アドレス入力端子、34
…列アドレス入力端子、35…情報出力端子、3
6…ROM本体。なお図中同一符号は同一又は相
当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device including only a logic gate area according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit block diagram of blocks constituting the present invention, and FIG.
The figure is a diagram arranging the blocks in Figure 2, and Figure 4 is a diagram of the blocks in Figure 2.
Figure 5 is a diagram of the ROM body consisting of the blocks shown in Figure 5. Figure 5 is a diagram of the ROM configuration when the ROM body of Figure 4 is used. Figure 6 is a diagram of the configuration of a conventional ROM. Figure 7 is
FIG. 2 is a configuration diagram of a gate array having a ROM dedicated area. 1... Row decoder, 2, 3... Lower address input,
4a-4d... Row decode output, 5a-5e... Bit line, 6a-6d, 7a, 20t, 20a-20
d, 21a, 22a, 23a, 24a, 25a...
MOS transistor, 8...Power supply terminal, 9...Logic inversion type buffer, 10...Information output, 11, 12...Upper address input, 13...Column decoder, 14a-1
4d...Column decode output, 16...Gate array chip, 17...I/O buffer, 18...Logic circuit area, 19...ROM dedicated area, 20-25, 32...
Basic block, 26-31... Wiring within basic block, 33a-33d... Row address input terminal, 34
...Column address input terminal, 35...Information output terminal, 3
6...ROM body. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 MOSトランジスタにより構成されたROMを
含むMOSゲートアレイLSIにおいて、 上記ROMの同じ列(又は行)の情報記憶トラ
ンジスタと該列(又は行)の番地選択トランジス
タとは同一直線上に配列されたトランジスタを用
いて形成され、 上記番地選択トランジスタは該ROMの列デコ
ーダ出力と同数設けられ、ゲートに当該列デコー
ダの出力が接続されるとともに一方の主電極が所
定電位に接続され、 かつ上記情報記憶トランジスタは2値情報のう
ちの一方を記憶すべきアドレスのみに設けられ、
ゲートが該ROMの所要の行デコーダ出力に接続
されるとともに、一方の主電極が当該アドレスを
選択する上記番地選択トランジスタの他方の主電
極に、他方の主電極が共通のビツト線にそれぞれ
接続され、 情報記憶トランジスタが設けられないアドレス
を選択する上記番地選択トランジスタの他方の主
電極は開放状態となつていることを特徴とする半
導体集積回路装置。
[Claims] 1. In a MOS gate array LSI including a ROM configured with MOS transistors, the information storage transistor in the same column (or row) of the ROM and the address selection transistor in the column (or row) are the same It is formed using transistors arranged in a line, and the address selection transistors are provided in the same number as the column decoder outputs of the ROM, and the output of the column decoder is connected to the gate, and one main electrode is connected to a predetermined potential. , and the information storage transistor is provided only at an address where one of the binary information is to be stored,
A gate is connected to a desired row decoder output of the ROM, one main electrode is connected to the other main electrode of the address selection transistor that selects the address, and the other main electrode is connected to a common bit line. . A semiconductor integrated circuit device, wherein the other main electrode of the address selection transistor that selects an address for which no information storage transistor is provided is in an open state.
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