JPH0371765B2 - - Google Patents
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- JPH0371765B2 JPH0371765B2 JP56008678A JP867881A JPH0371765B2 JP H0371765 B2 JPH0371765 B2 JP H0371765B2 JP 56008678 A JP56008678 A JP 56008678A JP 867881 A JP867881 A JP 867881A JP H0371765 B2 JPH0371765 B2 JP H0371765B2
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- JP
- Japan
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- hmax
- wmax
- electron beam
- dimensions
- register
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. program control
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビーム露光装置における描画図形
分割方法に関し、より詳細には電子ビーム寸法可
変の電子ビーム露光装置において、前記電子ビー
ムに許容し得る所定の最大寸法より大きな図形を
描画する際に、該図形を分割後の図形群の描画条
件を悪化させないように分割する描画図形分割方
法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for dividing figures to be drawn in an electron beam exposure apparatus, and more particularly, in an electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions, a figure larger than a predetermined maximum size allowable to the electron beam. The present invention relates to a drawing figure dividing method for dividing a figure when drawing the figure so as not to deteriorate the drawing condition of the divided figure group.
電子ビーム露光装置、なかでも走査型電子ビー
ム露光装置は、コンピユータ制御により露光を行
うために、描画図形に対する融通性が高いこと、
あるいは描画図形の歪をリアルタイムで補正でき
ること等の利点により、LSI等の生産において実
用化されつつある。 Electron beam exposure equipment, especially scanning electron beam exposure equipment, performs exposure under computer control, so it has high flexibility in drawing figures;
Also, due to its advantages such as being able to correct distortions in drawn figures in real time, it is being put into practical use in the production of LSIs and the like.
走査型電子ビーム露光装置、特に電子ビーム寸
法可変の走査型電子ビーム露光装置においては、
従来、許容し得る最大ビーム寸法（高さHmax，
幅Wmaxとする。）より大きい描画図形Ｆ（以下、
単に「図形」という。）を露光する場合に、第１
図に示す如く、前記最大寸法のビームをできるだ
け多く用いて、単一照射の回数を低減させる方式
を採用していた。一方、電子ビームには、電子光
学系の収差により分布の不均一が存在し、この不
均一は特にビームの周辺部において著しい。（以
下、この周辺部における電子ビームの分布の不均
一を「ぼけ」と称する。）この「ぼけ」（その量を
ｄとする。）があるため、第１図に示した如き図
形分割に基いて電子ビーム照射を行つた場合、Ａ
−A′断面における電子密度分布は第２図に示す
ようになる。空間電荷効果の影響が少ない場合に
は、ビームの「ぼけ」はビーム寸法には関係なく
略一定の値となる。従つて分割後の図形寸法が前
記「ぼけ」の量ｄと同程度あるいはそれ以下とな
つた場合（例えば、第１図における分割図形５）
には、分割図形１および５において端部における
電子密度分布に差異が生じるため、図形全体の寸
法および分割図形間の「つなぎ」部分等に対する
精度向上を図るには、分割図形５に対する電子ビ
ームの照射位置や照射時間の厳密かつ複雑な制御
が必要になるという実用上重大な欠点があつた。 In a scanning electron beam exposure apparatus, especially in a scanning electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions,
Conventionally, the maximum allowable beam dimensions (height Hmax,
Let the width be Wmax. ) larger drawing figure F (hereinafter,
It's simply called a "shape." ), the first
As shown in the figure, a method was adopted in which the beam of the maximum size was used as much as possible to reduce the number of single irradiations. On the other hand, the electron beam has non-uniform distribution due to aberrations of the electron optical system, and this non-uniformity is particularly noticeable in the peripheral portion of the beam. (Hereinafter, this non-uniform distribution of the electron beam in the peripheral area will be referred to as "blur".) Because of this "blur" (the amount is d), it is necessary to When electron beam irradiation is performed with
The electron density distribution in the -A' cross section is shown in Figure 2. When the influence of the space charge effect is small, the "blur" of the beam has a substantially constant value regardless of the beam size. Therefore, if the figure size after division is equal to or less than the amount of "blur" d (for example, divided figure 5 in FIG. 1)
Since there is a difference in the electron density distribution at the ends of divided figures 1 and 5, in order to improve the accuracy of the dimensions of the whole figure and the "connection" parts between divided figures, it is necessary to This method had a serious practical drawback in that it required strict and complicated control of the irradiation position and irradiation time.
本発明は、従来の電子ビーム露光装置における
図形分割方法の上述の如き欠点を除去した、分割
後の図形群の描画条件を悪化させないような図形
分割方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a figure dividing method which eliminates the above-mentioned drawbacks of the figure dividing method in the conventional electron beam exposure apparatus and which does not deteriorate the drawing conditions of the divided figure group.
本発明の上記目的は、寸法可変な電子ビームを
用いて図形を描画する場合に、露光可能な電子ビ
ームの最大図形寸法Hmax（Wmax）（頭文字Ｈ，
Ｗはそれぞれ高さと幅を表す。以下同じ。）より
大きな寸法Ｈ（Ｗ）を持つ描画すべき図形を、前
記最大図形寸法Hmax（Wmax）以下の寸法に分
割していくにあたり、電子ビームのぼけの量ｄの
影響を受けないように予め定めた電子ビームの最
小図形寸法をHmin（Wmin）として、Ｈ（Ｗ）が
Hmax＋Hmin（Wmax＋Wmin）より大の場合、
Ｈ（Ｗ）よりHmax（Wmax）を減算することによ
り、Hmax（Wmax）と分割残りの図形の寸法が
Ｈ−Hmax（Ｗ−Wmax）となるごとくの分割を
分割残りの図形にも繰り返し適用し、Ｈ（Ｗ）ま
たは分割残りの図形寸法がHmax（Wmax）より
大かつHmax＋Hmin（Wmax＋Wmin）より小の
場合、分割後の各図形の寸法が予め定めた最小図
形寸法Hmin（Wmin）より大となるごとく所定の
寸法H3（W3）を用いて互いに異なる図形寸法の
H3（W3）と残りの分割図形寸法に分割すること
により達成される。 The above object of the present invention is to obtain the maximum figure dimension Hmax (Wmax) (initial H,
W represents height and width, respectively. same as below. ) When dividing a figure to be drawn having a larger dimension H (W) into dimensions smaller than or equal to the maximum figure dimension Hmax (Wmax), it is determined in advance so as not to be affected by the amount of blur d of the electron beam. Assuming that the minimum figure size of the electron beam is Hmin (Wmin), H (W) is
If greater than Hmax + Hmin (Wmax + Wmin),
By subtracting Hmax (Wmax) from H (W), the division is repeatedly applied to the remaining divided figures such that the dimensions of Hmax (Wmax) and the remaining divided figures become H - Hmax (W - Wmax). , H (W) or the remaining figure size after division is larger than Hmax (Wmax) and smaller than Hmax + Hmin (Wmax + Wmin), the size of each figure after division is larger than the predetermined minimum figure size Hmin (Wmin). Using the predetermined dimension H3 (W3),
This is achieved by dividing into H3 (W3) and the remaining divided figure dimensions.
以下、本発明の実施例を図面に基いて詳細に説
明する。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第３図は本発明の実施例を示す図形分割制御回
路のブロツク図である。図において、２１，２２
はそれぞれ図形の高さおよび幅寸法Ｈ，Ｗ用レジ
スタ、２３，２４はそれぞれ電子ビームの高さお
よび幅の最大寸法Hmax，Wmax用レジスタ、２
５，２６はそれぞれ前記「ぼけ」の影響を受けな
いようにした電子ビームの高さおよび幅の最小寸
法Hmin，Wminと前記電子ビームの最大寸法
Hmax，Wmaxとの和すなわちHmin＋Hmax，
Wmin＋Wmaxをセツトするレジスタ、２７，２
８は高さあるいは幅がHmaxあるいはWmaxより
大きく、かつHmin＋HmaxあるいはWmin＋
Wmaxより小さい場合にＨあるいはＷを分割す
る際に用いる分割寸法H3あるいはW3用レジスタ
である。また、２９，３０，３１はそれぞれ２入
力の選択可能なレジスタ、３２はレジスタ、３３
は減算器、３４はANDゲート、３５，３６はデ
ジタルコンパレータそして３７は制御部である。 FIG. 3 is a block diagram of a figure division control circuit showing an embodiment of the present invention. In the figure, 21, 22
are registers for the height and width dimensions H and W of the figure, respectively; 23 and 24 are registers for the maximum height and width dimensions Hmax and Wmax of the electron beam, respectively; 2
5 and 26 are the minimum dimensions Hmin and Wmin of the height and width of the electron beam and the maximum dimension of the electron beam, respectively, which are not affected by the "blur".
The sum of Hmax and Wmax, that is, Hmin + Hmax,
Register to set Wmin + Wmax, 27, 2
8 has a height or width greater than Hmax or Wmax, and Hmin+Hmax or Wmin+
This is a register for dividing size H 3 or W 3 used when dividing H or W when it is smaller than Wmax. In addition, 29, 30, 31 are selectable registers with 2 inputs, 32 is a register, and 33 is a selectable register with 2 inputs.
34 is an AND gate, 35 and 36 are digital comparators, and 37 is a control section.
以下、本実施例の動作を説明する。まず制御部
３７からのリセツト信号（図示してない）によ
り、レジスタ類はすべてクリアされる。レジスタ
２３，２５，２７および２４，２６，２８にはそ
れぞれ所定のデータがセツトされている。以下の
説明では、第４図に示す図形分割を例として説明
する。描画すべき図形Ｇの高さおよび幅寸法Ｈお
よびＷがそれぞれレジスタ２１および２２に入力
されると、まず高さ方向の分割が行われる。レジ
スタ２１に前記データＨが入力されると、制御部
３７からの信号ａによりそのデータがクロツク
φ1，φ2によつてレジスタ２９に送られ、同時に
デジタルコンバレータ３５，３６により寸法比較
が行われる。第４図に示した図形の場合、最初は
Ｈ＞Hmax，Ｈ＞Hmin＋Hmaxであるため、
AND回路３４の出力によりレジスタ３０にはレ
ジスタ２３の出力（Hmax）が選択され、クロツ
クφ2によつてセツトされるとともに、該データ
はクロツクφ3によつてレジスタ３１にセツトさ
れる。一方、減算器３３によつて、レジスタ２１
の出力（Ｈ）からレジスタ２３の出力（Hmax）
が減算され、この結果、第１の分割高さ寸法が
Hmaxと決定され、分割残りの図形の高さが減算
器３３の出力として示されている。次に幅方向の
分割が行われるが、そのやり方は上述の高さ方向
の分割と全く同様であるので、縦方向の分割の説
明を続ける。幅方向分割完了信号ｂおよび電子ビ
ーム照射完了信号ｃにより、分割図形１０１〜１
０５までの分割および描画の終了が制御部３７に
伝達されると、クロツクφ1により減算器３３の
出力値がレジスタ２９にセツトされ、再びデジタ
ルコンパレータ３５，３６により寸法比較が行わ
れる。現状ではレジスタ２９の出力（Ｈ−Hmax
はレジスタ２３の出力（Hmax）よりは大きく、
レジスタ２５の出力（Hmin＋Hmax）よりは小
さいため、AND回路３４の出力によりレジスタ
３０にはレジスタ２７の出力（H3）が選択され
てセツトされるとともに、レジスタ２９の出力
（Ｈ−Hmax）がレジスタ３２にセツトされる。
そして、減算器３３によつて、レジスタ３２の出
力（Ｈ−Hmax）からレジスタ３０の出力（H3）
が減算されるとともに、レジスタ３０の出力
（H3）がレジスタ３１にセツトされ分割図形１０
６〜１１０の高さがH3と決定される。次いで分
割図形１０１〜１０５の場合と同様に幅方向の分
割および描画がなされ、その完了が信号ａ，ｂに
より制御部３７に伝達されると、減算器３３の出
力が再びレジスタ２９にセツトされる。レジスタ
２９の出力（Ｈ−Hmax−H3）はレジスタ２３
の出力（Hmax）およびレジスタ２５の出力
（Hmin＋Hmax）と、デジタルコンパレータ３
５，３６により比較される。 The operation of this embodiment will be explained below. First, all registers are cleared by a reset signal (not shown) from the control section 37. Predetermined data is set in registers 23, 25, 27 and 24, 26, 28, respectively. In the following description, the graphic division shown in FIG. 4 will be explained as an example. When the height and width dimensions H and W of the figure G to be drawn are input into the registers 21 and 22, respectively, division in the height direction is first performed. When the data H is input to the register 21, the data is sent to the register 29 by the clocks φ 1 and φ 2 in response to the signal a from the control unit 37, and at the same time, the digital converters 35 and 36 compare the dimensions. be exposed. In the case of the figure shown in Figure 4, initially H>Hmax, H>Hmin+Hmax, so
The output (Hmax) of the register 23 is selected for the register 30 by the output of the AND circuit 34, and is set by the clock φ2 , and the data is set in the register 31 by the clock φ3. On the other hand, by the subtracter 33, the register 21
from the output (H) of register 23 (Hmax)
is subtracted, resulting in the first division height dimension being
Hmax is determined, and the height of the remaining divided figure is shown as the output of the subtracter 33. Next, division in the width direction is performed, but the method is exactly the same as the division in the height direction described above, so the description of the division in the vertical direction will be continued. The divided figures 101 to 1 are divided by the width direction division completion signal b and the electron beam irradiation completion signal c.
When the completion of division and drawing up to 05 is transmitted to the control unit 37, the output value of the subtracter 33 is set in the register 29 by the clock φ1 , and the digital comparators 35 and 36 again compare the dimensions. Currently, the output of register 29 (H-Hmax
is larger than the output of register 23 (Hmax),
Since it is smaller than the output of register 25 (Hmin + Hmax), the output of register 27 (H 3 ) is selected and set in register 30 by the output of AND circuit 34, and the output of register 29 (H - Hmax) is set in register 30. It is set to 32.
Then, the subtracter 33 converts the output (H-Hmax) of the register 32 to the output (H 3 ) of the register 30.
is subtracted, and the output (H 3 ) of the register 30 is set in the register 31 and the divided figure 10
The height between 6 and 110 is determined as H3 . Next, as in the case of divided figures 101 to 105, dividing and drawing in the width direction is performed, and when the completion thereof is transmitted to the control unit 37 by signals a and b, the output of the subtracter 33 is set in the register 29 again. . The output of register 29 (H-Hmax-H 3 ) is output from register 23.
output (Hmax), output of register 25 (Hmin + Hmax), and digital comparator 3
5, 36.
現状ではレジスタ２９の出力（Ｈ−Hmax−
H3）はレジスタ２３の出力（Hmax）より小さ
いので、クロツクφ2によりレジスタ２９の出力
（Ｈ−Hmax−H3）がレジスタ３２にセツトされ
た後、デジタルコンパレータ３６の出力によりレ
ジスタ３１に選択的にセツトされる。これによ
り、分割図形１１１〜１１５の高さがＨ−Hmax
−H3と決定されたことになる。分割図形１１１
〜１１５が前と同様に幅方向に分割され描画がな
されると、第４図の描画図形が全て分割および描
画されたことになる。制御部３７は、新たな描画
図形寸法がＨ，Ｗとして入力されると、上と同様
の処理を繰り返す。 Currently, the output of register 29 (H-Hmax-
Since H 3 ) is smaller than the output of register 23 (Hmax), the output of register 29 (H - Hmax - H 3 ) is set in register 32 by clock φ 2 , and then selected in register 31 by the output of digital comparator 36. is set. As a result, the height of the divided figures 111 to 115 becomes H-Hmax.
−H 3 is determined. Divided figure 111
.about.115 are divided in the width direction and drawn in the same manner as before, then all the drawn figures in FIG. 4 are divided and drawn. When the new drawing figure dimensions are input as H and W, the control unit 37 repeats the same process as above.
なお、第３図において破線で囲んだブロツク４
０は、高さ方向の分割を行うレジスタ、コンバー
タ類29〜36に対応する。幅方向の分割を行う要素
を一括して示したもので、その機能は高さ方向の
分割を行う場合と全く同様である。 In addition, block 4 surrounded by a broken line in Fig. 3
0 corresponds to registers and converters 29 to 36 that perform division in the height direction. This shows all the elements for dividing in the width direction, and its function is exactly the same as for dividing in the height direction.
上記実施例においては、最初に高さ方向の分割
を行い次に幅方向の分割を行い、以下これを繰り
返す例を挙げたが、これは幅方向の分割から始め
ても問題はない。 In the above embodiment, an example was given in which first division is performed in the height direction, then division is performed in the width direction, and this is repeated thereafter, but there is no problem in starting from division in the width direction.
また、高さ分割用の演算部と、幅分割用の演算
部とはその回路構成が同一であるから、これを上
述の如く交互に使用する場合には、一つの回路で
済ませることが可能である。但し、この場合に
は、入力部に高さ分割用入力と幅分割用入力との
切替器を、出力部に高さ分割用出力と幅分割用出
力の専用レジスタを設けることが必要である。 Furthermore, since the circuit configurations of the calculation section for height division and the calculation section for width division are the same, if they are used alternately as described above, it is possible to use only one circuit. be. However, in this case, it is necessary to provide a switch for height division input and width division input in the input section, and a dedicated register for height division output and width division output in the output section.
本発明によれば、電子ビーム寸法可変の電子ビ
ーム露光装置において、前記電子ビームに許容し
得る最大寸法より大きな図形を描画する際に、分
割後の図形が予め定めた電子ビームのぼけの量ｄ
の影響を受けないようにした電子ビームの最小図
形寸法より大となる如く分割するようにしたこと
により、分割後の図形が電子ビームの「ぼけ」の
影響を受けないようにすることができる。 According to the present invention, in an electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions, when drawing a figure larger than the maximum size allowable to the electron beam, the divided figure has a predetermined blur amount d of the electron beam.
By dividing the figure so that it is larger than the minimum figure size of the electron beam, it is possible to prevent the figure after division from being affected by the "blurring" of the electron beam.
第１図は従来の図形分割の状況を示す図、第２
図は第１図のＡ−A′断面における電子密度分布
を示すグラフ、第３図は本発明の実施例を示すブ
ロツク図、第４図は本発明による図形分割の状況
を示す図である。
１〜１５，１０１〜１１５…分割図形、２１〜
３２…レジスタ、３３…減算器、３４…ANDゲ
ート、３５，３６…デジタルコンパレータ、３７
…制御部、ｄ…「ぼけ」の量、Ｆ，Ｇ…描画図
形。
Figure 1 shows the situation of conventional figure division, Figure 2
3 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a diagram showing the state of figure division according to the present invention. 1-15, 101-115...Divided figure, 21-
32...Register, 33...Subtractor, 34...AND gate, 35, 36...Digital comparator, 37
...control unit, d...amount of "blur", F, G...drawing figure.
Claims (1)
る場合に、露光可能な電子ビームの最大図形寸法
Hmax（Wmax）（頭文字Ｈ，Ｗはそれぞれ高さと
幅を表す。以下同じ。）より大きな寸法Ｈ（Ｗ）を
持つ描画すべき図形を、前記最大図形寸法Hmax
（Wmax）以下の寸法に分割していくにあたり、
電子ビームのぼけの量ｄの影響を受けないように
予め定めた電子ビームの最小図形寸法をHmin
（Wmin）として、 Ｈ（Ｗ）がHmax＋Hmin（Wmax＋Wmin）よ
り大の場合、 Ｈ（Ｗ）よりHmax（Wmax）を減算することに
より、Hmax（Wmax）と分割残りの図形の寸法
がＨ−Hmax（Ｗ−Wmax）となるごとくの分割
を分割残りの図形にも繰り返し適用し、 Ｈ（Ｗ）または分割残りの図形寸法がHmax
（Wmax）より大かつHmax＋Hmin（Wmax＋
Wmin）より小の場合、 分割後の各図形の寸法が予め定めた最小図形寸
法Hmin（Wmin）より大となるごとく所定の寸法
H3（W3）を用いて互いに異なる図形寸法のH3
（W3）と残りの分割図形寸法に分割することを特
徴とする電子ビーム露光装置における描画図形分
割方法。[Claims] 1. Maximum figure size of the electron beam that can be exposed when drawing a figure using an electron beam with variable dimensions
Hmax (Wmax) (The initials H and W represent height and width, respectively. The same applies hereinafter.) A figure to be drawn with a dimension H (W) larger than the maximum figure dimension Hmax
(Wmax) When dividing into the following dimensions,
The minimum figure size of the electron beam, which is predetermined so as not to be affected by the amount of blur d of the electron beam, is Hmin.
(Wmin), if H(W) is larger than Hmax+Hmin(Wmax+Wmin), by subtracting Hmax(Wmax) from H(W), Hmax(Wmax) and the dimensions of the remaining divided figure become H-Hmax( Repeatedly apply the division as follows (W-Wmax) to the remaining figure, and make sure that H(W) or the dimension of the remaining figure becomes Hmax.
(Wmax) and Hmax+Hmin(Wmax+
If the size is smaller than Hmin (Wmin), set the specified dimensions so that the dimensions of each figure after division are larger than the predetermined minimum figure dimension Hmin (Wmin).
H3 with different geometric dimensions using H3 (W3)
(W3) and the remaining divided figure dimensions in an electron beam exposure apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008678A JPS57122525A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008678A JPS57122525A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57122525A JPS57122525A (en) | 1982-07-30 |
| JPH0371765B2 true JPH0371765B2 (en) | 1991-11-14 |
Family
ID=11699580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56008678A Granted JPS57122525A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57122525A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63199421A (en) * | 1987-02-16 | 1988-08-17 | Toshiba Corp | Charged-beam lithography method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5783030A (en) * | 1980-11-11 | 1982-05-24 | Fujitsu Ltd | Exposure of electron beam |
| JPS57113221A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Fujitsu Ltd | Apparatus for electron beam exposure |
-
1981
- 1981-01-23 JP JP56008678A patent/JPS57122525A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57122525A (en) | 1982-07-30 |
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