JPH0332852B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0332852B2 JPH0332852B2 JP57197966A JP19796682A JPH0332852B2 JP H0332852 B2 JPH0332852 B2 JP H0332852B2 JP 57197966 A JP57197966 A JP 57197966A JP 19796682 A JP19796682 A JP 19796682A JP H0332852 B2 JPH0332852 B2 JP H0332852B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- aperture
- magnetic
- sample
- electrostatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/145—Combinations of electrostatic and magnetic lenses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオンビーム露光装置・イオン源を
用いた分析装置等のイオン及び電子ビームを使用
した装置のレンズに関する新規な改良を行なうも
のである。
用いた分析装置等のイオン及び電子ビームを使用
した装置のレンズに関する新規な改良を行なうも
のである。
イオンビーム露光装置又は２次イオン質量分析
装置では細く絞つた１次イオンビームにより試料
表面を走査し、試料を加工したり、試料から得ら
れる２次信号を分析したりする。
装置では細く絞つた１次イオンビームにより試料
表面を走査し、試料を加工したり、試料から得ら
れる２次信号を分析したりする。
イオンビームの収束には静電レンズが使用され
ることが多い、これは静電レンズが質量数の異な
つたイオンに対しても同じ電圧で収束できる特色
がある。
ることが多い、これは静電レンズが質量数の異な
つたイオンに対しても同じ電圧で収束できる特色
がある。
一方電子ビームをイオンビームと同一軸上から
試料に照射できると数々の有利な点が生れる。例
えばイオンと電子の物理的な特徴の差を利用して
電子ビームにより表面形状を観察しイオンビーム
により微細加工を行つたりすることができるし分
析装置においてはイオンビームにより２次イオン
質量分析を行ない電子ビームによりオージエ電子
分光を行つたりできる。この場合試料面における
加工、分析領域が微細であるから特に同一軸上か
ら電子及びイオンを照射できることが重要であ
る。電子ビームを収束させる場合静電レンズを使
用してもよいが、数十オングストロームまで収束
させようとするとレンズの工作精度がむずかくな
る。そこで通常磁気レンズが使用される。
試料に照射できると数々の有利な点が生れる。例
えばイオンと電子の物理的な特徴の差を利用して
電子ビームにより表面形状を観察しイオンビーム
により微細加工を行つたりすることができるし分
析装置においてはイオンビームにより２次イオン
質量分析を行ない電子ビームによりオージエ電子
分光を行つたりできる。この場合試料面における
加工、分析領域が微細であるから特に同一軸上か
ら電子及びイオンを照射できることが重要であ
る。電子ビームを収束させる場合静電レンズを使
用してもよいが、数十オングストロームまで収束
させようとするとレンズの工作精度がむずかくな
る。そこで通常磁気レンズが使用される。
本発明では前述のようなイオンと電子を共用す
る様な装置において極めて効果的な手段を提供す
ることを目的としている。
る様な装置において極めて効果的な手段を提供す
ることを目的としている。
荷電粒子を収束させるためのレンズは静電レン
ズでも磁気レンズでも光学レンズと同様１／ａ＋
１／ｂ＝１／ｆの式が成立する。ここでａは光源
からレンズ中心までの距離、ｂはレンズ中心から
結像点までの距離、ｆは焦点距離である。
ズでも磁気レンズでも光学レンズと同様１／ａ＋
１／ｂ＝１／ｆの式が成立する。ここでａは光源
からレンズ中心までの距離、ｂはレンズ中心から
結像点までの距離、ｆは焦点距離である。
即ちなるべく細く絞るためにはレンズ中心から
結像点（試料位置）までの距離を短くした方が良
い。しかしながら試料から得られる各種の情報の
検出器を試料近房に設置し効率を上げるためでき
るだけ試料に近ずけようとすると試料とレンズ下
面までの距離（ワーキングデイスタンス・動作距
離という）がある程度必要となつてくる。そこで
動作距離をある程度とり、なお静電レンズと磁気
レンズの両者を試料面に近ずけるには双方をうま
く結合せねばならない。
結像点（試料位置）までの距離を短くした方が良
い。しかしながら試料から得られる各種の情報の
検出器を試料近房に設置し効率を上げるためでき
るだけ試料に近ずけようとすると試料とレンズ下
面までの距離（ワーキングデイスタンス・動作距
離という）がある程度必要となつてくる。そこで
動作距離をある程度とり、なお静電レンズと磁気
レンズの両者を試料面に近ずけるには双方をうま
く結合せねばならない。
以下第１図により本発明による荷電粒子レンズ
の好適な実施例について詳細に説明する。
の好適な実施例について詳細に説明する。
第１図において、磁気レンズ巻線１、および磁
気回路２より磁気レンズを構成する、この場合４
はレンズ絞りの役目をする。また３及び５は、静
電レンズの上下電極で通常接地電位になる。又４
は中間電極として高電圧をかける。又絶縁物６に
より高圧を浮かし外部から真空中に電圧をもたら
す役目をする。
気回路２より磁気レンズを構成する、この場合４
はレンズ絞りの役目をする。また３及び５は、静
電レンズの上下電極で通常接地電位になる。又４
は中間電極として高電圧をかける。又絶縁物６に
より高圧を浮かし外部から真空中に電圧をもたら
す役目をする。
図中４のレンズ絞り又は中間電極は、磁気レン
ズの場合100μから数百μの穴径で静電レンズの
場合は１mmから数mmであるから複数の穴をあけ真
空外から移動させ目的により最適の穴径を選択で
きるようにする。又静電レンズを構成する３枚の
電極３，４，５は磁性体ではない材料、例えばタ
ンタルとかモリブテン等を使用すればイオンによ
る損傷も少なくてよい。又、磁気レンズとして使
用する場合は中間電極４は接地するかこれに近い
電位にする。
ズの場合100μから数百μの穴径で静電レンズの
場合は１mmから数mmであるから複数の穴をあけ真
空外から移動させ目的により最適の穴径を選択で
きるようにする。又静電レンズを構成する３枚の
電極３，４，５は磁性体ではない材料、例えばタ
ンタルとかモリブテン等を使用すればイオンによ
る損傷も少なくてよい。又、磁気レンズとして使
用する場合は中間電極４は接地するかこれに近い
電位にする。
図面は本発明による荷電粒子用レンズを示す構
成図である。 １……磁気レンズ巻線、２……磁気回路、３…
…上電極、４……中間電極、５……下電極。
成図である。 １……磁気レンズ巻線、２……磁気回路、３…
…上電極、４……中間電極、５……下電極。
Claims (1)
- １ コイル巻線及び一対の磁極より構成される磁
気レンズと、前記一対の磁極間に設けられた異な
る径をもつた複数の穴を有する絞りと、前記絞り
の上下に設けられた静電レンズ用電極と、外部か
ら前記絞りの所定の穴径を定位置に選択する手段
と、前記絞りに高電圧を印加する手段とからな
り、前記絞りに高電圧を印加することにより静電
レンズを構成することを特徴とする荷電粒子用レ
ンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197966A JPS5987742A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 荷電粒子用レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197966A JPS5987742A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 荷電粒子用レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5987742A JPS5987742A (ja) | 1984-05-21 |
| JPH0332852B2 true JPH0332852B2 (ja) | 1991-05-15 |
Family
ID=16383280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197966A Granted JPS5987742A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 荷電粒子用レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5987742A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS535962A (en) * | 1976-07-06 | 1978-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electron microscope |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP57197966A patent/JPS5987742A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5987742A (ja) | 1984-05-21 |
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