JPH0367339B2 - - Google Patents
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- JPH0367339B2 JPH0367339B2 JP59219902A JP21990284A JPH0367339B2 JP H0367339 B2 JPH0367339 B2 JP H0367339B2 JP 59219902 A JP59219902 A JP 59219902A JP 21990284 A JP21990284 A JP 21990284A JP H0367339 B2 JPH0367339 B2 JP H0367339B2
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- bonding wire
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、半導体素子の組立方法及びその装置
に関する。
に関する。
従来の半導体素子の組立方法では、第6図に示
す如く、リードフレーム1のマウント床に装着さ
れた半導体ペレツト2上の電極パツド3と外部リ
ード4との接続は、金線で作られたボンデイング
線5を架設することにより行われている。このよ
うにボンデイング線5に金線を採用するもので
は、次のような問題がある。
す如く、リードフレーム1のマウント床に装着さ
れた半導体ペレツト2上の電極パツド3と外部リ
ード4との接続は、金線で作られたボンデイング
線5を架設することにより行われている。このよ
うにボンデイング線5に金線を採用するもので
は、次のような問題がある。
高温でボンデイング線5の架設を行うと、
Al製の電極パツド3とボンデイング線5の接
合部に金とアルミニウムの化合物が生じる。こ
のため接合部で電気特性の劣化が生じる。
Al製の電極パツド3とボンデイング線5の接
合部に金とアルミニウムの化合物が生じる。こ
のため接合部で電気特性の劣化が生じる。
金線からなるボンデイング線5自身に酸化が
起きない場合であつても、接合部の電気特性の
劣化によつて半導体素子の信頼性が低下する。
起きない場合であつても、接合部の電気特性の
劣化によつて半導体素子の信頼性が低下する。
金とアルミニウムの化合物はボンデイング処
理後の放置された状態下でも発生するため、電
気特性の安定した半導体素子が得られない。
理後の放置された状態下でも発生するため、電
気特性の安定した半導体素子が得られない。
金線は高価であるため、製造価格が高くな
る。
る。
このような問題を解消するために特願昭55−
88318号公報にて被ボンデイング領域を選択的に
活性化することにより、銅線からなるボンデイン
グ線と銅製のリードフレーム間でボンデイング線
の架設を行う技術が開示されている。しかしなが
ら、この技術ではボンデイング線の方に発生する
酸化物によつて接合不良が発生すると共に、ボン
デイング線の先端部に所定のボールを形成するの
が難しいため、接合不良を招く問題がある。更
に、各々のボンデイング処理毎に被ボンデイング
領域の活性化を行うため、作業性が悪い。
88318号公報にて被ボンデイング領域を選択的に
活性化することにより、銅線からなるボンデイン
グ線と銅製のリードフレーム間でボンデイング線
の架設を行う技術が開示されている。しかしなが
ら、この技術ではボンデイング線の方に発生する
酸化物によつて接合不良が発生すると共に、ボン
デイング線の先端部に所定のボールを形成するの
が難しいため、接合不良を招く問題がある。更
に、各々のボンデイング処理毎に被ボンデイング
領域の活性化を行うため、作業性が悪い。
また、特願昭57−51237号公報では、ボンデイ
ング線を導出するキヤピラリの先端部を還元雰囲
気に保たれたカバー内に導入して、所望形状のボ
ールを形成すると共にボンデイング線の酸化防止
をしてボンデイング処理を行う技術が開示されて
いる。しかしながら、この技術では還元雰囲気を
保つためのカバーを含んだ複雑な機構が必要とな
り、1秒以下の処理速度で行われるボンデイング
処理の下では、故障が起き易すく保守管理に手間
を要する問題がある。また、外部リードが形成さ
れたリードフレーム側の酸化物を除去できないた
め、銅線からなるボンデイング線と銅製のリード
フレームとの間では信頼性の高いボンデイング処
理を行うことができない問題がある。
ング線を導出するキヤピラリの先端部を還元雰囲
気に保たれたカバー内に導入して、所望形状のボ
ールを形成すると共にボンデイング線の酸化防止
をしてボンデイング処理を行う技術が開示されて
いる。しかしながら、この技術では還元雰囲気を
保つためのカバーを含んだ複雑な機構が必要とな
り、1秒以下の処理速度で行われるボンデイング
処理の下では、故障が起き易すく保守管理に手間
を要する問題がある。また、外部リードが形成さ
れたリードフレーム側の酸化物を除去できないた
め、銅線からなるボンデイング線と銅製のリード
フレームとの間では信頼性の高いボンデイング処
理を行うことができない問題がある。
本発明は、半導体ペレツトに高い信頼性と高い
強度の下に、しかも安価にワイヤボンデイングを
施すことができる半導体素子の組立方法及びその
装置を提供することをその目的とするものであ
る。
強度の下に、しかも安価にワイヤボンデイングを
施すことができる半導体素子の組立方法及びその
装置を提供することをその目的とするものであ
る。
本発明は、リードフレームの搬送路、ボンデイ
ング処理を行うボンデイング処理部及びボンデイ
ング線を導出するキヤピラリの周辺領域を常に十
分な還元雰囲気に保つことにより、半導体ペレツ
トに高い信頼性と高い強度の下に、しかも安価に
ワイヤボンデイングを行うことができる半導体素
子の組立方法及びその装置である。
ング処理を行うボンデイング処理部及びボンデイ
ング線を導出するキヤピラリの周辺領域を常に十
分な還元雰囲気に保つことにより、半導体ペレツ
トに高い信頼性と高い強度の下に、しかも安価に
ワイヤボンデイングを行うことができる半導体素
子の組立方法及びその装置である。
以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
第1図は、本発明方法及びその装置をリードフ
レームの移動順路に従つて示す説明図である。図
中10は、リードフレーム11を搬送する搬送路
である。搬送路10内には例えばガス源からN2
とH210%のような還元性のガスが連続的に供給
され、十分に還元性の雰囲気に保たれる。搬送路
10内には、ダイボンデイング部12、ワイヤボ
ンデイング部13、ポストボンデイング部14が
所定の間隔を設けて配置されている。ダイボンデ
イング部の搬送路10の天井部には、半導体ペレ
ツト15をダイボンデイング部12に供給するコ
レツト等の把持具が出入する窓16が開口してい
る。ワイヤボンデイング部13の搬送路10の天
井部には、ボンデイング線17を供給するキヤピ
ラリ18をボンデイング部13内に出入させるた
めの窓19が開口されている。ポストボンデイン
グ部14の搬送路10の天井部は、ボンデイング
線17をリードフレーム11の外部リード21側
に熱圧着させるための押圧具20が出入する窓2
2が開口されている。また、搬送路11の床部に
は、ガイドレール等からなる搬送手段が設けられ
ている。ダイボンデイング部12、ワイヤボンデ
イング部、ポストボンデイング部14の床部に
は、リードフレーム11を所定温度に加熱するた
めのヒータ23,24,25が内蔵されている。
レームの移動順路に従つて示す説明図である。図
中10は、リードフレーム11を搬送する搬送路
である。搬送路10内には例えばガス源からN2
とH210%のような還元性のガスが連続的に供給
され、十分に還元性の雰囲気に保たれる。搬送路
10内には、ダイボンデイング部12、ワイヤボ
ンデイング部13、ポストボンデイング部14が
所定の間隔を設けて配置されている。ダイボンデ
イング部の搬送路10の天井部には、半導体ペレ
ツト15をダイボンデイング部12に供給するコ
レツト等の把持具が出入する窓16が開口してい
る。ワイヤボンデイング部13の搬送路10の天
井部には、ボンデイング線17を供給するキヤピ
ラリ18をボンデイング部13内に出入させるた
めの窓19が開口されている。ポストボンデイン
グ部14の搬送路10の天井部は、ボンデイング
線17をリードフレーム11の外部リード21側
に熱圧着させるための押圧具20が出入する窓2
2が開口されている。また、搬送路11の床部に
は、ガイドレール等からなる搬送手段が設けられ
ている。ダイボンデイング部12、ワイヤボンデ
イング部、ポストボンデイング部14の床部に
は、リードフレーム11を所定温度に加熱するた
めのヒータ23,24,25が内蔵されている。
而して、先ず、リードフレーム11を搬送手段
によりダイボンデイング部12に供給する。リー
ドフレーム11は、無酸素銅、リン脱酸銅、Cu
−20%Au等の銅または銅合金で形成されている。
ダイボンデイング部12に供給されたリードフレ
ーム11は、ヒータ23で所定温度に加熱され
る。この状態で窓16から半導体ペレツト15が
供給され、リードフレーム11のマウント部に半
田層26を介して半導体ペレツト15が装着され
る。
によりダイボンデイング部12に供給する。リー
ドフレーム11は、無酸素銅、リン脱酸銅、Cu
−20%Au等の銅または銅合金で形成されている。
ダイボンデイング部12に供給されたリードフレ
ーム11は、ヒータ23で所定温度に加熱され
る。この状態で窓16から半導体ペレツト15が
供給され、リードフレーム11のマウント部に半
田層26を介して半導体ペレツト15が装着され
る。
次に、第2図Aに示す如く、半導体ペレツト1
5が装着されたリードフレーム11は、ワイヤボ
ンデイング部13に供給される。ワイヤボンデイ
ング部13の所定位置に設定されると、リードフ
レーム11はヒータ24によつて約300℃に加熱
され、半導体ペレツト15上の電極も所定温度に
加熱される。次いで、窓19の入口部までキヤピ
ラリ18が降下し、窓19の近傍に設けられたバ
ーナー28によりキヤピラリ18の先端部から導
出したボンデイング線17の先端部分にボール2
9を形成する。ボンデイング線17は、無酸素
銅、リン脱酸銅、Cu−20%Au等の銅または銅合
金で形成されている。ここで、バーナー28は、
第3図に示す如く、外管28aとこれよりも僅に
内側に入つた内管28bとからなる2重構造を有
している。内管28bからはH2とO2の混合ガス
が噴出して酸水素炎30を形成し、この酸水素炎
30によりボール29を形成するようになつてい
る。外管28aからは空気が噴出し、酸水素炎3
0を囲むエアカーテン31を形成している。而し
て、バーナー28によるボール29の形成は、窓
19を構成する可動カバー32でボンデイング線
17の先端部を囲みながら、ワイヤボンデイング
部から噴上げる還元性ガス33の雰囲気内でエア
カーテン31に包まれた酸水素炎30によつて行
われる。
5が装着されたリードフレーム11は、ワイヤボ
ンデイング部13に供給される。ワイヤボンデイ
ング部13の所定位置に設定されると、リードフ
レーム11はヒータ24によつて約300℃に加熱
され、半導体ペレツト15上の電極も所定温度に
加熱される。次いで、窓19の入口部までキヤピ
ラリ18が降下し、窓19の近傍に設けられたバ
ーナー28によりキヤピラリ18の先端部から導
出したボンデイング線17の先端部分にボール2
9を形成する。ボンデイング線17は、無酸素
銅、リン脱酸銅、Cu−20%Au等の銅または銅合
金で形成されている。ここで、バーナー28は、
第3図に示す如く、外管28aとこれよりも僅に
内側に入つた内管28bとからなる2重構造を有
している。内管28bからはH2とO2の混合ガス
が噴出して酸水素炎30を形成し、この酸水素炎
30によりボール29を形成するようになつてい
る。外管28aからは空気が噴出し、酸水素炎3
0を囲むエアカーテン31を形成している。而し
て、バーナー28によるボール29の形成は、窓
19を構成する可動カバー32でボンデイング線
17の先端部を囲みながら、ワイヤボンデイング
部から噴上げる還元性ガス33の雰囲気内でエア
カーテン31に包まれた酸水素炎30によつて行
われる。
次に、キヤピラリ18を降下して電極パツド2
7上にボール29の部分を介してボンデイング線
17を熱圧着する。この時、ボール29はボンデ
イング線17を押し出す荷重に応じて第4図Aに
示す如く、少なくともボール29の肉厚の0.5〜
3μmの厚さxだけ電極パツド27内に食込んだ
状態で押し漬されて扁平な形状となつて電極パツ
ド27と一体化する。この扁平な端部29の喰込
み深さxは、例えば電極パツド27が厚さ1〜
3μのAl層応で形成されており、ボンデイング線
17が25μmφの銅線である場合、80〜100gの
荷重をボンデイング線17に加えると0.5〜3μm
の範囲に設定することができる。
7上にボール29の部分を介してボンデイング線
17を熱圧着する。この時、ボール29はボンデ
イング線17を押し出す荷重に応じて第4図Aに
示す如く、少なくともボール29の肉厚の0.5〜
3μmの厚さxだけ電極パツド27内に食込んだ
状態で押し漬されて扁平な形状となつて電極パツ
ド27と一体化する。この扁平な端部29の喰込
み深さxは、例えば電極パツド27が厚さ1〜
3μのAl層応で形成されており、ボンデイング線
17が25μmφの銅線である場合、80〜100gの
荷重をボンデイング線17に加えると0.5〜3μm
の範囲に設定することができる。
次に、第2図Bに示す如く、キヤピラリ18を
引き上げて窓19の部分でバーナー28によりボ
ンデイング線17を所定の長さに切断すると共
に、電極パツド27に接続したボンデイング線1
7aの端部及びキヤピラリ18側に残つたボンデ
イング線17bの端部にボール29a,29bを
夫々形成する。この時もボンデイング線17a,
17bは、還元性ガス33で囲まれている。
引き上げて窓19の部分でバーナー28によりボ
ンデイング線17を所定の長さに切断すると共
に、電極パツド27に接続したボンデイング線1
7aの端部及びキヤピラリ18側に残つたボンデ
イング線17bの端部にボール29a,29bを
夫々形成する。この時もボンデイング線17a,
17bは、還元性ガス33で囲まれている。
次に、第2図Cに示す如く、ボンデイング線1
7aを外部リード21側に所定の角度で折曲して
ホーミングしてから、リードフレーム11を次の
ポストボンデイング部14に供給する。このとき
搬送路10内の雰囲気ガスの温度は、200〜300℃
に保たれている。
7aを外部リード21側に所定の角度で折曲して
ホーミングしてから、リードフレーム11を次の
ポストボンデイング部14に供給する。このとき
搬送路10内の雰囲気ガスの温度は、200〜300℃
に保たれている。
次に、第2図Dに示す如く、リードフレーム1
1がポストボンデイン部14の所定位置に設定さ
れたところで、これを約300℃以上の温度で加熱
しながら、押圧具20を窓22から挿入降下し、
ホーミングされたボンデイング線17aの端部の
ボール29aを部分を外部リード21に熱圧着す
る。こととき、ボール29aには300〜500gの荷
重を加えて、第4図Bに示す如く、外部リード2
1にボール29aを20〜50μmの深さまで喰込ま
れる。このポストボンデイング処理の際にも押圧
具20は可動カバー32で囲まれており、押圧具
20、ボール29a及びボンデイング線17a
は、還元性ガス33で包まれている。このように
して銅または銅合金からなるリードフレーム11
に装着された半導体ペレツト15に、銅または銅
合金からなるボンデイング線17を架設する。
1がポストボンデイン部14の所定位置に設定さ
れたところで、これを約300℃以上の温度で加熱
しながら、押圧具20を窓22から挿入降下し、
ホーミングされたボンデイング線17aの端部の
ボール29aを部分を外部リード21に熱圧着す
る。こととき、ボール29aには300〜500gの荷
重を加えて、第4図Bに示す如く、外部リード2
1にボール29aを20〜50μmの深さまで喰込ま
れる。このポストボンデイング処理の際にも押圧
具20は可動カバー32で囲まれており、押圧具
20、ボール29a及びボンデイング線17a
は、還元性ガス33で包まれている。このように
して銅または銅合金からなるリードフレーム11
に装着された半導体ペレツト15に、銅または銅
合金からなるボンデイング線17を架設する。
このようにしてボンデイング線17を架設した
半導体素子では、第5図に示す高温放置試験での
不良品発生特性線Aから明らかなように200℃の
温度下で200時間放置しても不良品は全く発生し
なかつた。これに対して従来の方法でボンデイン
グ線の架設をした半導体素子では不良品発生特性
線Bから明らかなように、100時間放置後には不
良品が25%発生し、200時間後には50%の不良品
が発生した。
半導体素子では、第5図に示す高温放置試験での
不良品発生特性線Aから明らかなように200℃の
温度下で200時間放置しても不良品は全く発生し
なかつた。これに対して従来の方法でボンデイン
グ線の架設をした半導体素子では不良品発生特性
線Bから明らかなように、100時間放置後には不
良品が25%発生し、200時間後には50%の不良品
が発生した。
また、本発明方法では、銅または銅合金からな
るボンデイング線17を架設するので、引張り強
度は13〜15gであり金線の5〜9gに比べ2〜
2.5倍向上させることができる。
るボンデイング線17を架設するので、引張り強
度は13〜15gであり金線の5〜9gに比べ2〜
2.5倍向上させることができる。
また、本発明方法では、銅または銅合金からな
るボンデイング線17を使用するので、電極パツ
ド27との接合部においてアルミニウム−金の化
合物が発生する虞れはなく、ボンデイング時の温
度を150〜450℃の高音域に設定することができ
る。その結果、ボンデイング線17と電極パツド
27及び外部リード21との接合を良好にして半
導体素子の電気特性を向上させることができる。
るボンデイング線17を使用するので、電極パツ
ド27との接合部においてアルミニウム−金の化
合物が発生する虞れはなく、ボンデイング時の温
度を150〜450℃の高音域に設定することができ
る。その結果、ボンデイング線17と電極パツド
27及び外部リード21との接合を良好にして半
導体素子の電気特性を向上させることができる。
また、銅または銅合金からなるボンデイング線
17を使用するので製造コストを低減させること
ができる。
17を使用するので製造コストを低減させること
ができる。
なお、実施例では、ワイヤボンデイングとポス
トボンデイングの前にボンデイング線17にボー
ル29を予め形成しておく所謂ボールツーボール
方式のボンデイング手段を使用した場合について
説明したが、本発明は、この他にもワイヤボンデ
イング後のボンデイング線17の切断をキヤピラ
リ18のエツジ部分で行う所謂ウエツジ方式のボ
ンデイング手段を採用しても良いことは勿論であ
る。
トボンデイングの前にボンデイング線17にボー
ル29を予め形成しておく所謂ボールツーボール
方式のボンデイング手段を使用した場合について
説明したが、本発明は、この他にもワイヤボンデ
イング後のボンデイング線17の切断をキヤピラ
リ18のエツジ部分で行う所謂ウエツジ方式のボ
ンデイング手段を採用しても良いことは勿論であ
る。
以上説明した如く、本発明に係る半導体素子の
組立方法及びその装置によれば、半導体ペレツト
に高い信頼性と高い強度の下に、しかも安価にワ
イヤボンデイングを施すことができるものであ
る。
組立方法及びその装置によれば、半導体ペレツト
に高い信頼性と高い強度の下に、しかも安価にワ
イヤボンデイングを施すことができるものであ
る。
第1図は、本発明の実施例の概略構成を示す説
明図、第2図A乃至同図Dは、本発明方法及びそ
の装置の主な工程を示す説明図、第3図は、本発
明方法及びその装置で使用するバーナーの炎の状
態を示す説明図、第4図A,Bは、本発明方法及
びその装置で接続されたボンデイング線の接続部
を示す説明図、第5図は、不良品発生率と時間と
の関係を示す特性図、第6図は、従来方法でボン
デイング線を架設したリードフレームの要部を示
す斜視図である。 10……搬送路、11……リードフレーム、1
2……ダイボンデイング部、13……ワイヤボン
デイング部、14……ポストボンデイング部、1
5……半導体ペレツト、16,19,22……
窓、17……ボンデイング線、18……キヤピラ
リ、20……押圧具、21……外部リード、2
3,24,25……ヒータ、26……半田層、2
7……電極パツド、28……バーナー、29……
ボール、30……酸水素炎、31……エアカーテ
ン、32……可動カバー、33……還元性ガス。
明図、第2図A乃至同図Dは、本発明方法及びそ
の装置の主な工程を示す説明図、第3図は、本発
明方法及びその装置で使用するバーナーの炎の状
態を示す説明図、第4図A,Bは、本発明方法及
びその装置で接続されたボンデイング線の接続部
を示す説明図、第5図は、不良品発生率と時間と
の関係を示す特性図、第6図は、従来方法でボン
デイング線を架設したリードフレームの要部を示
す斜視図である。 10……搬送路、11……リードフレーム、1
2……ダイボンデイング部、13……ワイヤボン
デイング部、14……ポストボンデイング部、1
5……半導体ペレツト、16,19,22……
窓、17……ボンデイング線、18……キヤピラ
リ、20……押圧具、21……外部リード、2
3,24,25……ヒータ、26……半田層、2
7……電極パツド、28……バーナー、29……
ボール、30……酸水素炎、31……エアカーテ
ン、32……可動カバー、33……還元性ガス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体ペレツト、銅若しくは銅合金製のリー
ドフレーム、及び銅若しくは銅合金製のボンデイ
ング線を使用して半導体素子を組立てる方法であ
つて、 前記リードフレームに前記半導体ペレツトを接
着する為のダイボンデイング部、前記半導体ペレ
ツトに前記ボンデイング線の一方の端部を接着す
る為のワイヤボンデイング部、及び、前記リード
フレームに前記ボンデイング線の他方の端部を接
着する為のポストボンデイング部、を搬送路に沿
つて一体的に順次形成し、且つ前記搬送路全体を
還元性ガス雰囲気の概ね閉鎖された空間として形
成し、前記搬送路に沿つて前記リードフレームを
搬送する工程と、 前記ダイボンデイング部において、前記還元性
ガス雰囲気中で、前記リードフレームを加熱しな
がら前記リードフレーム上に半田層を介して前記
半導体ペレツトを接着する工程と、 前記ワイヤボンデイング部において、前記ボン
デイング線の原材を供給すると共に、前記還元性
ガス雰囲気中で、前記ボンデイング線の前記一方
の端部を加熱してボール状に変形する工程と、 前記ワイヤボンデイング部において、前記還元
性ガス雰囲気中で、前記リードフレームを加熱し
ながら前記ボンデイング線の前記一方の端部を前
記半導体ペレツトに対して熱圧着する工程と、 前記ワイヤボンデイング部において、前記還元
性ガス雰囲気中で、前記ボンデイング線の原材を
所定寸法に溶断し、前記ボンデイング線の前記他
方の端部を得る工程と、 前記ポストボンデイング部において、前記還元
性ガス雰囲気中で、前記リードフレームを加熱し
ながら前記ボンデイング線の前記他方の端部を前
記リードフレームに対して熱圧着する工程と、 を具備することを特徴とする半導体素子の組立方
法。 2 半導体ペレツト、銅若しくは銅合金製のリー
ドフレーム、及び銅若しくは銅合金製のボンデイ
ング線を使用して半導体素子を組立てる装置であ
つて、 前記リードフレームを搬送する為の搬送手段を
有すると共に、全体が還元性ガス雰囲気の概ね閉
鎖された空間を形成する搬送路と、 前記搬送路に沿つて一体的に順次形成された、
前記リードフレームに前記半導体ペレツトを接着
する為のダイボンデイング部、前記半導体ペレツ
トに前記ボンデイング線の一方の端部を接着する
為のワイヤボンデイング部、及び、前記リードフ
レームに前記ボンデイング線の他方の端部を接着
する為のポストボンデイング部と、 前記リードフレームを加熱する為、前記ダイボ
ンデイング部、ワイヤボンデイング部、及びポス
トボンデイング部に配設されたヒータと、 前記リードフレーム上に前記半導体ペレツトを
供給する為、前記ダイボンデイング部に配設され
たペレツト供給部材と、 前記ボンデイング線を供給すると共に、前記半
導体ペレツトに対して前記ボンデイング線の前記
一方の端部を押圧する為、前記ワイヤボンデイン
グ部に配設された上下駆動型のキヤピラリと、 前記ボンデイング線を溶断すると共に前記ボン
デイング線の端部を加熱してボール状に変形する
為、前記ワイヤボンデイング部に配設されたバー
ナーと、 前記ボンデイング線の前記他方の端部を前記リ
ードフレームに押圧する為、前記ポストボンデイ
ング部に配設された押圧具と、 を具備することを特徴とする半導体素子の組立装
置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219902A JPS6197937A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 半導体素子の組立方法及びその装置 |
| US06/759,273 US4732313A (en) | 1984-07-27 | 1985-07-26 | Apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| EP85109406A EP0169574B1 (en) | 1984-07-27 | 1985-07-26 | Apparatus for manufacturing semiconductor device |
| DE8585109406T DE3577371D1 (de) | 1984-07-27 | 1985-07-26 | Apparat zum herstellen einer halbleiteranordnung. |
| KR1019850005537A KR900000205B1 (ko) | 1984-10-19 | 1985-07-31 | 결속상태가 개선된 반도체 장치의 제조장치 |
| CN85106110A CN85106110B (zh) | 1984-10-19 | 1985-08-13 | 制造半导体器件的装置及其使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219902A JPS6197937A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 半導体素子の組立方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6197937A JPS6197937A (ja) | 1986-05-16 |
| JPH0367339B2 true JPH0367339B2 (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=16742820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219902A Granted JPS6197937A (ja) | 1984-07-27 | 1984-10-19 | 半導体素子の組立方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6197937A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314837A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
| JP2016028417A (ja) * | 2014-07-11 | 2016-02-25 | ローム株式会社 | 電子装置 |
| JP6810222B2 (ja) * | 2014-07-11 | 2021-01-06 | ローム株式会社 | 電子装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52142485A (en) * | 1976-05-21 | 1977-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | Wire bonding device |
| JPS58223339A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Toshiba Corp | 半導体ペレツトのワイヤボンデイング方法 |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59219902A patent/JPS6197937A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6197937A (ja) | 1986-05-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |