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JPH043596B2 - - Google Patents
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JPH043596B2 - - Google Patents

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JPH043596B2
JPH043596B2 JP58053596A JP5359683A JPH043596B2 JP H043596 B2 JPH043596 B2 JP H043596B2 JP 58053596 A JP58053596 A JP 58053596A JP 5359683 A JP5359683 A JP 5359683A JP H043596 B2 JPH043596 B2 JP H043596B2
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transistor
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voltage dividing
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    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は半導体記憶装置に関し、特に、1トラ
ンジスタ1キヤパシタ形メモリセルを有するMIS
ダイナミツクランダムアクセスメモリ(RAM)
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to an MIS having a one-transistor, one-capacitor type memory cell.
Dynamic random access memory (RAM)
Regarding.

技術の背景 主に、MISダイナミツクRAMにおいては、集
積度の点で有利な1トランジスタ1キヤパシタ形
メモリセルが用いられている。このメモリセル
は、ビツト線に接続されたソース(もしくはドレ
イン)とワード線に接続されたゲートとを有する
トランジスタ、このトランジスタのドレイン(も
しくはソース)と所定電位に保持される電極とに
より構成されるキヤパシタを具備する。この場
合、キヤパシタにおいては、トランジスタのドレ
インとして作用する半導体基板内の不純物拡散層
を一電極とし、上述の所定電位を保持する電極を
その対向電極とすれば、これら2つの電極間には
薄い絶縁膜たとえば酸化膜(SiO2)が形成され
ている。そして、情報“1”もしくは“0”はこ
のキヤパシタに電荷が蓄積されているか否かによ
つて表わされる。
Background of the Technology A one-transistor, one-capacitor type memory cell, which is advantageous in terms of integration, is mainly used in MIS dynamic RAM. This memory cell is composed of a transistor having a source (or drain) connected to a bit line and a gate connected to a word line, the drain (or source) of this transistor, and an electrode held at a predetermined potential. Equipped with a capacitor. In this case, in a capacitor, if the impurity diffusion layer in the semiconductor substrate that acts as the drain of the transistor is used as one electrode, and the electrode that maintains the above-mentioned predetermined potential is used as its opposite electrode, there is a thin insulation between these two electrodes. A film such as an oxide film (SiO 2 ) is formed. Information "1" or "0" is represented by whether or not charge is stored in this capacitor.

上述のメモリセルのキヤパシタの対向電極に
は、通常、電源電位VccもしくはVssが印加される
が、最近、(Vcc−Vss)/2の電位を対向電極に
印加し、その分、キヤパシタの絶縁膜に耐圧に余
裕が生じるので、絶縁膜をさらに薄くしている。
従つて、絶縁膜を薄くしてキヤパシタの容量を増
加せしめると、たとえば、絶縁膜の厚さを1/2に
してキヤパシタの容量を2倍にすれば、半導体装
置の高集積化が可能となる。つまり、デバイス面
積の微細化に伴うセル容量の減少という問題に対
する有効な手段を提供することになる。
Normally, a power supply potential V cc or V ss is applied to the counter electrode of the capacitor of the above-mentioned memory cell, but recently, a potential of (V cc −V ss )/2 was applied to the counter electrode, and The insulating film of the capacitor is made thinner because there is a margin in the withstand voltage.
Therefore, if the capacitance of a capacitor is increased by making the insulating film thinner, for example, if the thickness of the insulating film is halved and the capacitance of the capacitor is doubled, higher integration of semiconductor devices becomes possible. . In other words, it provides an effective means for solving the problem of reduction in cell capacity due to miniaturization of device area.

従来技術と問題点 従来の電位Vcc/2(Vss=0)をキヤパシタの
対向電極に印加するダイナミツクRAMにおいて
は、上述の電位Vcc/2を発生する手段としてVcc
を分割する分圧回路を用いている。そして、電圧
分割回路の抵抗値はスタンバイ電流を小さく抑え
るために相当大きく、たとえば数10〜数100kΩに
設定している。従つて、電源投入時には、メモリ
セルのキヤパシタの対向電極の電位はVccに比較
して相当遅く立上ることになる。
Prior Art and Problems In a dynamic RAM in which a conventional potential V cc /2 (V ss = 0) is applied to the opposing electrode of a capacitor, V cc is used as a means for generating the above-mentioned potential V cc /2.
A voltage divider circuit is used to divide the voltage. The resistance value of the voltage divider circuit is set to be quite large, for example, several tens to several hundreds of kilohms, in order to keep the standby current low. Therefore, when the power is turned on, the potential of the opposing electrode of the capacitor of the memory cell rises considerably slower than Vcc .

他方、ビツト線電位をプリチヤージするプリチ
ヤージング回路はビツト線電位をVccにし、アク
テイブリストア回路は高い方のビツト線電位を
Vccまで引上げるのであるが、電源投入後、Vcc
所定値たとえば5Vに立上ると、プリチヤージン
グ回路はビツト線電位をVccまでプリチヤージし、
しかもアクテイブリストア回路も高い方のビツト
線電位をVccまで引上げることが可能である。
On the other hand, the precharging circuit that precharges the bit line potential sets the bit line potential to Vcc , and the active restore circuit sets the higher bit line potential to Vcc.
After the power is turned on, when Vcc rises to a predetermined value , for example 5V, the precharging circuit precharges the bit line potential to Vcc ,
Moreover, the active restore circuit can also raise the higher bit line potential to Vcc .

従つて、電源投入時には、キヤパシタの対向電
極の電位が未だVccに比較して低いレベルにある
にもかかわらず、キヤパシタのトランジスタ側電
極の電位はVccになることがある。この結果、キ
ヤパシタの絶縁膜にはほぼVccの電圧が印加され
ることになる。しかしながら、この場合、キヤパ
シタの絶縁膜の最大耐圧はVcc/2を目標に設計
されているので、絶縁膜には最大耐圧を超える電
圧が印加されることになり、この結果、絶縁膜が
破壊する恐れがあるという問題点がある。
Therefore, when the power is turned on, the potential of the transistor-side electrode of the capacitor may reach Vcc even though the potential of the opposing electrode of the capacitor is still at a low level compared to Vcc . As a result, a voltage of approximately Vcc is applied to the insulating film of the capacitor. However, in this case, the maximum withstand voltage of the capacitor's insulating film is designed to be V cc /2, so a voltage exceeding the maximum withstand voltage will be applied to the insulating film, and as a result, the insulating film will be destroyed. The problem is that there is a risk that

発明の目的 本発明の目的は、上述の従来形における問題点
に鑑み、対向電極の電位を決定する分圧回路の出
力を電源電位Vccの立上り時に迅速に追随させる
手段を設けることにより、たとえ電源投入時にあ
つてもメモリセルのキヤパシタに印加される電圧
が設計上の印加電圧を大きく越えるのを抑止し
て、キヤパシタの破壊を防止することにある。
OBJECT OF THE INVENTION In view of the problems in the conventional type described above, an object of the present invention is to provide a means for quickly following the output of a voltage dividing circuit that determines the potential of the counter electrode when the power supply potential Vcc rises. The purpose of this invention is to prevent the voltage applied to a capacitor of a memory cell from greatly exceeding a designed applied voltage even when power is turned on, thereby preventing destruction of the capacitor.

発明の構成 上述の目的を達成するために本発明によれば、
第1、第2の電源電位供給手段、複数のワード
線、複数のビツト線、該ビツト線と前記ワード線
との交差点に設けられた1トランジスタ1キヤパ
シタ形メモリセル、前記第1、第2の電源電位供
給手段の供給電位差を抵抗分割した電位を出力し
て前記メモリセルの対向電極に印加する第1の抵
抗分圧手段、前記第1の電源電位の立上り時に前
記第1の抵抗分圧手段の出力電位の立上りを一時
的に補助するを具備することを特徴とする半導体
記憶装置が提供される。
Structure of the Invention According to the present invention, in order to achieve the above-mentioned object,
first and second power supply potential supply means; a plurality of word lines; a plurality of bit lines; a one-transistor, one-capacitor type memory cell provided at the intersection of the bit line and the word line; a first resistive voltage dividing means for outputting a potential obtained by resistively dividing the supply potential difference of the power supply potential supply means and applying it to the opposing electrode of the memory cell; and the first resistive voltage dividing means when the first power supply potential rises. Provided is a semiconductor memory device characterized in that it includes a device that temporarily assists the rise of an output potential of a semiconductor memory device.

発明の実施例 以下、図面を参照して本発明を従来形と比較し
て説明する。
Embodiments of the Invention Hereinafter, the present invention will be described in comparison with a conventional type with reference to the drawings.

第1図は従来の半導体記憶装置を示す回路図で
ある。第1図において、メモリセルMC1はワー
ド線WL1とビツオ線BLとの交差点に設けられ、
メモリセルC2はワード線WL2とビツト線との
交差点に設けられている。メモリセルMC1
MC2はトランジスタQ1,Q2およびキヤパシタC1
C2を有する1トランジスタ1キヤパシタ形であ
る。メモリセルMC1,MC2のキヤパシタC1,C2
のトランジスタ側のノードN1,N2は半導体基板
内の不純物拡散層により形成され、他方、絶縁膜
を挾んで形成される対向電極は電源電圧Vccの1/2
の電位に保持されている。すなわち、抵抗R1
R2(R1=R2)により構成される分圧回路VDの電
力電位OPが上記対向電極に印加されている。こ
れにより、キヤパシタC1,C2の絶縁膜を導くし
てその容量を大きくできる。また、電源電圧Vcc
による電流消費を抑えるために、抵抗R1,R2
値は数10〜数100kΩに設定される。なお、他のワ
ード線、他のビツト線対も存在するが図示省略し
てある。また、すべてのビツト線は本来のメモリ
セル以外に各1つのダミーセルに接続され、これ
らのダミーセルはビツト線BL群、ビツト線群
毎に設けられたダミーワード線に接続されている
が、ダミーセルおよびダミーワード線も図示省略
されている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device. In FIG. 1, memory cell MC1 is provided at the intersection of word line WL1 and bit line BL,
Memory cell C2 is provided at the intersection of word line WL2 and bit line. Memory cell MC1 ,
MC 2 consists of transistors Q 1 , Q 2 and capacitor C 1 ,
It is a one-transistor, one-capacitor type with C2 . Capacitors C 1 and C 2 of memory cells MC 1 and MC 2
The nodes N 1 and N 2 on the transistor side are formed by an impurity diffusion layer in the semiconductor substrate, while the counter electrode formed by sandwiching the insulating film has a voltage of 1/2 of the power supply voltage V cc .
is held at a potential of That is, the resistance R 1 ,
A power potential OP of a voltage dividing circuit VD constituted by R 2 (R 1 =R 2 ) is applied to the counter electrode. This allows the insulating films of the capacitors C 1 and C 2 to be guided to increase their capacitance. Also, the power supply voltage V cc
In order to suppress the current consumption caused by this, the values of the resistors R 1 and R 2 are set to several tens to several hundreds of kΩ. Note that other word lines and other bit line pairs also exist, but are not shown. In addition, all the bit lines are connected to one dummy cell in addition to the original memory cell, and these dummy cells are connected to the bit line BL group and the dummy word line provided for each bit line group. Dummy word lines are also omitted from illustration.

ビツト線BL,の対は、プリチヤージング回
路PRC、アクテイブリストア回路ARE、および
センスアンプ回路SAに接続されている。ここで、
プリチヤージング回路PRCおよびアクテイブリ
ストア回路AREは電源(電圧Vcc)に接続されて
いる。
The pair of bit lines BL are connected to a precharging circuit PRC, an active restore circuit ARE, and a sense amplifier circuit SA. here,
The precharging circuit PRC and the active restoring circuit ARE are connected to a power supply (voltage V cc ).

プリチヤージング回路PRCはトランジスタQ3
Q4により構成され、スタンバイモードにおいて、
クロツク信号BPがハイになると(BP>Vcc
Vth:ただしVthはエンハンスメント形トランジス
タのしきい値電圧)、トランジスタQ3,Q4は共に
オンとなり、従つて、ビツト線BL,は共に
Vccにプリチヤージされる。
The precharging circuit PRC is a transistor Q 3 ,
Configured by Q 4 , in standby mode,
When the clock signal BP goes high (BP>V cc +
V th (where V th is the threshold voltage of the enhancement type transistor), transistors Q 3 and Q 4 are both turned on, and therefore the bit lines BL are both turned on.
Precharged to V cc .

また、アクテイブリストア回路AREはトラン
ジスタQ5〜Q8、キヤパシタC3,C4により構成さ
れ、リストアモードにおいてクロツク信号ARが
ハイになると(AR>Vcc+Vth)、キヤパシタC3
C4の電位が押上がる。このとき、ビツト線BL,
BLの電位のいずれか一方がVcc−Vth以上であれ
ばトランジスタQ5もしくはQ8がカツトオフし、
従つて、ノードN3もしくはN4の電位がVcc+Vth
以上となる。つまり、ブートストラツプ効果によ
りビツト線BLもしくはのいずれか一方がVcc
に戻ることになる。
The active restore circuit ARE is composed of transistors Q 5 to Q 8 and capacitors C 3 and C 4 . When the clock signal AR goes high in the restore mode (AR > V cc + V th ), the capacitors C 3 ,
The potential of C 4 increases. At this time, the bit lines BL,
If either of the potentials of BL is higher than Vcc −Vth , transistor Q5 or Q8 is cut off,
Therefore, the potential of node N 3 or N 4 is V cc +V th
That's all. In other words, due to the bootstrap effect, either the bit line BL or
will return to.

センスアンプ回路SAはフリツプフロツプを構
成するトランジスタQ9,Q10を有し、このセンス
アンプ回路SAの動作にはセンスモードにおいて
クロツク信号LEをハイにしてトランジスタQ11
オンにすることによつて行われる。
The sense amplifier circuit SA has transistors Q 9 and Q 10 that constitute a flip-flop, and the sense amplifier circuit SA operates by turning on the transistor Q 11 by turning the clock signal LE high in the sense mode. be exposed.

第2図を参照して第1図の回路動作を説明す
る。第2図には電源電圧Vccの投入時について示
してある。すなわち、時刻t0において、電源電圧
Vccが投入されると、Vccは迅速に上昇し、時刻t1
において所定値たとえば5Vに到達するのに対し、
対向電極の電位OPの立上りは分圧回路VDの抵
抗値が大きいために非常に遅い。
The operation of the circuit shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIG. FIG. 2 shows the state when the power supply voltage Vcc is applied. That is, at time t 0 , the power supply voltage
When V cc is turned on, V cc rises quickly and at time t 1
While a predetermined value, say 5V, is reached at
The potential OP of the counter electrode rises very slowly because the resistance value of the voltage divider circuit VD is large.

時刻t2以降電源電圧Vccが安定化すると、ロー
アドレスストローブ信号によりリフレツシ
ユ動作が開始して時刻t2において終了する。な
お、信号の制御は外部制御回路によつて行
なわれる。
When the power supply voltage V cc becomes stable after time t 2 , a refresh operation is started by the row address strobe signal and ends at time t 2 . Note that signal control is performed by an external control circuit.

時刻t3において、ビツト線プリチヤージング信
号BPがハイからローへ変換すると、スタンバイ
モードから選択モードに移る。この結果、たとえ
ば、ワード線WL1の電位が上昇してトランジス
タQ1がオンとなり、メモリセルMC1が選択され
る。このとき、メモリセルMC1のノードN1が高
い電位であればビツト線BLの電位は低下しない。
他方、ビツト線は図示しないダミーセルのた
めに情報“1”および“0”の中間のレベルまで
低下する。このようして、ビツト線BL,間の
小さな電位差が発生する。なお、逆に、メモリセ
ルMC1のノードN1が低い電位であればビツト線
BLの電位はビツト線の電位より低くなる。
At time t3 , when the bit line precharging signal BP changes from high to low, the mode shifts from standby mode to selection mode. As a result, for example, the potential of word line WL 1 rises, transistor Q 1 is turned on, and memory cell MC 1 is selected. At this time, if the potential of the node N1 of the memory cell MC1 is high, the potential of the bit line BL will not decrease.
On the other hand, the bit line drops to a level intermediate between information "1" and "0" due to a dummy cell (not shown). In this way, a small potential difference is generated between the bit lines BL and BL. Conversely, if node N1 of memory cell MC1 has a low potential, the bit line
The potential of BL becomes lower than that of the bit line.

次いで、時刻t4において、クロツク信号LEが
ローからハイに変化すると、センスモードに移
り、センスアンプ回路SAが動作する。つまり、
ビツト線BL,間の電位差が増幅される。この
とき、低い方の電位、つまりビツト線の電位
が0まで低下する。
Next, at time t4 , when the clock signal LE changes from low to high, the mode shifts to the sense mode, and the sense amplifier circuit SA operates. In other words,
The potential difference between bit lines BL and BL is amplified. At this time, the lower potential, that is, the potential of the bit line, drops to zero.

次に、時刻t5において、クロツク信号ARが0
からVccに変化し、この結果、アクテイブリスト
ア回路AREが起動してリストアモードに入る。
このとき、高い方の電位、つまりビツト線BLの
電位がVccまで戻る。従つて、ノードN1の電位も
Vccまで戻る。
Next, at time t5 , the clock signal AR becomes 0.
As a result , the active restore circuit ARE is activated and enters restore mode.
At this time, the higher potential, that is, the potential of the bit line BL returns to Vcc . Therefore, the potential of node N1 is also
Return to V cc .

すなわち、第2図に示すように、対向電極の電
位OPが未だ0に近いにもかかわらず、ノードN1
の電位はVccとなり、キヤパシタC1の絶縁膜には
ほぼVccの電圧が印加されることになり、この結
果、その絶縁膜は破壊され得るという問題点があ
る。
That is, as shown in FIG. 2, although the potential OP of the counter electrode is still close to 0, the node N 1
The potential of the capacitor C1 becomes Vcc , and a voltage of approximately Vcc is applied to the insulating film of the capacitor C1.As a result, there is a problem that the insulating film may be destroyed.

本発明においては、Vccの立上り時に対向電極
の電位OPを迅速に立上らせるようにしているの
で、メモリセルのキヤパシタの絶縁膜の破壊を防
止できる。
In the present invention, since the potential OP of the counter electrode is quickly raised when Vcc rises, breakdown of the insulating film of the capacitor of the memory cell can be prevented.

第3図は本発明に係る半導体記憶装置の第1の
実施例を示す回路図である。第3図においては、
電位追随回路C1としてデプレツシヨン形トラン
ジスタQ12が付加されている。この結果、デプレ
ツシヨン形トランジスタQ12のしきい値電圧をVth
(d)とすれば、そのソース電位すなわち対向電極の
電位は|Vth(d)|まで上昇できる。Vccの規格値を
5Vとすれば、|Vth(d)|は製造プロセスによる変
動に対する余裕を見込んで、2.5Vよりやや小さ
い値、例えば2.0Vを目標とするように設計され
る。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. In Figure 3,
A depletion type transistor Q12 is added as a potential follower circuit C1 . As a result, the threshold voltage of depletion mode transistor Q 12 becomes V th
(d), the source potential, that is, the potential of the counter electrode, can rise to |V th (d)|. The standard value of V cc
If it is 5V, |V th (d)| is designed to aim for a value slightly smaller than 2.5V, for example, 2.0V, taking into account margins for variations due to the manufacturing process.

トランジスタQ12のサイズを十分大きくすれ
ば、第4図に示すように、電源電圧Vccが5Vに立
上るとほぼ同時に、トランジスタQ12のソース電
位すなわち対向電極の電位OPは|Vth(d)|の電
位、例えば2.0Vに立上る。従つて、メモリセル
のキヤパシタにVcc(=5V)がそのまま印加され
ることはない。分圧回路VDにより更に電位OP
が目標の2.5Vに向つてゆるやかに上昇して行き、
この段階ではトランジスタQ12はカツトオフす
る。かくすれば、電源立上り時は上述の如く電位
追随機能が達成され、他方、定常状態に至ればト
ランジスタQ12はカツトオフして対向電極電位OP
は抵抗R1,R2の比のみで定まる設定値となり、
これはプロセスの変動による影響をあまり受けな
いので、設計値通りの対向電極電位OPが容易に
達成できる。
If the size of the transistor Q12 is made sufficiently large, as shown in FIG. 4, the source potential of the transistor Q12 , that is, the potential OP of the counter electrode, will become |V th )| rises to 2.0V, for example. Therefore, Vcc (=5V) is not directly applied to the capacitor of the memory cell. Further potential OP by voltage divider circuit VD
gradually rises towards the target of 2.5V,
At this stage transistor Q12 is cut off. In this way, when the power is turned on, the potential tracking function is achieved as described above, and on the other hand, when the steady state is reached, the transistor Q12 is cut off and the counter electrode potential OP
is the set value determined only by the ratio of resistors R 1 and R 2 ,
Since this is not significantly affected by process variations, the counter electrode potential OP as designed can be easily achieved.

第5図は本発明に係る半導体記憶装置の第2の
実施例を示す回路図である。第5図においては、
電位追随回路C2として、エンハンスメント形ト
ンランジスタQ13、抵抗R3,R4が設けられてい
る。そして、抵抗R3,R4は分圧回路VD′を形成
し、その値は分圧回路VDの抵抗R1,R2と同様に
大きく設定される。しかしながら、分圧回路VD
の出力の立上り時定数は抵抗R1と対向電極の容
量により基本的に決定されるのに対し、分圧回路
VD′の出力の立上り時定数は抵抗R3とトランジス
タQ13のゲート容量により基本的に決定されるの
で前記立上り時定数より小さく、従つて、ノード
N5の電位は第6図に示すごとく比較的早く立上
る。この結果、対向電極の電位OPも早く立上る。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In Figure 5,
An enhancement type transistor Q 13 and resistors R 3 and R 4 are provided as the potential tracking circuit C 2 . The resistors R 3 and R 4 form a voltage dividing circuit VD', and the value thereof is set to be large like the resistors R 1 and R 2 of the voltage dividing circuit VD. However, the voltage divider circuit VD
The rise time constant of the output of is basically determined by the resistor R 1 and the capacitance of the counter electrode, whereas the voltage divider circuit
The rise time constant of the output of VD′ is basically determined by the resistor R 3 and the gate capacitance of the transistor Q 13 , and is therefore smaller than the rise time constant.
The potential of N5 rises relatively quickly as shown in FIG. As a result, the potential OP of the counter electrode also rises quickly.

なお、第5図においては、トランジスタQ13
エンハンスメント形であるので、R3=R4とする
と、対向電極の電位OPはトランジスタQ13のしき
い値電圧分だけノードN5の電位より低い値に追
随することになる。従つて、このようなしきい値
電圧分の電圧降下を補償するためには、抵抗R3
の値を抵抗R4の値より小さく設定すればよい。
電源立上り完了後の定常状態では、補助の分圧回
路VD′の出力電位からトランジスタQ13のしきい
値電圧分を差引いた電位は、前記実施例と同様、
本来の分圧回路VDの定常状態出力電位よりやや
低く設計し、トランジスタQ13の特性バラツキの
影響を避けることができる。
Note that in FIG. 5, the transistor Q 13 is of the enhancement type, so if R 3 = R 4 , the potential OP of the counter electrode is a value lower than the potential of the node N 5 by the threshold voltage of the transistor Q 13 . will be followed. Therefore, in order to compensate for such a voltage drop corresponding to the threshold voltage, resistor R 3
It is sufficient to set the value of R4 to be smaller than the value of resistor R4 .
In the steady state after the power supply has been turned on, the potential obtained by subtracting the threshold voltage of the transistor Q13 from the output potential of the auxiliary voltage divider circuit VD' is as in the previous embodiment.
It is designed to be slightly lower than the steady state output potential of the original voltage divider circuit VD, thereby avoiding the influence of variations in the characteristics of the transistor Q13 .

第7図は本発明に係る半導体記憶装置の第3の
実施例を示す回路図である。第7図においては、
第5図に対してキヤパシタC5,C6を付加してあ
る。つまり、キヤパシタC5,C6の容量結合によ
つてノードN5の電位を立上がらせている。この
場合には、抵抗R3,R4はキヤパシタC5,C6の補
助手段として作用する。つまり、キヤパシタC5
C6によるノードN5の電位の上昇を抵抗R3,R4
よつて安定化させている。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In Figure 7,
Capacitors C 5 and C 6 have been added to FIG. 5. In other words, the potential of node N5 is raised by capacitive coupling between capacitors C5 and C6 . In this case, resistors R 3 , R 4 act as auxiliary means for capacitors C 5 , C 6 . That is, capacitor C 5 ,
The rise in the potential of node N5 due to C6 is stabilized by resistors R3 and R4 .

発明の効果 以上説明したように本発明によれば、対向電極
電位OPをVccに迅速に追随させることができるの
で、電源投入時にあつて読出し動作が行われて
も、キヤパシタの絶縁膜には過度の電圧が印加さ
れることがなく、従つて、絶縁膜の破壊は防止で
きる。
Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, the counter electrode potential OP can quickly follow Vcc , so even if a read operation is performed when the power is turned on, the insulating film of the capacitor is Excessive voltage is not applied, so breakdown of the insulating film can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の半導体記憶装置を示す回路図、
第2図は第1図の装置の回路動作を説明するため
のタイミング図、第3図は本発明に係る半導体装
置の第1の実施例を示す回路図、第4図は第3図
の装置の回路動作を説明するためのタイミング
図、第5図は本発明に係る半導体記憶装置の第2
の実施例を示す回路図、第6図は第5図の装置の
回路動作を説明するためのタイミング図、第7図
は本発明に係る半導体記憶装置の第3の実施例を
示す回路図である。 Vcc:第1の電源供給手段、Vss(=0):第2の
電源供給手段、WL1,WL2:ワード線、BL,
BL:ビツト線、VD:第1の分圧手段、VD′:第
2の分圧手段、C1,C2,C3,C4:電位追随手段、
Q12:デプレツシヨン形トランジスタ、Q13:エ
ンハンスメント形トランジスタ、C5,C6:キヤ
パシタ。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device.
2 is a timing diagram for explaining the circuit operation of the device shown in FIG. 1, FIG. 3 is a circuit diagram showing the first embodiment of the semiconductor device according to the present invention, and FIG. 4 is the device shown in FIG. 3. FIG. 5 is a timing diagram for explaining the circuit operation of the semiconductor memory device according to the present invention.
6 is a timing diagram for explaining the circuit operation of the device in FIG. 5, and FIG. 7 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. be. Vcc : first power supply means, Vss (=0): second power supply means, WL1 , WL2 : word line, BL,
BL: bit line, VD: first voltage dividing means, VD': second voltage dividing means, C 1 , C 2 , C 3 , C 4 : potential following means,
Q 12 : Depletion type transistor, Q 13 : Enhancement type transistor, C 5 , C 6 : Capacitor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 第1、第2の電源電位供給手段、複数のワー
ド線、複数のビツト線、該ビツト線と前記ワード
線との交差点に設けられた1トランジスタ1キヤ
パシタ形メモリセル、前記第1、第2の電源電位
供給手段の供給電位差を抵抗分割した電位を出力
して前記メモリセルの対向電極に印加する第1の
抵抗分圧手段、前記第1の電源電位の立上り時に
前記第1の抵抗分圧手段の出力電位の立上りを一
時的に補助する手段を具備したことを特徴とする
半導体記憶装置。 2 前記電位追随手段がデプレツシヨン形トラン
ジスタを具備し、該トランジスタが、前記第1の
電源電位供給手段に接続されたドレイン、前記第
2の電源電位供給手段に接続されたゲート、およ
び前記第1の抵抗分圧手段の出力に接続されたソ
ースを有する特許請求の範囲第1項に記載の半導
体記憶装置。 3 前記電位追随手段が、前記第1の電源電位供
給手段に接続されたドレインと前記第1の抵抗分
圧手段の出力に接続されたソースとを有するエン
ハンスメント形トランジスタ、および前記第1、
第2の電源電位供給手段の供給電位差を分割して
前記エンハンスメント形トランジスタのゲートに
印加する第2の抵抗分圧手段を具備する特許請求
の範囲第1項に記載の半導体記憶装置。 4 前記第2の抵抗分圧手段が直列接続された少
なくとも2つの抵抗を具備し、さらに前記電位追
随手段が前記各抵抗に並列接続されたキヤパシタ
を具備する特許請求の範囲第3項に記載の半導体
記憶装置。 5 前記第2の抵抗分圧手段が直列接続された少
なくとも2つの抵抗を具備し、さらに前記電位追
随手段が、前記第2の電源電位供給手段に接続さ
れた前記抵抗の1つに接続され前記エンハンスメ
ント形トランジスタのしきい値電圧を補償するし
きい値補償手段を具備する特許請求の範囲第3項
に記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. First and second power supply potential supply means, a plurality of word lines, a plurality of bit lines, a one-transistor, one-capacitor type memory cell provided at the intersection of the bit line and the word line, a first resistive voltage dividing means for outputting a potential obtained by resistively dividing the supply potential difference between the first and second power supply potential supply means and applying it to the opposing electrode of the memory cell; A semiconductor memory device comprising means for temporarily assisting the rise of the output potential of the first resistance voltage dividing means. 2. The potential following means includes a depletion type transistor, and the transistor has a drain connected to the first power supply potential supply means, a gate connected to the second power supply potential supply means, and a depletion type transistor that has a drain connected to the first power supply potential supply means, and a gate connected to the second power supply potential supply means. The semiconductor memory device according to claim 1, having a source connected to the output of the resistive voltage dividing means. 3. The potential following means is an enhancement type transistor having a drain connected to the first power supply potential supply means and a source connected to the output of the first resistive voltage dividing means, and the first,
2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising second resistive voltage dividing means for dividing the supply potential difference of the second power supply potential supply means and applying the divided voltage to the gate of the enhancement mode transistor. 4. The method according to claim 3, wherein the second resistive voltage dividing means comprises at least two resistors connected in series, and the potential following means further comprises a capacitor connected in parallel to each of the resistors. Semiconductor storage device. 5. The second resistive voltage dividing means includes at least two resistors connected in series, and the potential following means is connected to one of the resistors connected to the second power supply potential supply means, and the potential following means is connected to one of the resistors connected to the second power supply potential supply means. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising threshold compensation means for compensating the threshold voltage of the enhancement mode transistor.
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