JPS6250054B2 - - Google Patents
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- JPS6250054B2 JPS6250054B2 JP56008679A JP867981A JPS6250054B2 JP S6250054 B2 JPS6250054 B2 JP S6250054B2 JP 56008679 A JP56008679 A JP 56008679A JP 867981 A JP867981 A JP 867981A JP S6250054 B2 JPS6250054 B2 JP S6250054B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. program control
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム露光装置における描画図形
分割方法に関し、より詳細には、電子ビーム寸法
可変の電子ビーム露光装置において、描画すべき
図形を分割する際に、前記描画すべき図形の寸法
および面積を考慮することにより、該図形を分割
後の図形群の描画条件を悪化させないように分割
する描画図形分割方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for dividing a figure to be drawn in an electron beam exposure apparatus, and more specifically, to a method for dividing a figure to be drawn in an electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions. The present invention relates to a method for dividing a figure to be drawn, which divides the figure by considering the size and area of the figure to be drawn so as not to deteriorate the drawing conditions of the group of figures after the division.
〔従来の技術〕
電子ビーム露光装置、なかでも走査型電子ビー
ム露光装置は、コンピユータ制御により露光を行
うために、描画図形（以下、単に「図形」ともい
う）に対する融通性が高いこと、あるいは図形の
歪をリアルタイムで補正できること等の利点によ
り、LSI等の生産において実用化されつつある。[Prior Art] Electron beam exposure apparatuses, especially scanning electron beam exposure apparatuses, perform exposure under computer control, so they have high flexibility in drawing figures (hereinafter also simply referred to as "figures"). Due to its advantages such as the ability to correct distortion in real time, it is being put into practical use in the production of LSIs, etc.
走査型電子ビーム露光装置、特に電子ビーム寸
法可変の走査型電子ビーム露光装置においては、
従来、許容し得る最大ビーム寸法（縦をHmax、
横をWmaxとする）より大きい図形を露光する場
合、該図形から上記Hmax、Wmaxの寸法で矩形
を切出して順次露光していたので、矩形の面積す
なわち矩形内の電子の個数に依存する空間電荷効
果により、矩形ビーム周辺部におけるビームの不
均一性（以下、「ぼけ」という）が大きくなり、
露光される図形の質が低下するという実用上重大
な欠点があつた。
In a scanning electron beam exposure apparatus, especially in a scanning electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions,
Conventionally, the maximum allowable beam dimension (vertical is Hmax,
When exposing a larger figure (where the width is Wmax), rectangles with dimensions of Hmax and Wmax were cut out from the figure and exposed sequentially, so the space charge depends on the area of the rectangle, that is, the number of electrons in the rectangle. As a result, the non-uniformity of the beam (hereinafter referred to as "blur") at the periphery of the rectangular beam increases,
There was a serious drawback in practical use that the quality of exposed figures deteriorated.
本発明は、従来の電子ビーム露光装置における
図形分割方法の上述の如き欠点を除去した、分割
後の図形群の描画条件を悪化させないような図形
分割方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a figure dividing method which eliminates the above-mentioned drawbacks of the figure dividing method in the conventional electron beam exposure apparatus and which does not deteriorate the drawing conditions of the divided figure group.
本発明の上述の目的は、電子ビーム寸法可変の
電子ビーム露光装置において、描画すべき図形の
縦横の寸法をそれぞれＨ、Ｗ、前記電子ビームの
縦横の許容最大寸法をそれぞれH0、W0とすると
き、前記描画すべき図形の面積（Ｈ×Ｗ）を予め
定めた値(C)と比較するとともに、H1×W1＝Ｃと
なるような電子ビーム寸法H1、W1を予め定め、
前記描画すべき図形の面積（Ｈ×Ｗ）と前記予め
定めた値(C)との比較結果およびＨとH0、ＷとW0
の比較結果に基づいて、前記描画すべき図形の分
割態様を決定することを特徴とする電子ビーム露
光装置における描画図形分割方法によつて達成さ
れる。
The above-mentioned object of the present invention is to provide an electron beam exposure apparatus having variable electron beam dimensions . At this time, the area (H x W) of the figure to be drawn is compared with a predetermined value (C), and the electron beam dimensions H 1 and W 1 are predetermined so that H 1 ×W 1 = C. ,
Comparison results between the area (H x W) of the figure to be drawn and the predetermined value (C), H and H 0 , W and W 0
This is achieved by a method for dividing a figure to be drawn in an electron beam exposure apparatus, which is characterized in that the manner in which the figure to be drawn is divided is determined based on the comparison result.
前述の如く、本発明のポイントは、電子ビーム
の「ぼけ」の大きさが電子ビームの面積に比例す
ることに着目して、電子ビームの面積を制限して
露光する点にあり、具体的には電子ビーム周辺部
の「ぼけ」を許容値以下に抑え、かつ、使用し得
る最大面積の電子ビームを使用するようにした点
にある。
As mentioned above, the key point of the present invention is to perform exposure by limiting the area of the electron beam, focusing on the fact that the size of the "blur" of the electron beam is proportional to the area of the electron beam. This method suppresses the "blur" in the peripheral area of the electron beam to less than a permissible value, and uses the maximum area of the electron beam that can be used.
第１図はこの状況を示すもので、縦軸および横
軸は、それぞれ描画図形あるいは電子ビームの縦
および横寸法に対応する長さ（Ｈb、Ｗb）であ
る。また、H0、W0は電子ビーム露光装置におい
て許容される縦および横の最大寸法を示し、曲線
はＨb・Ｗb＝Ｃ（Ｃは定数）なる関係にある縦寸
法Ｈb、横寸法Ｗbの関係を示すグラフである。 FIG. 1 shows this situation, where the vertical and horizontal axes are lengths (H b , W b ) corresponding to the vertical and horizontal dimensions of the drawing figure or the electron beam, respectively. In addition, H 0 and W 0 indicate the maximum vertical and horizontal dimensions allowed in the electron beam exposure apparatus, and the curve shows the vertical dimension H b and the horizontal dimension in the relationship H b · W b = C (C is a constant). It is a graph showing the relationship of W b .
ここで、上記定数Ｃは、以下の如く、ある電子
光学系について物理的性質から決定される値であ
る。すなわち、電子光学系において、空間電荷効
果によつて生ずる電子ビームの拡がり、つまり、
前述の「ぼけ」δＷSCは、
δＷSC＝KIL／（√2・Ｖ・α） ……(1)
で与えられる（参考文献：E.Goto他「1978年米
国電気化学学会予稿集」）。ここで、Ｋ：定数、
Ｉ：電子ビーム電流値、Ｖ：電子ビーム加速電
圧、Ｌ：電子光学系の物面と像面との距離、α：
集中半角、ｅ：電子電荷、ｍ：電子の質量であ
る。 Here, the constant C is a value determined from the physical properties of a certain electron optical system, as described below. In other words, in an electron optical system, the spread of the electron beam caused by the space charge effect, that is,
The above-mentioned "blur" δW SC is given by δW SC = KIL/(√2·V·α) (1) (Reference: E. Goto et al., "Proceedings of the Electrochemical Society of America, 1978"). Here, K: constant,
I: electron beam current value, V: electron beam acceleration voltage, L: distance between the object plane and image plane of the electron optical system, α:
concentration half-angle, e: electron charge, m: mass of electron.
矩形電子ビームを発生する電子史学系では該電
子ビーム内の電流密度は略一定に構成するため、
Ｉ＝JHbWb（Ｊ：電流密度） ……(2)
となり、従つて、前記(1)式は、
δＷSC＝KJHbWbL／（√2・Ｖ・α）
となる。ここで、他の要因によるビームの拡がり
が無視し得る場合、描画図形の露光に許されるビ
ームの拡がりをδＷEXとすると、露光に使用し得
るＨbとＷbの積は、
Ｈb・Ｗb＝（δＷEX・√2・Ｖ・α）／KJL
となり、従つて、上記定数Ｃは、
Ｃ≡（δＷEX・√2・・Ｖ・α）／KJL
という意味を持つ。 In an electron history system that generates a rectangular electron beam, the current density in the electron beam is configured to be approximately constant, so I=JH b W b (J: current density) ...(2), and therefore, the above (1) ) formula becomes δW SC = KJH b W b L/(√2・V・α). Here, if the beam spread due to other factors can be ignored, and the beam spread allowed for exposure of the drawn figure is δW EX , the product of H b and W b that can be used for exposure is H b W b = (δW EX・√2・V・α)/KJL Therefore, the above constant C has the meaning of C≡(δW EX・√2・・V・α)/KJL.
そして、本発明においては、Ｃの値として上式
により計算される値より小さな値を用いている点
に注意する必要がある。 It should be noted that in the present invention, a value smaller than the value calculated by the above formula is used as the value of C.
なお、電子ビームの「ぼけ」は、前述の如く、
電子ビームの拡がりによるものであり、従つて、
露光装置の特性により決定付けられるものであ
る。また、「ぼけ」の量は、露光の際の電子ビー
ムの面積（Ｈb×Ｗb）に依存する。一方、描画図
形の露光に「許容されるぼけの量」は、予め決定
されるものである。「ぼけ」量を、上記「予め決
めた許容されるぼけ量」の範囲に抑えるための条
件が、上記定数Ｃであり、露光の際の電子ビーム
の面積（Ｈb×Ｗb）を上記Ｃ以下にすることによ
り、当然、「ぼけ」量は「許容されるぼけ量」以
下になる。 As mentioned above, the "blur" of the electron beam is caused by
This is due to the expansion of the electron beam, and therefore,
This is determined by the characteristics of the exposure device. Further, the amount of "blur" depends on the area (H b ×W b ) of the electron beam during exposure. On the other hand, "the amount of blur allowed" for exposure of a drawn figure is determined in advance. The condition for suppressing the amount of "blur" within the range of the "predetermined allowable blur amount" is the constant C, and the area (H b × W b ) of the electron beam during exposure is set to the C By doing the following, the amount of "blur" will naturally be equal to or less than the "allowable amount of blur."
第１図によれば、すべての描画すべき図形は、
その寸法および面積により次の４群に分類するこ
とができる。本発明では、以下の各群に対して、
それぞれ特有の図形分割方法を対応させるもので
ある。なお、図のH1およびW1は、描画すべき図
形が矩形と仮定した場合の、ＨbＷb＝Ｃなる条件
を満足するＨbおよびＷbの値の一例であり、Ｈお
よびＷは、前述の描画すべき図形の縦および横の
寸法を示している。 According to Figure 1, all the figures to be drawn are
They can be classified into the following four groups according to their size and area. In the present invention, for each of the following groups,
Each method corresponds to a unique figure division method. Note that H 1 and W 1 in the figure are examples of values of H b and W b that satisfy the condition H b W b = C, assuming that the figure to be drawn is a rectangle, and H and W are , indicating the vertical and horizontal dimensions of the figure to be drawn.
(1) Ｈ・Ｗ≦Ｃで、かつＷ＞W0（図ののエリ
ア）
この場合、図形の面積は基準値Ｃ以下である
ので、電子ビームの「ぼけ」に対する処置は不
要である。横寸法が電子ビームの最大寸法を越
えていることに対しての処置として、ＷをW1
で分割することが必要である。Ｈは分割しな
い。(1) H·W≦C and W>W 0 (area in the figure) In this case, since the area of the figure is less than the reference value C, no measures are required for the "blurring" of the electron beam. As a measure against the fact that the horizontal dimension exceeds the maximum dimension of the electron beam, change W to W 1
It is necessary to divide the H is not divided.
(2) Ｈ・Ｗ≦Ｃで、かつＨ＞H0（図ののエリ
ア）
この場合も(1)と同様で、ＨとH1で分割する
ことが必要である。Ｗは分割しない。(2) H.W≦C and H>H 0 (area in the figure) In this case as well, it is the same as (1), and it is necessary to divide by H and H 1 . W is not divided.
(3) Ｈ・Ｗ≦Ｃ、かつＨ≦Ｈ、Ｗ≦W0（図の
のエリア）
この場合は、図形の分割は不要である。すな
わち図形はＨおよびＷの縦横寸法で描画され
る。(3) H.W≦C, and H≦H, W≦W 0 (area in the figure) In this case, there is no need to divide the figure. That is, the figure is drawn with H and W dimensions.
(4) Ｈ・Ｗ＞Ｃ（図ののエリア） この場合を更に３つに分類する。(4) H/W>C (area in the diagram) This case is further classified into three.
(イ) Ｈ＞H1で、かつＷ≦W1のとき
Ｗは分割不要（横寸法はＷで描画する）、
ＨをH1で分割する。 (b) When H>H 1 and W≦W 1 , W does not need to be divided (horizontal dimension is drawn with W),
Divide H by H 1 .
(ロ) Ｈ≦H1で、かつＷ＞W1のとき
Ｈは分割不要（縦寸法はＨで描画する）、
ＷをW1で分割する。 (b) When H≦H 1 and W>W 1 , H does not need to be divided (the vertical dimension is drawn with H),
Divide W by W 1 .
(ハ) Ｈ＞H1で、かつＷ＞W1のとき ＨをH1で、ＷをW1で分割する。 (c) When H>H 1 and W>W 1 Divide H by H 1 and W by W 1 .
以上が本発明の図形分割方法の概要である。以
下、上述の如き図形分割を実施するための、図形
分割制御回路について実施例を挙げて説明する。 The above is an overview of the figure dividing method of the present invention. Hereinafter, a figure division control circuit for carrying out the above-described figure division will be described with reference to embodiments.
第２図は本発明の一実施例を示す図形分割制御
回路のブロツク図である。図において、１は縦方
向の分割制御回路、２は詳細を省略してあるが、
１と同じ構成を有する横方向の分割制御回路であ
る。３〜９はそれぞれ前述のW0、Ｗ、W1、H0、
Ｈ、H1および定数Ｃ用のレジスタ、１０はデイ
ジタル乗算器、１１〜１５，１８はデイジタルコ
ンパレータ、１６，１９，２０はレジスタ付きセ
レクタ、１７は減算器、２１は制御部を示してい
る。
FIG. 2 is a block diagram of a figure division control circuit showing one embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a vertical division control circuit, and 2 is a vertical division control circuit, details of which are omitted.
This is a horizontal division control circuit having the same configuration as No. 1. 3 to 9 are the aforementioned W 0 , W, W 1 , H 0 , respectively.
10 is a digital multiplier, 11 to 15 and 18 are digital comparators, 16, 19 and 20 are selectors with registers, 17 is a subtractor, and 21 is a control section.
また、第４図は、前記(2)の場合の描画図形Ｆ
を、第２図に示す分割制御回路により分割する場
合の分割形態を示す図であり、以下、詳細に説明
する。 In addition, FIG. 4 shows the drawn figure F in the case of (2) above.
FIG. 3 is a diagram showing a division form in the case of dividing by the division control circuit shown in FIG. 2, and will be described in detail below.
レジスタ１６，１９および２０の内部データを
クリアし、一方、レジスタ３，６には、それぞれ
電子ビームに許容される最大横寸法W0および縦
寸法H0を、レジスタ５，８には、それぞれH1・
W1＝Ｃの条件を満たすW1およびH1の値を、ま
た、レジスタ９には上記Ｃの値を、それぞれセツ
トしておく。描画すべき図形Ｆ（第４図参照）の
横寸法Ｗおよび縦寸法Ｈが、それぞれレジスタ
４，７に入力されると、デジタル乗算器１０によ
りＨ・Ｗが演算され、この出力はデジタルコンパ
レータ１２により比較される。他のデジタルコン
パレータ１１，１３，１４，１５の出力もすべて
制御部２１に伝達され、ここで前述のロジツクに
より図形を分割するかどうかを判別する。 The internal data of registers 16, 19 and 20 are cleared, while registers 3 and 6 contain the maximum horizontal dimension W 0 and vertical dimension H 0 allowed for the electron beam, respectively, and registers 5 and 8 contain the maximum horizontal dimension H 0 respectively. 1・
The values of W 1 and H 1 that satisfy the condition W 1 =C, and the value of C described above are set in the register 9, respectively. When the horizontal dimension W and vertical dimension H of the figure F to be drawn (see FIG. 4) are input to the registers 4 and 7, respectively, H and W are calculated by the digital multiplier 10, and this output is sent to the digital comparator 12. compared by. The outputs of the other digital comparators 11, 13, 14, and 15 are also all transmitted to the control section 21, where it is determined whether or not to divide the figure using the aforementioned logic.
前記(2)の場合（第４図）、すなわちＨ・Ｗ≦Ｃ
で、かつＨ＞H0の場合は、図示されていない制
御部２１からの出力により、レジスタ４の出力
（Ｗ）がそのまま、２６に出されるとともに、以
下の手順によりＨがH1で分割される。すなわ
ち、制御部２１からの出力ａおよびｂにより、レ
ジスタ８の出力（H1）がレジスタ付きセレクタ１
９および２０を通つて２５に出力され、同時に制
御部２１からの信号ｃにより、レジスタ付きセレ
クタ１６、減算器１７を通して、Ｈ−H1の値が
レジスタ付きセレクタ１６にセツトされる。次
に、デイジタルコンパレータ１８によりＨ−H1
とH1とが比較されて、Ｈ−H1＞H1のときは先と
同様にH1が２５に出力され、同時にＨ−2H1の値
がレジスタ付きセレクタ１６に再度セツトされ
る。 In the case of (2) above (Fig. 4), that is, H・W≦C
, and if H>H 0 , the output (W) of the register 4 is sent as is to 26 by the output from the control unit 21 (not shown), and H is divided by H 1 according to the following procedure. Ru. That is, the output (H 1 ) of the register 8 is set to the register selector 1 by the outputs a and b from the control unit 21.
At the same time, the value of H-H 1 is set in the register selector 16 through the register selector 16 and the subtracter 17 in response to the signal c from the control section 21 . Next, the digital comparator 18 converts H−H 1
and H1 are compared, and when H- H1 > H1 , H1 is output to 25 as before, and at the same time, the value of H- 2H1 is set in the register selector 16 again.
上述のステツプを繰り返して、Ｈ−nH1＜H1
（ここで、ｎは整数）となつたとき、制御部２１
からの信号ｂにより、Ｈ−nH1が２５に出力され
る。 Repeat the above steps to obtain H−nH 1 <H 1
(Here, n is an integer), the control unit 21
H-nH 1 is output to 25 by signal b from .
第４図においてはｎ＝３に相当し、図のH′は H′＝Ｈ−3H1 なる関係にある。 In FIG. 4, n=3, and H' in the figure has the relationship H'=H-3H 1 .
以上説明した前記(2)の場合は、縦方向のみの図
形分割を行うものであつたが、前記(1)あるいは(4)
(ロ)の如く、横方向の分割のみを行う場合には、第
３図の斜線を施した領域の如く、左からW1で分
割して行き、これをＷ−mW1＜W1（ｍは整数）
になるまで繰り返す。Ｗ−mW1＜W1となつた最
後の領域については、
W′＝Ｗ−mW1
が２６に出力される。 In case (2) explained above, the figure is divided only in the vertical direction, but in case (1) or (4) above,
When dividing only in the horizontal direction as in (b), divide by W 1 from the left, as in the shaded area in Figure 3, and divide this by W - mW 1 < W 1 (m is an integer)
Repeat until. For the last region where W-mW 1 <W 1 , W'=W-mW 1 is output to 26.
また、前記(4)(ハ)の如く、縦方向および横方向の
両方向に図形分割を行う場合には、いずれか一
方、例えば縦方向の分割を行つた後、他方、すな
わち横方向の分割を行う。この場合、縦方向と横
方向のどちらを最初に分割かは、自由に選択する
ことができる。 In addition, when dividing the figure in both the vertical and horizontal directions as in (4) (c) above, after dividing the figure in one direction, for example, in the vertical direction, the other, that is, in the horizontal direction, is divided. conduct. In this case, it is possible to freely select which direction to divide first, the vertical direction or the horizontal direction.
なお、上記実施例においては、演算部として縦
方向分割制御用と横方向分割制御用との２つの回
路を有する例を示したが、これらは同一の回路構
成を有するものであるので、１つの演算部により
縦方向と横方向との両方の分割制御を行うことも
可能である。但し、この場合には、入力部に縦方
向と横方向の入力の切替器を、また、出力部に縦
方向用出力、横方向用出力の各専用レジスタを設
けることが必要である。 In addition, in the above embodiment, an example was shown in which the arithmetic unit has two circuits, one for vertical division control and one for horizontal division control, but since these have the same circuit configuration, one It is also possible to perform division control in both the vertical and horizontal directions using the calculation unit. However, in this case, it is necessary to provide a switch for vertical and horizontal inputs in the input section, and to provide dedicated registers for vertical and horizontal outputs in the output section.
以上述べた如く、本発明によれば、電子ビーム
寸法可変の電子ビーム露光装置において、描画す
べき図形の縦横の寸法をそれぞれＨ、Ｗ、前記電
子ビームの縦横の許容最大寸法をそれぞれH0、
W0とするとき、前記描画すべき図形の面積（Ｈ
×Ｗ）を予め定めた値(C)と比較するとともに、
H1×W1＝Ｃとなるような電子ビーム寸法H1、W1
を予め定め、前記描画すべき図形の面積（Ｈ×
Ｗ）と前記予め定めた値(C)との比較結果、およ
び、ＨとH0、ＷとW0の比較結果に基づいて、前
記描画すべき図形の分割態様を決定し、この態様
に従つて前記描画すべき図形を分割するようにし
たので、電子ビーム周辺部におけるビームの「ぼ
け」の影響を受けない範囲で、最も効率的な電子
ビーム露光を行うことができるという顕著な効果
を奏するものである。
As described above, according to the present invention, in the electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions, the vertical and horizontal dimensions of the figure to be drawn are respectively H and W, and the maximum permissible vertical and horizontal dimensions of the electron beam are H 0 , respectively.
When W 0 , the area of the figure to be drawn (H
×W) is compared with a predetermined value (C), and
Electron beam dimensions H 1 , W 1 such that H 1 ×W 1 = C
is determined in advance, and the area of the figure to be drawn (H×
Based on the comparison results between W) and the predetermined value (C), and the comparison results between H and H 0 and W and W 0 , the method of dividing the figure to be drawn is determined, and according to this method. Since the figure to be drawn is divided into parts, it is possible to perform the most efficient electron beam exposure without being affected by the "blurring" of the beam at the periphery of the electron beam, which is a remarkable effect. It is something.
第１図は本発明の概要を示す図、第２図は本発
明の一実施例を示す分割制御回路のブロツク図、
第３図、第４図は図形分割の例を示す図である。
１：縦方向分割制御回路、２：横方向分割制御
回路、３〜９：レジスタ、１０：乗算器、１１〜
１５，１８：デイジタルコンパレータ、１６，１
９，２０：レジスタ付きセレクタ、１７：減算
器、２１：制御部、ａ，ｂ，ｃ：制御信号、Ｆ：
描画すべき図形。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram of a division control circuit showing an embodiment of the present invention.
FIGS. 3 and 4 are diagrams showing examples of figure division. 1: Vertical division control circuit, 2: Horizontal division control circuit, 3 to 9: Register, 10: Multiplier, 11 to
15, 18: Digital comparator, 16, 1
9, 20: Selector with register, 17: Subtractor, 21: Control unit, a, b, c: Control signal, F:
Shape to be drawn.
Claims (1)
おいて、描画すべき図形の縦横の寸法をそれぞれ
Ｈ、Ｗ、前記電子ビームの縦横の許容最大寸法を
それぞれH0、W0とするとき、前記描画すべき図
形の面積（Ｈ×Ｗ）を予め定めた値(C)と比較する
とともに、H1×W1＝Ｃとなるような電子ビーム
寸法H1、W1を予め定め、前記描画すべき図形の
面積（Ｈ×Ｗ）と前記予め定めた値(C)との比較結
果、および、ＨとH0、ＷとW0の比較結果に基づ
いて、下記の各条件により、前記描画すべき図形
の分割態様を決定することを特徴とする電子ビー
ム露光装置における描画図形分割方法。 (イ) Ｈ×Ｗ≦ＣでかつＷ＞W0の場合 横方向のみ、ＷをW1で分割 (ロ) Ｈ×Ｗ≦ＣでかつＨ＞H0の場合 縦方向のみ、ＨをH1で分割 (ハ) Ｈ×Ｗ≦ＣでかつＨ＜H0、Ｗ＜W0の場合 分割は行わない (ニ) Ｈ×Ｗ＞Ｃの場合 ＨとH1、ＷとW1の比較を行い、以下の(1)〜
(3)に従つて分割 (1) Ｈ＞H1、Ｗ＞W1の場合 ＨをH1で分割、ＷをW1で分割 (2) Ｈ＞H1、Ｗ≦W1の場合 ＨをH1で分割 (3) Ｈ≦H1、Ｗ＞W1の場合 ＷをW1で分割[Claims] 1. In an electron beam exposure apparatus with variable electron beam dimensions, the vertical and horizontal dimensions of a figure to be drawn are H and W, respectively, and the maximum permissible vertical and horizontal dimensions of the electron beam are H 0 and W 0 , respectively. At this time, the area (H x W) of the figure to be drawn is compared with a predetermined value (C), and the electron beam dimensions H 1 and W 1 are predetermined so that H 1 ×W 1 =C, Based on the comparison results between the area (H x W) of the figure to be drawn and the predetermined value (C), and the comparison results between H and H 0 and W and W 0 , according to the following conditions, A method for dividing a figure to be drawn in an electron beam exposure apparatus, characterized by determining a dividing manner of the figure to be drawn. (B) If H×W≦C and W>W 0 , in the horizontal direction only, divide W by W 1 (b) If H×W≦C and H>H 0 , only in the vertical direction, divide H by H 1 Divide by (c) If H×W≦C and H<H 0 and W<W 0 , do not divide (d) If H×W>C, compare H and H 1 and W and W 1 . , below (1)~
Divide according to (3) (1) When H>H 1 and W>W 1 Divide H by H 1 and W by W 1 (2) When H>H 1 and W≦W 1 H Divide by H 1 (3) When H≦H 1 , W>W 1 Divide W by W 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008679A JPS57122526A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008679A JPS57122526A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57122526A JPS57122526A (en) | 1982-07-30 |
| JPS6250054B2 true JPS6250054B2 (en) | 1987-10-22 |
Family
ID=11699609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56008679A Granted JPS57122526A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Dividing method for drawing figure in electron beam exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57122526A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59229819A (en) * | 1983-06-13 | 1984-12-24 | Hitachi Ltd | Electron beam patterning apparatus |
| JP2680295B2 (en) * | 1984-03-22 | 1997-11-19 | 株式会社東芝 | Method and apparatus for drawing data of electron beam exposure apparatus |
-
1981
- 1981-01-23 JP JP56008679A patent/JPS57122526A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57122526A (en) | 1982-07-30 |
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