JPH0332555B2

JPH0332555B2 -

Info

Publication number: JPH0332555B2
Application number: JP58128174A
Authority: JP
Inventors: Minoru Furukawa; Masahiro Arimoto; Hiroaki Tagawa
Original assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1983-07-14
Filing date: 1983-07-14
Publication date: 1991-05-13
Also published as: JPS6019792A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は次の一般式で表わされるセフアロスポ
リン誘導体およびその塩に関するものである。式中、R₁は

【式】または

【式】を、R₂は水素または低級アルキルを、R₃は水素または低級アルキルを示す。本発明者らは、種々のセフアロスポリン誘導体
について研究した結果、前記式〔）で表わされ
る新規化合物が広くグラム陰性菌および陽性菌に
対し高い抗菌力を示すことを知り、本発明を完成
した。本発明化合物およびびその合成中間体の構造の
一部であるチアゾール部は、２−アミノチアゾー
ル体と２−イミノチアゾリン体の互変異性体をと
ると考えられる。本明細書を通じて構造的にもま
たその名称も２−アミノチアゾール化合物として
表わすが、限定を意味するものではない。同様に、本発明化合物およびその中間体の構造
の一部である１，２，４−トリアゾールおよび
１，２，３−トリアゾールは水素の置換位置の異
なる数種の互変異性構造をとることがあると考え
られる。これらを本明細書では一種の構造で代表
して説明するが、限定を意味するものではない。更に、オキシイミノ基を有する本発明化合物お
よびその合成中間体には、シン異性体(J)およびア
ンチ異性体(K)が存在し、その一方または混合物を
得ることが出来る。しかし一般に、シン異性体が
抗菌活性に於いて優れている。

【式】

【式】次に、本発明化合物（）の製法を詳述する。式（R₄は水素、トリフエニルメチル（トリチルと
略称する）、ホルミル、第三級ブトキシカルボニ
ルなどペプチドやβ−ラクタム化合物の合成に使
用されるアミノ基の保護基を示す。R₅は

【式】または

【式】であり、 R₆は水素またはトリチル、ホルミル、第三級ブ
トキシカルボニルなどペプチドやβ−ラクタム化
合物の合成に使用されるアミノ基の保護基を示
す）で示される化合物で、式で示される化合物をアシル化して、式で示される化合物を得る。このアシル化反応は縮
合剤の存在下に行なうことが出来る。縮合剤とし
ては、たとえばジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、ジメチルホルムアミドとオキシ塩化リンなど
から製造されるいわゆるビルスマイヤー試薬など
が挙げられる。また化合物（）を反応性誘導
体、たとえば酸ハライド、活性エステルなどのよ
うな活性体に変換した後、アシル化を行なうこと
が出来る。好適な例としては、酸クロリド、Ｎ−
ドロキシサクシンイミドや１−ヒドロキシベンズ
トリアゾールなどのＮ−ヒドロキシ化合物とのエ
ステルなどが挙げられる。この反応は、塩化メチ
レン、テトラドロフラン、酢酸エチル、ジメチル
ホルムアミドまたはその他の反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒中で行われる。また、これらの反応
は、使用する化合物〔〕の種類に応じて適宜選
択される。このようにして得られた化合物〔〕から、要
すれば保護基を除去することにより式〔〕で表
わされる化合物を得ることが出来る。保護基の除
去反応は、水水分解、還元などによつて行なうこ
とが出来る。酸を用いる加水分解は最も一般的な方法の一つ
であり、トリチル、ホルミル、第三級ブトキシカ
ルボニルなどの保護基の除去に好ましい方法であ
る。使用される酸としては、ギ酸、トリフルオル
酢酸などの有機酸または塩酸などの無機酸が挙げ
られる。この場合、反応に悪影響を与えない溶媒
を用いても良いし、またアニソールやチオアニソ
ールなどのスカベンジヤーの存在下で行なうこと
が出来る。塩基による加水分解は、アシル基の除去などに
用いられ、水酸ナトリウムなどの無機塩基やトリ
エチルアミンなどの有機塩基が使用される。ま
た、トリクロロエトキシカルボニルの様なハロア
ルコキシカルボニル基などの場合には還元反応に
より保護基の除去を行なうことが出来る。また、化合物〔〕を用いて、式（R₇は低級アルキルを、R₈は水素または第三級
ブチルやベンズヒドリルなどβ−ラクタム化合物
の合成に使用されるカルボン酸の保護基を示す）
で示される化合物をアシル化して、式で示される化合物を得た後、要すれば保護基を除
去して、式で示される化合物を得ることが出来る。アシル化
反応は、化合物〔〕で化合物〔〕をアシル化
する場合と同様に、また保護基の除去反応は、化
合物〔〕から保護基を除去する場合と同様の条
件で行なうことが出来る。このようにして得た化
合物〔〕と式で示される化合物を反応せしめることによつても
式〔）で示される化合物を得ることが出来る。
この〔〕と〔〕との反応は、ヨウ化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウムまたはカリ
ウムチオシアナートなどの存在下で行なつても良
い。また、反応は、PH５〜８の水性溶媒中実施す
るのが有利である。更に、前出の化合物〔〕を用いて、式（Ｘはクロルやブロムなどのハロゲンを示す）で
示される化合物をアシル化して、式で示される中間体を得る方法がある。アシル化反
応は、化合物〔〕で〔〕をアシル化する場合
と同様の反応で行なうことが出来る。次いで、中間体〔Ｘ〕を前出の化合物〔〕と
反応せしめると、式で示される化合物を得る。この反応は、アセト
ン、ジクロルメタン、アセトニトリルその他反応
に悪影響を及ぼさない溶媒中で行なうことが出来
る。次いで、中間体〔XI〕のスルホキシドをスルフ
イドとした後、保護基を脱離すれば化合物〔）
を得ることが出来る。スルホキシド体から脱酸素
してスルフイド体とする反応は、三塩化燐、三臭
化燐、アセチルクロリドと塩化第一スズ、アセチ
ルクロリドとヨウ化カリウムなどの試薬を用いて
行なうことが出来る。また、保護基の除去反応
は、化合物〔〕から保護基を除去する場合と同
様の反応で行なうことが出来る。式〔〕の化合物は、アルカリ金属、アルカリ
土類金属またはそれらの誘導体、例えば水酸化
物、炭酸塩などと常法により反応させ、４−位カ
ルボキシラートがアルカリ金属またはアルカリ土
類金属の塩となつた型として得ることも可能であ
る。式〔〕の化合物は適当な酸付加塩を形成させ
ることも出来、例えば一塩酸乃至三塩酸塩として
得ることも出来るし、ギ酸、マレイン酸など有機
酸との塩として得ることが出来る。化合物〔）の合成に使用した化合物〔〕
は、例えば式で示される化合物と、式 NH₂OCH₂−R₅ 〔〕で示される化合物を反応させることによつて得る
ことが出来る。反応溶媒としては、水、エタノー
ルなの他、反応に悪影響を及ぼさない溶媒を用い
ることが出来る。上記化合物〔〕は、例えばＮ−ヒドロキシ
フタルイミドに、式 XCH₂−R₅ 〔〕で示される化合物を反応させるか、または式 HOCH₂−R₅ 〔〕で示される化合物をトリフエニルフオスフインお
よびアゾジカルボン酸ジエチルなどの試薬を用い
て反応させて、式で示される化合物を得た後、この化合物をヒドラ
ジンまたは塩酸などと処理することにより得るこ
とが出来る。また、R₅の構造中のR₆が水素であ
る化合物〔〕に、保護基を導入する反応を行
なつた後、例えばヒドラジンなどと処理すれば、
R₆がトリチル、ホルミル、第三級ブトキシカル
ボニルなどである対応する化合物〔〕を得る
ことが出来る。本発明化合物は、広い抗菌スペクトルと高い抗
菌活性を示すが、特に従来のセフエム系化合物に
耐性を示すPs.エルギノーザに対しても抗菌活性
を示すという特長を有している。本発明のいくつかの化合物について、セフオタ
キシムと抗菌力を対比すると次表の通りである。

〔工程〕

エチルＮ−トリチル−１，２，４−トリアゾ
ール−３−カルボキシラートエチル１，２，４−トリアゾール−３−カル
ボキシラート0.86ｇを塩化メチレン40ml中に懸濁
させ、トリチルクロリド1.67ｇおよびトリエチル
アミン1.0mlを滴下し、室温にて１時間撹拌する。
10％クエン酸溶液、次いで飽和食塩水で洗浄後無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し、淡
黄色油の標記化合物2.69ｇを得る。 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 1.37（3H、ｔ、Ｊ−７Hz、CH₂ CH₃ ） 4.46（2H、ｑ、Ｊ−７Hz、CH₂ CH₃） 7.1〜7.4（15H、ｍ、トリチル） 8.02（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕３−〔ヒドロキシメチル）−Ｎ−トリチル−１，
２，４−トリアゾール水素化リチウムアルミニウム0.23ｇをテトラヒ
ドロフラン30mlに加え、この懸濁液に、氷冷撹拌
下、〔工程〕で得た化合物2.65ｇのテトラヒド
ロフラン10ml溶液を滴下する。80℃で加熱還流１
時間後、冷却。水を注加。濾過し、濾液を減圧乾
固し、残渣をエーテルで洗えば、融点208〜212℃
の標記化合物1.30ｇを得る。 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 4.73（2H、ｓ、−CH₂ OH） 7.0〜7.4（15H、ｍ、トリチル） 7.95（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）元素分析 O₂₂H₁₉N₃Oに対する計算値Ｃ 77.39、Ｈ 5.61、Ｎ 12.31 実測値Ｃ 77.29、Ｈ、5.85、Ｎ 12.12 〔工程〕３−（フタルイミドオキシメチル）−Ｎ−トリチ
ル−１，２，４−トリアゾール〔工程〕で得た化合物1.02ｇをテトラヒドロ
フラン30mlに一旦加温して溶解し、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド0.49ｇ、トリフエニルホスフイン
0.79ｇおよびアゾジカルボン酸エチル0.57ｇを室
温にて順次加え、一晩撹拌する。溶媒留去後、シ
リカゲルを担体とするカラムクロマトグラフイー
（１回目、クロロホルム：メタノール−19：１；
２回目、酢酸エチル：ベンゼン＝１：４）にて２
回精製すれば、融点254〜257℃の標記化合物0.56
ｇを得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1： 1780、1730、1490、1440 CW−NMR（CDCl₃ ppm） 5.28（2H、ｓ、NOCH₂） 7.0〜7.4（15H、ｍ、トリチル） 7.75（4H、ｓ、フタルイミド） 7.97（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕３−（アミノオキシメチル）−Ｎ−トリチル−
１，２，４−トリアゾール〔工程〕で得た化合物0.55ｇをエタノール20
mlに懸濁させ、ヒドラジンヒドラート60mgのエタ
ノール溶液を加えた後、80℃にて1.5時間加熱撹
拌する。析出した結晶を濾過にて除き、溶媒留
去。残渣にクロロホルムを加え、再び不溶物を濾
過にて除き、濾液を飽和食塩水で洗浄する。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒に留去後、残渣を
エーテルで洗えば、融点105〜110℃の標記化合物
0.40ｇを得る。 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 4.80（2H、ｓ、NOCH₂−） 5.60（2H、br、H₂NO−） 7.1〜7.4（15H、ｍ、トリチル） 7.93（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−｛（Ｎ−トリチル−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル）メトキシイミノ｝酢酸〔工程〕で得た化合物0.40ｇをエタノール15
mlに溶解し、（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）グリオキシル酸0.40ｇを加え、室温に
て１時間撹拌する。溶媒留去後、残渣をクロロホ
ルムに溶解し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒留去後、残渣をエーテルで洗えば、融点128
〜135℃の標記化合物0.73ｇを得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1：1710 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 5.50（2H、ｓ、NOCH₂−） 6.75（1H、ｓ、チアゾール５位のＨ） 7.0〜7.4（15H、ｍ、トリチル） 8.03（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕 7β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−｛（１，２，４−トリアゾール−３−イル）
メトキシイミノ｝アセタミド〕−３−（１−ピリジ
ニオメチル）−３−セフエム−４−カルボキシラ
ート（シン異性体）塩化メチレンに氷冷下、ジメチルホルムアミド
0.77mlとオキシ塩化リン0.91mlを加え、合計10ml
の反応混合物を調整する。〔工程〕で得た化合
物0.76ｇを塩化メチレン８mlに溶解し、氷冷下、
先の反応混合物2.0mlを加え、45分間撹拌する。
この反応液を、7β−アミノ−３−（１−ピリジニ
オメチル）−３−セフエム−４−カルボキシラー
ト・二塩酸塩0.75ｇとビス（トリメチルシリル）
アセトアミド0.9mlのアセトニトリル８ml溶液に
氷冷下加えた後、室温に戻し1.5時間撹拌する。
反応液をクロロホルムで希釈し、水、次いで飽和
食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒留去後、残渣をエーテルで洗えば、淡褐色の
粉末730mgを得る。この粉末を９％ギ酸８mlと濃塩酸0.4mlの氷冷
混合物に加え、10分後に室温に戻し１時間撹拌す
る。析出した固体を濾過にて除き、濾液を減圧濃
縮する。残渣を水に溶解し、ダイヤイオンHP−
20を担体とするカラムクロマトグラフイー（2.5
％テトラヒドロフラン）、次いで高速液体クロマ
トグラフイー（担体：パートシル（ワツトマン社
製）；溶媒：10％メタノール）にて精製すれば、
標記化合物を得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1： 1770、1660、1610 FT−NMR（D₂O、ppm、200MHz） 3.14（1H、ｄ、Ｊ＝18Hz、C₂−Ｈ） 3.63（1H、ｄ、Ｊ＝18Hz、C₂−Ｈ） 5.25（１Hz、ｄ、Ｊ＝５Hz、C₆−Ｈ） 5.36（2H、ｓ、Ｂ−Ｏ−CH₂） 5.38（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz、

【式】） 5.59（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz、

〔工程〕

エチルＮ−トリチル−１，２，３−トリアゾ
ール−４−カルボキシラートエチル１，２，３−トリアゾール−４−カル
ボキシラート3.47ｇおよびトリチルクロリド7.55
ｇをクロロホルム100mlに溶解する。これに氷冷
撹忰トリエチルアミン377mlを滴下し、室温で30
分間撹権拌する。クロロホルムを留去後、残留物
を酢酸エチルに溶解し、食塩水で洗浄後無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。酢酸エチルを留去して、
結晶性固体を得る。これをカラムクロマトグラフ
イー（シリカゲル：100ｇ、溶媒：ベンゼン次い
でクロロホルム）にて精製すれば、融点201〜203
℃の標記化合物（8.37ｇ）を得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1：1730 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 1.37（3H、ｔ、Ｊ＝7.5Hz、CH₂CH₃ ） 4.39（2H、ｑ、Ｊ＝7.5Hz、ＣＨ ₂CH₃） 8.01（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕４−（ヒドロキシメチル）−Ｎ−トリチル−１，
２，３−トリアゾール水素化リチウムアルミニウム1.29ｇをテトラヒ
ドドロフラン100mlに懸濁後、氷冷撹拌下〔工程
〕で得た化合物13.0ｇのテトラヒドロフラン
300ml溶液（一部懸濁液）を滴下し室温で３時間
撹拌する。反応液に水1.3ml、次いで15％水酸化
ナトリウム水溶液1.3ml、さらに水3.0mlを注意深
く加える。濾過し、濾液を減圧乾固すれば、淡黄
色固体が析出する。これにｎ−ヘキサンを加えて
固体を濾取し、ｎ−ヘキサンで洗浄後減圧乾燥す
れば、融点205〜207℃の膝記化合物11.4ｇを得
る。 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 4.78（2H、ｓ、OCH₂）〔工程〕４−（フタルイミドオキシメチル）−Ｎ−トリチ
ル−１，2.3−トリアゾール〔工程〕で得た化合物17.5ｇ、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド8.4ｇおよびトリフエニルフオス
フイン14.8ｇをテトラヒドロフラン700mlに溶解
し、室温撹拌下、アゾジカルボン酸ジエチル9.8
ｇを加え、室温で１時間撹拌する。溶媒を留去
後、残渣にクロロホルムを加え減圧乾固するとわ
ずかに固体が析出する。ジエチルエーテルを加え
ると大量の固体が析出する。これを濾取し、減圧
乾燥後塩化メチレンを加える。不溶物を濾取し、
減圧乾燥すれば粉末24.5ｇを得る。これをカラム
クロマトグラフイー（シリカゲル：500ｇ、溶
媒：クロロホルム）にて精製すれば、融点195〜
200℃の標記化合物14.2ｇを得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1：1790、1730 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 5.36（2H、ｓ、OCH₂）〔工程〕４−（アミノオキシメチル）−Ｎ−トリチル−
１，２，３−トリアゾール〔工程〕で得た化合物16.2ｇをメタノール
300mlに懸濁、ヒドラジンヒドラート17ｇを加え、
室温で1.5時間拌する。濾過後溶媒を留去する。
残渣にクロロホルムを加え不溶物を濾去後、濾液
を減圧乾固する（この操作を３〜４回行なう）。
残留物をカラムクロマトグラフイー（シリカゲ
ル：200ｇ、溶媒：クロロホルム）にて精製すれ
ば、融点144〜145℃の標記化合物9.5ｇを得る。 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 4.79（2H、ｓ、OCH₂） 4.80〜5.80（2H、br、NH₂） 7.45（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ）〔工程〕２−（２−トチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−｛（Ｎ−トリチル−１，２，３−トリアゾー
ル−４−イル）メトキシイミノ｝酢酸〔工程〕で得た化合物2.58ｇをメタノール
100mlに溶解し、室温撹拌下（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）グリオキシル酸2.4ｇ
を加え16時間撹拌する。溶媒留去。残渣を酢酸エ
チルに溶解し、PH４の塩酸水溶液および食塩水で
洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留
去する。残渣を少量のクロロホルムに溶解し、こ
れにｎ−ヘキサンを加え析出固体を濾取する。ｎ
−ヘキサンで洗浄後減圧乾燥し、融点138〜145℃
（分解）の標記化合物4.05ｇを得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1： 3600〜2700、1720 CW−NMR（CDCl₃、ppm） 5.27（2H、ｓ、COH₂） 6.55（1H、ｓ、チアゾール５位のＨ）〔工程〕ソジウム7β−〔２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−｛（１，２，３−トリアゾール−
４−イル）メトキシイミノ｝アセタミド〕−３−
アセトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキ
ート（シン異性体）〔工程〕で得た化合物2.26ｇを塩化メチレン
90mlに溶解し、室温撹拌下ジシクロヘキシルカボ
ジイミド0.62ｇ、Ｎ−ヒドロキシベンズトリアー
ル0.41ｇおよび第三級ブチル７−アミノ−３−ア
セトキシメチル−３−セフエム−４−カルボキシ
レート0.98ｇを加えた後、室温で２時間撹拌す
る。不溶物を濾去後溶媒を留去する。残渣をカラムクロマトグラフイー（シリカゲ
ル：45ｇ、溶媒：クロロホルム）にて精製し泡状
物2.40ｇを得る。これをアニソール（３ml）に溶
解し、氷冷撹拌下トリフルオロ酢酸24mlを加え、
室温で1.5時間撹拌する。減圧乾固。残渣にギ酸
25mlを加え、室温で１時間撹拌する。減圧乾固。
残渣にジエチルエーテルを加え析出した固体を濾
取する。ジエチルエーテルで洗浄後減圧乾燥し粉
末0.88ｇを得る。この粉末をこれ以上精製することなく次の〔工
程〕で使用した。一部（0.2ｇ）を５％炭酸水
素ナトリウム水溶液に溶解し、高速液体クロマト
グラフイー（担体：パートシル（ワツトマン社
製）、溶媒：２％メタノール）にて精製すれば標
記化合物を得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1：3650〜2600、1760、1655、1600 Ｆ−NMR（D₂O、ppm） 2.10（3H、ｓ、

〔工程〕

7β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−｛（１，２，３−トリアゾール−４−イル）
メトキシイミノ｝アセタミド〕−３−（１−ピリジ
ニオメチル）−３−セフエム−４−カルボキシラ
ート（シン異性体）〔工程〕で得た化合物632mgをピリジン0.45
ml、炭水素ナトリウム93mgおよび水0.75mlに溶
解、ヨウ化ナトリウム2.34ｇを加え、窒素雰囲気
浴温70〜75℃で1.5時間撹拌する。冷後アセトン
を加え析出固体を濾取する。アセトンで洗浄後減
圧乾燥し粉末470mgを得る。これを少量の水に溶
解し、ダイヤイオンHP−20（80ml）を担体とす
るカラムクロマトグラフイー（５％テトラヒドロ
フラン、次いで20％テトラヒドロフラン）、さら
に高速液体クロマトグラフイー（担体：C₁₈マイ
クロボンダパツク（ウオーターズ社製）、溶媒：
7.5％MeOH）にて精製し標記化合物を得る。 IR ν^KBr _naxcm^-1：3600〜2500、1770、1610 FT−NMR（D₂O、ppm） 3.13（1H、ｄ、Ｊ＝18Hz、C₂−Ｈ） 3.60（1H、ｄ、Ｊ＝18Hz、C₂−Ｈ） 5.23（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz、C₆−Ｈ） 5.38（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz、

【式】） 5.39（2H、ｓ、OCH₂） 5.58（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz、

【式】） 5.84（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz、C₇−Ｈ） 7.04（1H、ｓ、チアゾール５位のＨ） 8.02（1H、ｓ、トリアゾール５位のＨ） 8.13（2H、ｔ、Ｊ＝７Hz、ピリジン３、５位
のＨ） 8.63（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz、ピリジン４位の
Ｈ） 8.98（2H、ｄ、７Hz、ピリジン２、６位の
Ｈ）元素分析 C₂₁H₁₉N₉O₅S₂・3H₂Oに対する計算値Ｃ 42.34、Ｈ 4.23、Ｎ 21.17 実測値Ｃ 42.38、Ｈ 3.80、Ｎ 21.08。

Claims

【特許請求の範囲】１式（R₁：【式】または【式】 R₂：水素または低級アルキル；R₃：水素または
低級アルキル）で表わされるセフアロスポリン誘
導体及びその塩。２ 7β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−｛（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）メトキシイミノ｝アセタミド〕−３−（１−ピ
リジニオメチル）−３−セフエム−４−カルボキ
シラートのシン異性体またはその塩である特許請
求の範囲第１項記載の化合物。３ 7β−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−｛（１，２，３−トリアゾール−４−イ
ル）メトキシイミノ｝アセタミド〕−３−（１−ピ
リジニオメチル）−３−セフエム−４−カルボキ
シラートのシン異性体またはその塩である特許請
求の範囲第１項記載の化合物。