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JPH0413877B2 - - Google Patents
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JPH0413877B2 - - Google Patents

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JPH0413877B2
JPH0413877B2 JP31293487A JP31293487A JPH0413877B2 JP H0413877 B2 JPH0413877 B2 JP H0413877B2 JP 31293487 A JP31293487 A JP 31293487A JP 31293487 A JP31293487 A JP 31293487A JP H0413877 B2 JPH0413877 B2 JP H0413877B2
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resin composition
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    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

<産業上の利用分野> この発明は、基板部と無電解めつきにより形成
された導体部とを備えて成り、基板部の導体部突
設面において、非めつき領域がシランカツプリン
グ剤の誘導体で被覆されているプリント基板を製
造するに際し、非めつき領域へシランカツプリン
グ剤を付与するための樹脂組成物に関する。 <従来の技術> 従来のプリント基板1は、第10図の如く、基
板部3と導体部5とから成る。一般的なエツチン
グ法では、銅張り積層板から不用部分を薬品で溶
解除去して、導体部5は形成される。またアデイ
テイブ法では、第11図の如く、基板部13にお
いて導体部17を形成しない領域(以下、「非め
つき領域」という)を樹脂層15で被覆した構成
となる。 <発明が解決しようとする問題点> かかる従来のプリント基板1,11であつて
も、今までのニーズには対応することができた。 しかしながら、昨今における装置の小型化、高
密度化にともなう、プリント基板の微細化の傾向
に十分な対応ができなくなつてきた。 特に、エツチング法によつて製造する場合、薬
品で不用部分の銅箔を溶解除去するときに、第1
0図のように、導体部5の基底部まで逆テーパ状
に浸食する(いわゆるアンダーカツト現象)傾向
がある。このため、回路の微細化で導体部5,5
どうしの間隔をせばめていつた場合、上記薬品を
細部まで循環流動させる必要があるため、一段と
この傾向が強くなり、導体部5の基底部が著しく
痩せてしまい、導体部5と基板部3との密着強度
は極端に低下する。 また、一般に施されるハンダコーテイングのと
きに、ハンダが基板部3の空白部4に付着して、
短絡してしまうなどの欠点がある。 更に、第11図のプリント基板11では、樹脂
相15の存在のため、導体部17,17どうしの
間隔をせまくしていくと、めつき反応で発生する
水素ガスの放散が悪くなり、導体部17の肉厚に
不同ができたり、樹脂層15が霧状にめつきされ
たりして、導体部17,17間の絶縁抵抗を阻害
するおそれがある。 そこでこの発明は、(ア)樹脂層などを設けないこ
とで、水素ガスの放散を促進しながらメツキする
ことができること、(イ)アンダーカツトのない均一
な厚みの微細回路を形成できること、(ウ)導体部以
外の部分にハンダが付着しないこと、を達成する
プリント基板を無電解めつきの手法で製造するに
際し、上記各目的を達成する主役となるシランカ
ツプリング剤の誘導体を、基板部の非めつき領域
へ付与するための樹脂組成物を提供することを目
的とする。 <問題点を解決するための手段> 本発明者は、上記目的を達成すべく、鋭意検討
を重ねてきた結果、下記発明の樹脂組成物に想到
した。 基板部と無電解めつきにより形成された導体部
とを備えて成り、基板部の導体部突設面におい
て、非めつき領域がシランカツプリング剤の誘導
体で被覆されているプリント基板を製造するに際
し、非めつき領域へ前記シランカツプリング剤を
付与するための樹脂組成物であつて、ロジン、シ
ランカツプリング剤、必要に応じて添加される硫
黄化合物、及び酸性めつき用メツキレジスト剤を
有効成分とすることを特徴とする。 <手段の詳細な説明> 以下、上記手段について詳細に説明する。 この樹脂組成物は、ロジン、シランカツプ
リング剤、必要に応じて添加される硫黄化合物
及び酸性めつき用メツキレジスト剤を有効成分
としている。 ロジンは、一般の称呼ロジン(松脂)と呼ぶ
ものや他の植物から抽出する多くの種類のロジ
ンが有効で、カナダ産のかえでから抽出される
カナダバルサムが特に好ましい。 ロジンの配合量は、樹脂組成物における重量
%で3〜50%、好ましくは15〜30%である。3
〜50%の範囲を外れると、下記(イ)の工程の粗化
液により当該樹脂組成物が破壊されるおそれが
ある。 シランカツプリング剤とは、有機重合体と無
機材料とを化学的に結合する能力をもつている
シラン及びその他のけい素化合物をいう。例え
ば、トリエトキシメチルシラン、トリメトキシ
メチルシラン、トリエトキシフエニルシラン、
トリメトキシフエニルシラン、トリエトキシビ
ニルシラン、α−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−(β−アミノエチル)−α−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、α−メタクリル
オキシプロピルトリメトキシシラン、α−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、ウレイド
プロピルトリエトキシシラン等を挙ることがで
きる。 その配合量は、樹脂組成物における重量%で
0.1〜15.0%、好ましくは1.5〜5.0%である。0.1
%未満であると、非めつき領域にめつきが析出
するおそれがあり、一方15.0%を越えると、め
つき領域にめつきがのらないおそれがあるの
で、それぞれ好ましくない。 尚、このとき、基板部25の材質が無機質、
有機質又は両者の混合したものであるかに応じ
て、被膜29中のシランカツプリング剤の配合
量を調整しなければならないが、非めつき領域
26の界面に、十分な結合手の供給と、シラン
カツプリング剤の誘導体相を形成するに足りる
量が必要で、実験的に決定される(第1表の各
実施例参照)。 このシランカツプリング剤は、一般的な樹脂
組成物用溶剤(エチレングリコールモノブチル
エーテル、2−(2−エトキシエトキシ)エタ
ノール等)との相溶性が良好である。また、既
述のロジンや後述の硫黄化合物との相溶性
も良好である。 そして、このシランカツプリング剤は、後記
するように、この発明の樹脂組成物を利用した
プリント基板の製造方法が水処理系であるた
め、主としてシラノール等の誘導体へ変性す
る。 硫黄化合物には、2−メルカプトベンゾチア
ゾール、チオ尿素、メチルブルー、メチレング
リーン、2−イミダゾリジンチオン、メチルオ
レンジ、タウリン等を挙ることができる。 この硫黄化合物を添加することにより、後述
する(エ)の無電解めつき工程において、非めつき
領域へめつきが析出することを確実に防止でき
ることとなる。 これは、硫黄化合物がシランカツプリング剤
の官能基との結合をともなつて非めつき領域に
転写されることによると考えられる。 このように、硫黄化合物の添加は必要に応じ
てされる。 この硫黄化合物の配合量は、微量で充分であ
るが、当該樹脂組成物に対する重量%で、
0.005〜0.5の範囲である。0.005%未満では、上
記防止機能が有効に発揮されないおそれがあ
り、また0.5%を越える範囲では、硫黄成分が
還元剤のホルマリンに触媒毒として働き、めつ
き境界線を超えてめつき領域にまで影響を及ぼ
すために、めつき析出反応が停止するなどの理
由により、無電解めつきができないおそれがあ
るので、それぞれ好ましくない。 尚、上記ロジン、シランカツプリング
剤、硫黄化合物をそれぞれ単体で酸性めつ
き用メツキレジスト剤に添加した場合には、そ
の樹脂組成物は粗化液等の強酸性溶液に耐えら
れない(第1表の各比較例参照)。 酸性めつき用メツキレジスト剤には、例えば
山栄化学株式会社製の(商品名)メツキレジス
ト剤SPR−530CMTを用いることができる。
このめつきレジスト剤には、無機質の充填剤が
配合されている。 尚、上記酸性めつき用メツキレジスト剤の単
体では、下記(イ)の工程に使用する粗化液等の強
酸性溶液に耐えることができない。 この樹脂組成物は、後記の工程(イ),(ウ)で使用す
る強酸性の粗化液、触媒液、活性化液に対する耐
久性を備える。 その理由を推定するならば、下記(a)〜(c)のよう
になると考えられる。 (a) 被膜29の樹脂組成物へシランカツプリング
剤を加えないときは、第3図のように、無機質
充填剤(メツキレジスト剤に配合されている)
の粒界はOH基を外側に向けた親水性を示して
いる。これに対し、シランカツプリング剤(例
えばトリメトキシ(メチル)シラン;CH3Si
(OCH33)を加えたときには、本発明の工程
における水をともなう処理によつて加水分解
し、第4図のように無機質充填剤の粒界はCH3
基を外側へ向けた疎水性となる。また、CH3
により無機充填剤と有機成分との結合力が増大
する。このため、被膜29は、内面、外面がと
もに強力な疎水性と緻密性をもつて造膜され、
粗化液や触媒液等の強酸性の溶液に浸漬しても
侵されることがない。このような被膜29の特
性により、その膜厚を可及的に薄くすることが
できる。よつて、微細なパターンを陰画印刷を
するのに適したものとなる。 (b) 次に、被膜29には、上記(a)で述べた緻密性
と耐薬品性の性能を有するに足りる量以上のシ
ランカツプリング剤が配合されている。この少
し余剰のシランカツプリング剤が、非めつき領
域26の界面へ強固に結合しており、被膜29
をアルカリ水溶液で剥離した後も、非めつき領
域26の界面には、シランカツプリング剤が加
水分解して生成したシラノール(シランカツプ
リング剤の誘導体)の固着膜を残置させること
ができる。そしてこのシラノールの最外殻相は
H基を外方向に向けているため、疎水性と、水
素原子や水素ガス及び金属イオンを反発する機
能があるため、めつきの析出を完全に制御する
ことが実験から確かめることができた。そして
この機能は、立体的に即ち3次元方向にも効力
を及ぼしていることも判明した。その状態を推
測すると、非めつき領域26上に、自然界で見
られるはすの葉上の水滴の如く、半楕円の断面
形状にめつき制御相24を形成していると考え
られる。 (c) 乾燥させた被膜29の表面を、塩酸、硫酸等
の酸性水溶液で処理すると一段と疎水機能が高
まつたり、上記(b)の特性が高まつたり、被膜2
9の表面が強固になる。これは、樹脂組成物が
酸基の影響を受けて効果が促進されることと併
せて、被膜29の表面のシラノール化した相の
最外殻の単分子相或いは相の一部がシリカゲル
化するか、又は、シラノール−有機成分間の結
付きが一層強固になることが関与しているもの
と考えられる。 次に、上記樹脂組成物を用いたプリント基板の
製造方法について説明する。 (ア) 基板部25の非めつき領域26を上記樹脂組
成物で被覆する工程 基板部25は、導体部23を支持可能な板状
部材であり、その形成材料は特に限定されな
い。例えば、プラスチツク、セラミツクス、ガ
ラス、半導体及びこれらの積層体を挙ることが
できる。また、基板部25における導体部23
の突設面が曲面であつてもよい。 樹脂組成物を既述の溶剤で希釈して、基板部
25へスクリーン印刷する(第2図参照)。こ
れにより得られる被膜29の厚さは4〜7μmと
する。4μm未満では、スクリーン印刷した場合
にかすれるおそれがある。7μmを越える厚み
は、この樹脂組成物が緻密性を有するために、
不要である。 (イ) 基板部25のめつき領域27へ触媒を付与す
る工程 まず、基板部25のめつき領域27を、粗化
液により粗化する必要がある。 粗化液としては、基板部25が樹脂製のと
き、クロム酸+硫酸、クロム酸+硫酸+リン
酸、硫酸+リン酸などの混合水溶液を用い、基
板部25がセラミツクス、ガラス又は半導体製
のときには、ふつ化水素酸溶液などを用いる。
そして、これらの粗化液へ基板部25を浸漬す
ると、上記被膜29により保護されていないめ
つき領域が粗化されることとなる。 次に、めつき領域へ触媒を付与する。 例えば、パラジウムを触媒とする場合には、
塩化パラジウムと塩酸の混合溶液(触媒液)へ
基板部25を浸漬し、基板部25へパラジウム
を担持する工程と、これを塩化すずと塩酸の混
合溶液(活性化液)へ浸漬してパラジウムを活
性化する工程で行なう。 勿論、1液性の触媒液を用いた工程でもよ
い。また、触媒の種類については、特に限定さ
れない。 (ウ) 非めつき領域26の被膜29を除去する工程 この工程は、耐酸性を有する被膜29であつ
ても、アルカリ水溶液により分解されので、水
酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ
水溶液へ基板部25を侵漬して行なう。 このとき、被膜29と基板部25の非めつき
領域26との界面の状態は、被膜29中に含ま
れているシランカツプリング剤(被膜29へ既
述の特性を付与するのに関与しないもの)が重
要な役割を果たしている。即ち、被膜29を基
板部25に印刷したときに、シランカツプリン
グ剤の有機、無機側の双方の官能基のうち何れ
かの結合手が、基板部25の材質に応じて選択
的に作用し、基板界面に強固に結合して非めつ
き領域26を被覆している。従つて、アルカリ
水溶液で被膜29を除去したときに、この界面
も同時に加水分解をうけるため、固着している
シランカツプリング剤の相はシラノールに変性
して非めつき領域26の界面に残置される。か
かるシランカツプリング剤の誘導体の相は、単
分子の薄い相を形成していれば、十分に既述の
(b)の効果を発揮することができる。つまり、非
めつき領域26の周辺域を疎水化したり、水素
イオン、水素ガス、金属イオンの接近を阻止す
ることができ、非めつき領域26にめつきが析
出することを防止することができる。 (エ) 無電解めつきにより、基板部25のめつき領
域27へ導体部23を形成する工程 この工程は、基板部25を無電解めつき液へ
浸漬して行なう。 基板部25をめつき液へ浸漬すると、触媒が
付与されているめつき領域から水素或いは水素
ガスが発生してめつきが開始されるが、このと
き、非めつき領域26には、既述のめつき制御
相24が形成されている。従つて、該非めつき
領域26にはめつきが析出することを防止する
とともに、めつき領域27との境界線におい
て、そのめつき制御機能が3次元にわたつて影
響を及ぼすため、めつきが非めつき領域26へ
はみ出して成長することが制御される。よつ
て、めつき(導体部23)を所定の方形断面に
形成することができる。またこのとき、めつき
制御相24が水素ガス反発機能を有するので、
めつき領域27から発生する過剰の水素ガスの
放散を促進する。このため、微細間隔で密接し
ているめつき領域27へのめつきを効率よく施
すことができる。 尚、めつき金属の種類は特に限定されず、触
媒との関係で決定される。 またこのめつき制御相24は、ハンダコーテ
イングのために溶融ハンダ槽に浸漬したとき
に、非めつき領域26にハンダが全く付着させ
ない性質を併せ持つていることが判明した。こ
れは、非めつき領域26が、シランカツプリン
グ剤の誘導体、又はこれが溶融ハンダ(260℃)
により加熱されて変性した酸化けい素で、被覆
されていることによると考えられる。 <発明の効果> 以上説明したように、所定の配合のロジン、シ
ランカツプリング剤の誘導体、必要に応じて添加
される硫黄化合物、酸性めつき用メツキレジスト
剤を有効成分とするこの発明の樹脂組成物によ
り、基板部と無電解めつきにより形成された導体
部とを備えて成り、基板部の導体部突設面におい
て、非めつき領域がシランカツプリング剤の誘導
体で被覆されているプリント基板を製造すること
ができる。 ここにおいて、この発明の樹脂組成物は、めつ
き液等の強酸性溶液に耐えるとともに、基板部の
非めつき領域へシランカツプリング剤の誘導体を
付与することができる。 <実施例> 以下、この発明の実施例の樹脂組成物につい
て、その使用方法(プリント基板の製造方法)と
ともに説明する。 (ア) 所定の樹脂組成物により、基板部の非めつき
領域を被覆する工程(第5,6図参照) 第1表に示した配合の樹脂組成物を調製す
る。 一方、基板部35として、厚さ3mmのABS
板(第1表に有機質として表す)と、厚さ0.8
mmのアルミナセラミツクス(アルミナ純度;96
%)板(第1表に無機質として表す)を準備す
る。尚、板の縦横の長さは特に限定されない。 かかる基板部35へ、第5図の如く、貫通孔
32を穿設する。その後、第6図の如く、第1
表に示した樹脂組成物でスクリーン印刷をし、
被膜39を形成する。基板部35の表面におい
て、この被膜39で被覆された面が非めつき領
域36となる。 一の被膜39と他の被膜39との間隔は、最
小70μmまで狭くすることができる。被膜39
の厚みは少なくとも4μmあればよい。この厚み
は通常のスクリーン印刷を1回行なつて得られ
る厚さである。このように薄膜の印刷で済むこ
とは、より鮮明なパターンが得られることを示
す。 その後、被膜39が備えられた基板部35
を、120℃×15〜20分の条件で乾燥する。この
状態の被膜39の外面は疎水性を示すようにな
る。 (イ) 基板部35のめつき領域37へ触媒を付与す
る工程(第7図参照) 触媒を付与するためには、最初にめつき領域
37を粗化する必要がある。 下記配合の粗化液1を調製し、45〜60℃に保
つた状態で、これへ有機質の基板部35を10〜
20分浸漬する。 粗化液1 三酸化クロム酸 30g 硫酸(比重;1.84) 500ml りん酸(比重;1.7) 100ml 全量を1とする水 〜 合計 1 一方、基板部35が無機質の場合には、46%
ふつ化水素酸溶液を室温状態に保つて、これへ
10〜20分間浸漬した。 その後、それぞれの基板部35(被膜39を
含めて)を水洗し、その状態を目視により観察
した。尚、被膜39の無い基板部35の表面は
全て粗化されている(めつき領域37となる)。 結果を第1表に示す。 第1表の結果から、実施例の樹脂組成物は劣
化せず、疎水性を維持することがわかる。一
方、比較例の樹脂組成物は消失してしまつた。 尚、本発明者の検討によれば、下記配合の有
機質基板部用粗化液2,3に対しても、実施例
の樹脂組成物は耐食性を有することが確認され
ている。 粗化液2 三酸化クロム酸 100g 硫酸(比重;1.84) 420ml りん酸(比重;1.7) 200ml 全量を1とする水 〜 合計 1 粗化液3 三酸化クロム酸 500g 硫酸(比重;1.84) 250ml 全量を1とする水 〜 合計 1 次に、下記配合の触媒液へ基板部25を浸漬
する。 触媒液 PdCl2 1.0g SnCl2・2H2O 50g HCl(37%溶液) 400ml 全量を1とする水 〜 合計 1 浸漬の条件は、25〜50℃×15〜5分である。
これにより、基板部35のめつき領域37へ触
媒基質が吸着されることとなる。 被膜39の表面には、触媒基質はほとんど吸
着されない。これは、被膜39を形成する樹脂
組成物内のシランカツプリング剤に起因する電
気化学的な反発力によると推定される。 そして、基板部35(被膜39を含めて)を
水洗した後、当該基板部35を下記配合の活性
化液へ浸漬する。 活性液 HCl(37%溶液) 100ml 全量を1とする水 〜 合計 1 浸漬の条件は、室温×2分である。これによ
り、めつき領域の触媒基質が活性化される。そ
の後、水洗する。 (ウ) 樹脂組成物の被膜39を除去する工程(第8
図参照) 基板部35(被膜39も含めて)を、下記配
合の剥離液へ浸漬する。 剥離液 NaOH 200g 全量を1とする水 〜 合計 1 浸漬の条件は、室温×2〜3分である。これ
により、被膜39はゲル化され、水洗により、
基板部35の非めつき領域36から剥離され
る。 被膜39が非めつき領域36から剥離されて
も、該非めつき領域36には、既述の如く、シ
ランカツプリング剤の誘導体が転写され、めつ
き制御相を形成している。 (エ) 無電解めつきにより、基板部35のめつき領
域37へ導体部33を形成する工程(第9図参
照) 下記配合のめつき液1,2,3を用いて、下
記条件で無電解めつきを行なつた。 めつき液1(Cuめつき) CuSO4・5H2O 10g EDTA−4Na 35g HCHO(37%水溶液) 10ml 2,2′−Bipy 10ml K4Fe(CN)6・3H2O 50ml 界面活性剤 小量 NaOH PH12.4に調整する量 全量を1とする水 〜 合計 1 めつき条件 70℃×50時間 めつき液2(アルカリ性Niめつき) NiCl2・6H2O 30g NaH2PO2・H2O 10g Na3C6H5O7・2H2O 75g NH4Cl 50g NH4OH PH8.5〜9.5に調整する量 全量を1とする水 〜 合計 1 めつき条件 90℃×10時間 めつき液3(酸性Niめつき) NiCl2・6H2O 30g NaH2PO2・H2O 10g Na3C6H5O7・2H2O 25g NH4Cl PH5.0〜6.0に調整する量 全量を1とする水 〜 合計 1 めつき条件 90℃×10時間 これにより、第9図の如く、めつき領域37
へ導体部33が形成される。 非めつき領域36は、シランカツプリング剤
の誘導体で被覆されている。従つて、非めつき
領域36はハンダ反発相(=めつき制御相3
4)を備えることになる。 本発明者の検討によれば、導体部33形成後の
基板部35を溶融ハンダ槽に10秒浸漬したとき、
非めつき領域36にはハンダが全く付着しなかつ
た。これにより、非めつき領域36のハンダ反発
相のハンダを隔絶する効果が確認できた。 一方、シランカツプリング剤で被覆しないプリ
ント基板について、上記と同様な実験を行なつた
ところ、非めつき領域36の随所へハンダが付着
してしまつた。 このようにして形成された実施例のプリント基
板31の導体部33の断面形状は、めつき領域3
7から真直に立ち上つた。一定幅の帯状めつき領
域へめつき液2を用いて形成された導体部の横断
面の寸法を、第2表に示した。導体部の各寸法
は、導体部の横断面の顕微鏡写真を撮り、これを
ノギスで測定して得られたものである。尚、使用
した樹脂組成物とは、非めつき領域を被覆するも
のであり、第1表の実施例1,3,5を用いた。 このように、導体部の断面形状がめつき領域か
ら真直に立ち上つたものとなるのは、めつき制御
相の作用によると考えられる。 基板部における非めつき領域がシランカツプリ
ング剤の誘導体で被覆されていない状態で、無電
解めつきをすると、めつき開始から5〜10分でめ
つきの幅が増大し、30〜60分で基板部の全面のい
わゆる「ベためつき」へと発展した。
<Industrial Application Field> The present invention comprises a substrate portion and a conductor portion formed by electroless plating, and the non-plated area is coated with a silane coupling agent on the conductor portion protruding surface of the substrate portion. The present invention relates to a resin composition for applying a silane coupling agent to non-plated areas when manufacturing a printed circuit board coated with a derivative. <Prior Art> A conventional printed circuit board 1 consists of a board section 3 and a conductor section 5, as shown in FIG. In a general etching method, the conductor portion 5 is formed by dissolving and removing unnecessary portions from a copper-clad laminate using chemicals. Further, in the additive method, as shown in FIG. 11, a region of the substrate portion 13 where the conductor portion 17 is not formed (hereinafter referred to as a “non-plated region”) is covered with a resin layer 15. <Problems to be Solved by the Invention> Even with such conventional printed circuit boards 1 and 11, it was possible to meet the needs of the past. However, it has become impossible to adequately respond to the trend of miniaturization of printed circuit boards as devices become smaller and more dense in recent years. In particular, when manufacturing using the etching method, the first step is to dissolve and remove unnecessary copper foil using chemicals.
As shown in Fig. 0, there is a tendency for the conductor portion 5 to erode in a reverse tapered shape up to its base (so-called undercut phenomenon). For this reason, with miniaturization of the circuit, the conductor parts 5, 5
When the distance between the conductor parts 5 and the substrate part 3 is narrowed, this tendency becomes even stronger because the chemicals need to be circulated and flowed to the finer details, and the base part of the conductor part 5 becomes thinner considerably, causing the contact between the conductor part 5 and the substrate part 3 to become thinner. Adhesion strength is extremely reduced. Also, during solder coating, which is generally applied, solder adheres to the blank part 4 of the board part 3,
There are drawbacks such as short circuits. Furthermore, in the printed circuit board 11 shown in FIG. 11, due to the presence of the resin phase 15, as the distance between the conductor parts 17, 17 becomes narrower, hydrogen gas generated in the plating reaction becomes difficult to dissipate, and the conductor parts There is a risk that the thickness of the conductor parts 17 may vary or the resin layer 15 may be plated in a mist-like manner, which may impede the insulation resistance between the conductor parts 17 . Therefore, the present invention has the following advantages: (a) plating can be performed while promoting the dispersion of hydrogen gas by not providing a resin layer, (b) a fine circuit with a uniform thickness without undercuts can be formed, and (u) ) When manufacturing a printed circuit board using electroless plating method, which prevents solder from adhering to parts other than the conductor parts, a derivative of the silane coupling agent, which is the key to achieving each of the above objectives, is used to prevent solder from adhering to the parts other than the conductor parts. An object of the present invention is to provide a resin composition for application to a plating area. <Means for Solving the Problems> As a result of extensive studies in order to achieve the above object, the inventors of the present invention have come up with the resin composition of the invention described below. To manufacture a printed circuit board comprising a substrate part and a conductor part formed by electroless plating, and in which a non-plated area of the conductor part protruding surface of the board part is covered with a derivative of a silane coupling agent. At this time, a resin composition for applying the silane coupling agent to the non-plating area, which contains rosin, a silane coupling agent, a sulfur compound added as necessary, and a plating resist agent for acid plating. It is characterized by being an active ingredient. <Detailed Description of Means> The above-mentioned means will be described in detail below. This resin composition contains rosin, a silane coupling agent, a sulfur compound added as necessary, and a plating resist agent for acid plating as active ingredients. As for the rosin, what is commonly called rosin (pine resin) and many types of rosin extracted from other plants are effective, and Canadian balsam extracted from Canadian maple is particularly preferred. The amount of rosin blended is 3 to 50% by weight in the resin composition, preferably 15 to 30%. 3
If it is out of the range of ~50%, there is a risk that the resin composition will be destroyed by the roughening liquid in the step (a) below. Silane coupling agents refer to silanes and other silicon compounds that have the ability to chemically bond organic polymers and inorganic materials. For example, triethoxymethylsilane, trimethoxymethylsilane, triethoxyphenylsilane,
Trimethoxyphenylsilane, triethoxyvinylsilane, α-aminopropyltriethoxysilane, N-(β-aminoethyl)-α-aminopropyltrimethoxysilane, α-methacryloxypropyltrimethoxysilane, α-mercaptopropyltrimethoxy Examples include silane, ureidopropyltriethoxysilane, and the like. Its blending amount is expressed as weight% in the resin composition.
0.1-15.0%, preferably 1.5-5.0%. 0.1
If it is less than 15.0%, there is a risk that plating will precipitate in non-plated areas, while if it exceeds 15.0%, there is a risk that plating will not be applied to plated areas, which are both undesirable. In addition, at this time, the material of the substrate part 25 is inorganic,
The amount of silane coupling agent in the coating 29 must be adjusted depending on whether it is an organic substance or a mixture of both, but it is necessary to supply sufficient bonding agents to the interface of the non-plated area 26. A sufficient amount to form the derivative phase of the silane coupling agent is required and determined experimentally (see Examples in Table 1). This silane coupling agent has good compatibility with common solvents for resin compositions (ethylene glycol monobutyl ether, 2-(2-ethoxyethoxy)ethanol, etc.). Furthermore, it has good compatibility with the rosin described above and the sulfur compound described below. As described later, this silane coupling agent is mainly modified into derivatives such as silanol because the method for manufacturing a printed circuit board using the resin composition of the present invention is a water treatment system. Examples of the sulfur compound include 2-mercaptobenzothiazole, thiourea, methyl blue, methylene green, 2-imidazolidinethione, methyl orange, and taurine. By adding this sulfur compound, it is possible to reliably prevent plating from depositing in the non-plated areas in the electroless plating step (d) described below. This is thought to be due to the fact that the sulfur compound is transferred to the non-plated area while bonding with the functional group of the silane coupling agent. In this way, sulfur compounds are added as needed. The amount of this sulfur compound to be blended is only a small amount, but the amount by weight relative to the resin composition is
It ranges from 0.005 to 0.5. If it is less than 0.005%, the above prevention function may not be effective, and if it exceeds 0.5%, the sulfur component will act as a catalyst poison for formalin, which is a reducing agent, and the sulfur component will exceed the plating boundary line and reach the plating area. Each of these is undesirable because there is a risk that electroless plating may not be possible due to the effect that the plating precipitation reaction may be stopped. In addition, when the above-mentioned rosin, silane coupling agent, and sulfur compound are individually added to a plating resist agent for acidic plating, the resin composition cannot withstand strong acidic solutions such as roughening liquid (first (See each comparative example in the table). As the plating resist agent for acid plating, for example, the plating resist agent SPR-530CMT (trade name) manufactured by Sanei Chemical Co., Ltd. can be used.
This plating resist agent contains an inorganic filler. Incidentally, the above plating resist agent for acidic plating alone cannot withstand the strong acidic solution such as the roughening solution used in the step (a) below. This resin composition has durability against the strongly acidic roughening liquid, catalyst liquid, and activation liquid used in steps (a) and (c) described below. If we were to estimate the reason for this, it would be as follows (a) to (c). (a) When a silane coupling agent is not added to the resin composition of the coating 29, as shown in Fig. 3, an inorganic filler (compounded in the glazing resist agent) is added.
The grain boundaries exhibit hydrophilicity with the OH groups facing outward. In contrast, silane coupling agents (e.g. trimethoxy(methyl)silane; CH 3 Si
When (OCH 3 ) 3 ) is added, it is hydrolyzed by the treatment with water in the process of the present invention, and as shown in Figure 4, the grain boundaries of the inorganic filler are CH 3
It becomes hydrophobic with the group facing outward. Furthermore, the CH 3 group increases the bonding strength between the inorganic filler and the organic component. Therefore, the coating 29 is formed with strong hydrophobicity and denseness on both the inner and outer surfaces.
It will not be attacked even when immersed in strong acidic solutions such as roughening solution or catalyst solution. Due to such characteristics of the coating 29, its thickness can be made as thin as possible. Therefore, it is suitable for negative printing of fine patterns. (b) Next, the coating 29 contains a sufficient amount of silane coupling agent to have the denseness and chemical resistance performance described in (a) above. This slightly excess silane coupling agent is firmly bonded to the interface of the non-plating area 26, and the coating 29
Even after peeling off with an alkaline aqueous solution, a fixed film of silanol (a derivative of a silane coupling agent) generated by hydrolysis of the silane coupling agent can remain on the interface of the non-plated region 26. Since the outermost shell phase of this silanol has H groups facing outward, it is hydrophobic and has the ability to repel hydrogen atoms, hydrogen gas, and metal ions, making it possible to completely control plating precipitation. I was able to confirm this through experiment. It has also been found that this function is also effective three-dimensionally, that is, in three-dimensional directions. Presuming this state, it is thought that the plating control phase 24 is formed on the non-plating region 26 in a semi-elliptical cross-sectional shape, like a water droplet on a lotus leaf seen in nature. (c) If the surface of the dried coating 29 is treated with an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid or sulfuric acid, the hydrophobic function may be further enhanced, the properties described in (b) above may be enhanced, and the surface of the coating 29 may be further enhanced.
The surface of 9 becomes strong. This is because the resin composition is influenced by acid groups and the effect is promoted, and the outermost monomolecular phase or a part of the phase of the silanolized phase on the surface of the coating 29 is converted into silica gel. Alternatively, it is considered that the bond between the silanol and the organic component becomes stronger. Next, a method for manufacturing a printed circuit board using the above resin composition will be explained. (A) Step of coating the non-plated area 26 of the substrate section 25 with the resin composition The substrate section 25 is a plate-shaped member capable of supporting the conductor section 23, and the material for forming it is not particularly limited. Examples include plastics, ceramics, glass, semiconductors, and laminates thereof. Further, the conductor portion 23 in the substrate portion 25
The protruding surface may be a curved surface. The resin composition is diluted with the above-described solvent and screen printed onto the substrate portion 25 (see FIG. 2). The thickness of the coating 29 thus obtained is 4 to 7 μm. If the thickness is less than 4 μm, there is a risk of blurring when screen printing. The thickness exceeding 7 μm is due to the denseness of this resin composition.
Not necessary. (a) Step of applying a catalyst to the plating region 27 of the substrate portion 25 First, it is necessary to roughen the plating region 27 of the substrate portion 25 with a roughening liquid. As the roughening liquid, when the substrate part 25 is made of resin, a mixed aqueous solution of chromic acid + sulfuric acid, chromic acid + sulfuric acid + phosphoric acid, sulfuric acid + phosphoric acid, etc. is used. Sometimes, a hydrofluoric acid solution is used.
When the substrate portion 25 is immersed in these roughening liquids, the plating area not protected by the coating 29 will be roughened. Next, a catalyst is applied to the plating area. For example, when using palladium as a catalyst,
The substrate part 25 is immersed in a mixed solution of palladium chloride and hydrochloric acid (catalyst liquid) to support palladium on the substrate part 25, and the palladium is immersed in a mixed solution of tin chloride and hydrochloric acid (activation liquid). This is done in the activation process. Of course, a process using a one-component catalyst liquid may also be used. Moreover, the type of catalyst is not particularly limited. (C) Step of removing the coating 29 from the non-plating area 26 In this step, even if the coating 29 has acid resistance, it is decomposed by an alkaline aqueous solution. 25 is immersed in the water. At this time, the state of the interface between the coating 29 and the non-plated region 26 of the substrate portion 25 is such that the silane coupling agent contained in the coating 29 (which does not contribute to imparting the above-mentioned properties to the coating 29) ) plays an important role. That is, when the coating 29 is printed on the substrate 25, one of the bonding groups of the organic and inorganic functional groups of the silane coupling agent acts selectively depending on the material of the substrate 25. , which is firmly bonded to the substrate interface and covers the non-plated area 26. Therefore, when the coating 29 is removed with an alkaline aqueous solution, this interface is also hydrolyzed at the same time, so that the fixed silane coupling agent phase is denatured into silanol and left at the interface of the non-plated area 26. Ru. If the phase of the derivative of such a silane coupling agent forms a monomolecular thin phase, it will be sufficient to meet the above-mentioned requirements.
The effect of (b) can be achieved. In other words, it is possible to make the surrounding area of the non-plated region 26 hydrophobic, to prevent the approach of hydrogen ions, hydrogen gas, and metal ions, and to prevent plating from depositing in the non-plated region 26. . (d) Step of forming the conductor portion 23 in the plating region 27 of the substrate portion 25 by electroless plating This step is performed by immersing the substrate portion 25 in an electroless plating solution. When the substrate part 25 is immersed in the plating liquid, hydrogen or hydrogen gas is generated from the plating area to which the catalyst is applied, and plating is started. A plating control phase 24 is formed. Therefore, plating is prevented from depositing in the non-plated region 26, and the plating control function affects three dimensions at the boundary with the plating region 27, so that plating is prevented from being deposited in the non-plated region 26. Growth that protrudes into the plating area 26 is controlled. Therefore, the plating (conductor portion 23) can be formed to have a predetermined rectangular cross section. Moreover, at this time, since the plating control phase 24 has a hydrogen gas repulsion function,
This promotes the dissipation of excess hydrogen gas generated from the plating region 27. Therefore, plating can be efficiently applied to the plating regions 27 that are closely spaced at minute intervals. Note that the type of plating metal is not particularly limited, and is determined depending on the relationship with the catalyst. It has also been found that this plating control phase 24 has the property of not allowing any solder to adhere to the non-plated areas 26 when it is immersed in a molten solder bath for solder coating. This means that the non-plating area 26 is made of a derivative of a silane coupling agent, or is made of molten solder (260°C).
This is thought to be due to the fact that it is coated with silicon oxide that has been denatured by heating. <Effects of the Invention> As explained above, the resin of the present invention contains a predetermined blend of rosin, a derivative of a silane coupling agent, a sulfur compound added as necessary, and a plating resist agent for acid plating as active ingredients. A print comprising a substrate part and a conductor part formed by electroless plating according to a composition, and a non-plated area on the protruding surface of the conductor part of the substrate part is coated with a derivative of a silane coupling agent. A substrate can be manufactured. Here, the resin composition of the present invention can withstand strongly acidic solutions such as plating solutions, and can apply a silane coupling agent derivative to non-plated areas of the substrate portion. <Examples> Hereinafter, resin compositions of Examples of the present invention will be described together with a method for using the same (a method for manufacturing a printed circuit board). (a) Step of coating the non-plated area of the substrate portion with a predetermined resin composition (see Figures 5 and 6) A resin composition having the formulation shown in Table 1 is prepared. On the other hand, as the substrate part 35, ABS with a thickness of 3 mm is used.
board (expressed as organic material in Table 1) and thickness 0.8
mm alumina ceramics (alumina purity: 96
%) plates (expressed as mineral in Table 1) are prepared. Note that the vertical and horizontal lengths of the plate are not particularly limited. A through hole 32 is bored into the substrate portion 35 as shown in FIG. After that, as shown in Figure 6, the first
Screen print with the resin composition shown in the table,
A coating 39 is formed. On the surface of the substrate portion 35 , the surface covered with this film 39 becomes a non-plated region 36 . The distance between one coating 39 and the other coating 39 can be narrowed to a minimum of 70 μm. Coating 39
The thickness should be at least 4 μm. This thickness is the thickness obtained by performing normal screen printing once. The fact that only a thin film can be printed in this way means that a clearer pattern can be obtained. Thereafter, the substrate portion 35 provided with the coating 39
Dry at 120°C for 15 to 20 minutes. The outer surface of the coating 39 in this state becomes hydrophobic. (a) Step of applying a catalyst to the plating area 37 of the substrate portion 35 (see FIG. 7) In order to apply a catalyst, it is first necessary to roughen the plating area 37. Prepare a roughening liquid 1 with the following composition, and add an organic substrate 35 to it while keeping it at 45 to 60°C.
Soak for 20 minutes. Roughening liquid 1 Chromic acid trioxide 30g Sulfuric acid (specific gravity; 1.84) 500ml Phosphoric acid (specific gravity; 1.7) 100ml Water with a total volume of 1 ~ Total 1 On the other hand, when the substrate portion 35 is inorganic, 46%
Keep the hydrofluoric acid solution at room temperature and add it to this
Soaked for 10-20 minutes. Thereafter, each substrate portion 35 (including the coating 39) was washed with water, and its condition was visually observed. Note that the entire surface of the substrate portion 35 without the coating 39 is roughened (becomes a plating region 37). The results are shown in Table 1. From the results in Table 1, it can be seen that the resin compositions of Examples did not deteriorate and maintained their hydrophobicity. On the other hand, the resin composition of the comparative example disappeared. According to the studies conducted by the present inventors, it has been confirmed that the resin compositions of the examples have corrosion resistance even with respect to the roughening liquids 2 and 3 for organic substrates having the following formulations. Roughening liquid 2 Chromic acid trioxide 100g Sulfuric acid (specific gravity; 1.84) 420ml Phosphoric acid (specific gravity; 1.7) 200ml Water to a total volume of 1 ~ Total 1 Roughening liquid 3 Chromic acid trioxide 500g Sulfuric acid (specific gravity; 1.84) 250ml Total volume water with 1 to total 1 Next, the substrate portion 25 is immersed in a catalyst liquid having the following composition. Catalyst liquid PdCl 2 1.0 g SnCl 2.2H 2 O 50 g HCl (37% solution) 400 ml Water to a total volume of 1 ~ Total 1 The immersion conditions are 25 to 50°C x 15 to 5 minutes.
As a result, the catalyst substrate is adsorbed onto the plating region 37 of the substrate portion 35. Almost no catalyst substrate is adsorbed on the surface of the coating 39. This is presumed to be due to electrochemical repulsion caused by the silane coupling agent in the resin composition forming the coating 39. After washing the substrate portion 35 (including the coating 39) with water, the substrate portion 35 is immersed in an activation liquid having the following composition. Activating liquid HCl (37% solution) 100 ml Water to a total volume of 1 ~ Total 1 The immersion conditions are room temperature x 2 minutes. This activates the catalyst substrate in the plating area. Then wash with water. (C) Step of removing the coating 39 of the resin composition (8th step)
(See figure) The substrate portion 35 (including the coating 39) is immersed in a stripping solution having the following composition. Stripping liquid NaOH 200g Water to a total amount of 1 ~ Total 1 Immersion conditions are room temperature x 2 to 3 minutes. As a result, the coating 39 is gelled, and by washing with water,
It is peeled off from the non-plated area 36 of the substrate portion 35. Even if the coating 39 is peeled off from the non-plating area 36, the derivative of the silane coupling agent is transferred to the non-plating area 36 to form a plating control phase, as described above. (d) Step of forming the conductor portion 33 in the plating area 37 of the substrate portion 35 by electroless plating (see Fig. 9) Using plating solutions 1, 2, and 3 of the following composition, plating is performed under the following conditions. Electrolytic plating was performed. Plating solution 1 (Cu plating) CuSO 4・5H 2 O 10g EDTA−4Na 35g HCHO (37% aqueous solution) 10ml 2,2′−Bipy 10ml K 4 Fe (CN) 6・3H 2 O 50ml Surfactant Small Amount NaOH Amount to adjust to PH12.4 Water to make the total amount 1 ~ Total 1 Plating conditions 70℃ x 50 hours Plating solution 2 (alkaline Ni plating) NiCl 2・6H 2 O 30g NaH 2 PO 2・H 2 O 10g Na 3 C 6 H 5 O 7・2H 2 O 75g NH 4 Cl 50g NH 4 OH Amount to adjust pH to 8.5-9.5 Water to make the total amount 1 ~ Total 1 Plating conditions 90℃ x 10 hours plating Solution 3 (acidic Ni plating) NiCl 2・6H 2 O 30g NaH 2 PO 2・H 2 O 10g Na 3 C 6 H 5 O 7・2H 2 O 25g NH 4 Cl Amount to adjust to PH5.0-6.0 Total amount Water with 1 ~ Total 1 Plating conditions 90℃ x 10 hours As a result, as shown in Figure 9, the plating area 37
A conductor portion 33 is formed thereon. The non-plated areas 36 are coated with a derivative of a silane coupling agent. Therefore, the non-plating area 36 is in the solder repulsion phase (=plating control phase 3).
4) will be provided. According to the inventor's study, when the substrate part 35 after the conductor part 33 is immersed in a molten solder bath for 10 seconds,
No solder adhered to the non-plated area 36 at all. This confirmed the effect of isolating the solder in the solder repellent phase in the non-plated area 36. On the other hand, when an experiment similar to the above was conducted on a printed circuit board that was not coated with a silane coupling agent, solder adhered to various parts of the non-plated areas 36. The cross-sectional shape of the conductor portion 33 of the printed circuit board 31 of the embodiment formed in this way is as follows:
I got up straight from 7. Table 2 shows the dimensions of the cross section of the conductor portion formed using plating liquid 2 in a band-shaped plating region of a constant width. Each dimension of the conductor part was obtained by taking a microscopic photograph of the cross section of the conductor part and measuring it with a caliper. The resin compositions used were those for coating the non-plated areas, and Examples 1, 3, and 5 in Table 1 were used. The reason why the cross-sectional shape of the conductor portion rises straight from the plating region is considered to be due to the action of the plating control phase. When electroless plating is performed with the non-plated area of the substrate not covered with the silane coupling agent derivative, the width of the plating increases within 5 to 10 minutes from the start of plating, and the width of the plating increases within 30 to 60 minutes. This developed into so-called "stickiness" on the entire surface of the board.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】 【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明のプリント基板21の断面
図、第2図は樹脂組成物を基板部25へスクリー
ン印刷して皮膜29を形成した状態を示す断面
図、第3図はシランカツプリング剤が配合されな
いときの、樹脂組成物中の無機質充填剤を示す模
式図、第4図はシランカツプリング剤が配合され
ているときの、樹脂組成物中の無機質充填剤を示
す模式図、第5図は実施例の基板部35を示す断
面図、第6図は第5図のものへ樹脂組成物をスク
リーン印刷した状態を示す断面図、第7図は第6
図のもののめつき領域37へ触媒を付与した状態
を示す断面図、第8図は第7図のものの皮膜39
を除去した状態を示す断面図、第9図は実施例の
プリント基板を示す断面図であり、第10,11
図は従来例のプリント基板1,11の断面図であ
る。 1,11,21,31……プリント基板、3,
13,25,35……基板部、5,17,23,
33……導体部。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a printed circuit board 21 of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a film 29 is formed by screen-printing a resin composition on a substrate portion 25, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing the inorganic filler in the resin composition when it is not blended, and FIG. 5 is a schematic diagram showing the inorganic filler in the resin composition when the silane coupling agent is blended. 6 is a cross-sectional view showing the substrate part 35 of the example, FIG.
A cross-sectional view showing a state in which a catalyst has been applied to the plating area 37 of the figure, and FIG. 8 is a coating 39 of the figure 7.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the printed circuit board of the embodiment, with the 10th and 11th
The figure is a sectional view of a conventional printed circuit board 1, 11. 1, 11, 21, 31... printed circuit board, 3,
13, 25, 35...Substrate part, 5, 17, 23,
33...Conductor part.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板部と無電解めつきにより形成された導体
部とを備えて成り、前記基板部の前記導体部突設
面において、非めつき領域がシランカツプリング
剤の誘導体で被覆されているプリント基板を製造
するに際し、前記非めつき領域へ前記シランカツ
プリング剤を付与するための樹脂組成物であつ
て、 ロジン;3〜50重量%、 シランカツプリング剤;0.1〜15重量%、 必要に応じて添加される硫黄化合物;0.005〜
0.5重量%、 酸性めつき用メツキレジスト剤;残部 を有効成分とすることを特徴とする樹脂組成物。
[Scope of Claims] 1. Comprised of a substrate portion and a conductor portion formed by electroless plating, wherein a non-plated area on the protruding surface of the conductor portion of the substrate portion is made of a derivative of a silane coupling agent. A resin composition for applying the silane coupling agent to the non-plated area when manufacturing a coated printed circuit board, the resin composition comprising: rosin; 3 to 50% by weight; silane coupling agent; 0.1 to 15% by weight. Weight%, sulfur compounds added as necessary; 0.005~
A resin composition comprising: 0.5% by weight, a plating resist agent for acid plating; the remainder being an active ingredient.
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